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[实用新型]一种丝印网版曝光定位装置-CN202120087758.9有效
发明人：陈忠厚;陈宏隆;华匀;薛旭 -专利权人：昆山明宝滕纳米科技有限公司
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种丝印网版曝光定位装置，涉及印刷技术领域。所述丝印网版曝光定位装置包括：安装板；夹持机构，所述夹持机构与安装板连接，通过夹持机构实现安装板与外部曝光设备壳体的连接；连接杆机构，所述连接杆机构与安装板连接，且连接杆机构包括滑杆、锁紧螺栓和滑套，所述安装板连接有滑杆，滑杆滑动连接在滑套内，且滑套螺纹连接有用于将滑杆锁紧在滑套内的锁紧螺栓；丝印网版固定机构，所述丝印网版固定机构通过连接板与滑套连接。本实用新型提供的丝印网版曝光定位装置具有使用灵活性高且适用范围广的优点。
一种丝印曝光定位装置

[发明专利]曝光装置-CN200680013662.6无效
发明人：白石雅之 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-05-15 - 公布日： 2008-04-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种曝光装置，可准确把握由光的照射热而引起的光学系统的特性变动。本曝光装置是以自光源(1a)射出的光对被曝光物(7)进行曝光的曝光装置，其特征在于包括检测上述光的非曝光波长成分的光量的检测机构(12、13、9)。因此，即使曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量单独变动，亦可准确把握由光学系统的照射热引起的特性变动。其结果，亦可实现高性能的镜片调整系统。
曝光装置

[发明专利]一种应用于PCB制造串接直流式曝光装置及工艺流程-CN201810048664.3在审
发明人：刘峰;詹泽军 -专利权人：东莞市多普光电设备有限公司
申请日： 2018-01-18 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于PCB制造串接直流式曝光装置及工艺流程，减少对人力的依赖及场地受限之困扰。本发明包括有前处理模块，前处理模块后面依次连接涂布线/压膜线模块、串接直流式曝光模块、蚀刻线模块；PCB制造板在经过前处理模块时清洁板面氧化等杂物，进而经过涂布线/压膜线模块时在其表面涂上一层膜，PCB制造板进入串接直流式曝光模块进行影像转移，最终进入蚀刻线模块时对未曝光区域冲洗及蚀刻，完成线路和间距。本发明的串接直流式曝光工艺流程为多台全自动曝光机串接一起，搭配辅助升降机构、移载机构，完成多台机同步曝光，场地空间缩减使得美观，且因前后设备与全自动曝光机主体连线设计，减少了人工搬运及台车等治工具的成本
串接直流式前处理模块工艺流程全自动曝光机曝光模块曝光装置蚀刻线涂布线压膜线辅助升降机构蚀刻未曝光区域场地空间场地受限清洁板面人工搬运同步曝光依次连接移载机构影像转移连线台车台机冲洗搭配应用杂物美观曝光

[发明专利]一种改进型Micro-LED芯片制备用曝光系统-CN202211031716.9在审
发明人：唐素敏;王勇文 -专利权人：星源电子科技（深圳）有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及芯片制造装置领域，公开了一种改进型Micro‑LED芯片制备用曝光系统，包括暗箱，其内部设置有处理腔、曝光腔、加固腔、收料腔和原料腔；预处理装置，其位于处理腔内，进行预处理；曝光装置，其位于曝光腔内，进行曝光；收料辊，其位于收料腔内；基板，其依次贯穿处理腔、曝光腔、加固腔和收料腔后与收料辊相连接；动力箱，其固定连接在暗箱的一侧，其内部连接有动能机构，所述曝光装置、收料辊均与动能机构相连接，本发明通过区域性的周期性用水，使得整体的水环境较为稳定，保证曝光的质量，减少整体的用水量，降低整体的生产成本减少搬运等过程中，降低破损率，进一步的降低整体的成本。
一种改进型 micro led 芯片制备曝光系统

[发明专利]X射线照相法探伤自动换片机构及自动换片方法-CN201310650250.5有效
发明人：王立晨;李砚涛;王东宇;任海东 -专利权人：北京固鸿科技有限公司
申请日： 2013-12-06 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及X射线照相法探伤自动换片机构及自动换片方法。所述自动换片机构包括：在胶片安装工位处的第一机器人组件；在胶片曝光工位处的第二机器人组件；以及在胶片安装工位与胶片曝光工位之间的输送装置。第一机器人组件能够将安放有未曝光胶片的胶片固持装置放置到输送装置的适当位置处。输送装置能够将胶片固持装置在胶片安装工位和胶片曝光工位之间进行输送。第二机器人组件能够从输送装置取出胶片固持装置以将未曝光的胶片进行曝光并且在曝光后将胶片固持装置放置到输送装置上。第一机器人组件还能够从输送装置中取回含已曝光的胶片的胶片固持装置放置到指定位置。
射线照相探伤自动机构方法

[发明专利]一种平滑微透镜结构表面的制备方法-CN202110265370.8有效
发明人：黄胜洲;谢芳琳;王雷;王风涛;韦山;吴中平;孙家乐 -专利权人：安徽工程大学
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种平滑微透镜结构表面的制备方法，应用于平滑微透镜结构表面的制备系统，所述制备系统包括：曝光光源，沿曝光光线照射方向顺次设置有匀光准直元件、DMD芯片、投影物镜以及三维精密平台，还包括机械振动辅助机构，用于驱动所述投影物镜产生正弦振动或余弦振动；其中，所述制备方法包括：开启曝光光源，产生曝光光线，匀光准直元件用于将曝光光线处理为均匀光束，投影物镜将所述均匀光束聚焦至三维精密平台的精准曝光位置，以在工件表面生成曝光图形；开启机械振动辅助机构，驱动所述投影物镜产生正弦振动或余弦振动，以模糊DMD像素间隙，消除曝光图形的像素量化误差；使用显影液对微透镜结构图形进行显影。
一种平滑透镜结构表面制备方法

[发明专利]基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置-CN200710101081.4无效
发明人：金山幸司;茂森和士;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。
处理方法系统以及装置

[发明专利]曝光装置及器件制造方法-CN200510062563.4无效
发明人：是永伸茂;西邑直亮 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：由于基板载置台在曝光位置和处理位置之间移动后，必须在光轴方向进行查找等的基准对位，所以，曝光或处理的开始被推迟。为了解决该问题，本发明的曝光装置，包括；将图形在基板上曝光的曝光用光学系统；在离开前述曝光用光学系统的位置上、对前述基板进行规定的处理的基板处理系统；沿着与前述曝光用光学系统的光轴垂直的平面移动的基板载置台；以及，计测机构，该计测机构在前述基板载置台从前述基板处理系统下方向前述曝光用光学系统下方移动的期间内，在前述基板载置台的移动的整个范围内连续地计测前述基板载置台在前述光轴方向的位置。
曝光装置器件制造方法

[实用新型]X 射线照相法探伤自动换片机构-CN201320795610.6有效
发明人：王立晨;李砚涛;王东宇;任海东 -专利权人：北京固鸿科技有限公司
申请日： 2013-12-06 - 公布日： 2014-11-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及X射线照相法探伤自动换片机构。所述自动换片机构包括：在胶片安装工位处的第一机器人组件；在胶片曝光工位处的第二机器人组件；以及在胶片安装工位与胶片曝光工位之间的输送装置。第一机器人组件能够将安放有未曝光胶片的胶片固持装置放置到输送装置的适当位置处。输送装置能够将胶片固持装置在胶片安装工位和胶片曝光工位之间进行输送。第二机器人组件能够从输送装置取出胶片固持装置以将未曝光的胶片进行曝光并且在曝光后将胶片固持装置放置到输送装置上。第一机器人组件还能够从输送装置中取回含已曝光的胶片的胶片固持装置放置到指定位置。
射线照相探伤自动机构

[实用新型]一种应用于PCB制造串接直流式曝光装置-CN201820084541.0有效
发明人：詹泽军;刘峰 -专利权人：东莞市多普光电设备有限公司
申请日： 2018-01-18 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种应用于PCB制造串接直流式曝光装置，减少对人力的依赖及场地受限之困扰。本实用新型包括有前处理模块，前处理模块后面依次连接涂布线/压膜线模块、串接直流式曝光模块、蚀刻线模块；PCB制造板在经过前处理模块时清洁板面氧化等杂物，进而经过涂布线/压膜线模块时在其表面涂上一层膜，PCB制造板进入串接直流式曝光模块进行影像转移，最终进入蚀刻线模块时对未曝光区域冲洗及蚀刻，完成线路和间距。本实用新型的串接直流式曝光工艺流程为多台全自动曝光机串接一起，搭配辅助升降机构、移载机构，完成多台机同步曝光，因前后设备与全自动曝光机主体连线设计，减少了人工搬运及台车等治工具的成本。
串接直流式本实用新型前处理模块全自动曝光机曝光模块曝光装置蚀刻线涂布线压膜线辅助升降机构蚀刻未曝光区域场地受限清洁板面人工搬运同步曝光依次连接移载机构影像转移工艺流程连线台车台机冲洗搭配应用杂物曝光

[实用新型]一种曝光机紫外曝光灯的新型安装结构-CN202022542396.6有效
发明人：朱海光 -专利权人：无锡仁景光电科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型属于曝光及其设备领域，提供了一种曝光机紫外曝光灯的新型安装结构，包括灯管主体和抬高夹具，灯管主体的下端为电极部分，灯管主体的外侧面在电极部分的顶端设置有安装环；抬高夹具与设备台座固定连接，抬高夹具的内侧设置有用于托住安装环的承托结构和用于固定灯管主体的锁紧结构本实用新型提供的曝光机紫外曝光灯的新型安装结构，增设抬高夹具使曝光灯的灯管安装环不与设备台座接触，避开设备台座上的定位机构或限位机构，从而使曝光灯具备通用性，配合抬高夹具能够适配多种曝光机的设备台座。
一种曝光紫外新型安装结构

[发明专利]一种DMD六自由度调节机构及胶片曝光光机系统-CN202311016036.4在审
发明人：高文宏;纪连群;程波涛 -专利权人：江苏镭创高科光电科技有限公司
申请日： 2023-08-14 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种DMD六自由度调节机构及胶片曝光光机系统。本发明所述的DMD六自由度调节机构及胶片曝光光机系统可实现DMD的六自由度的调节，实现DMD与成像镜头的精准对位，保证了成像质量；同时结构紧凑，调节方便并且可快速复位进行重复调节，有效的解决了胶片曝光光机在胶片曝光平台上组装时DMD的调节问题，提高了DMD的位置调节的效率，保证了数字胶片曝光光机高分辨率的成像质量。
一种 dmd 自由度调节机构胶片曝光系统

[实用新型]全自动双面曝光机-CN200920216232.5有效
发明人：张鸿明 -专利权人：川宝科技股份有限公司
申请日： 2009-09-18 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种全自动双面曝光机，包括：机台，于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区；入料移载装置跨设于机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方；第一曝光装置设置于机台的第一面曝光区，而以搭配有升降机构的第一顶升平台；一下降翻板装置设置于机台的下降翻板区；上升供板装置设置于机台的上升供板区；出料移载装置跨设于机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方；第二曝光装置设置于机台的第二面曝光区，而以搭配有升降机构的第二顶升平台；单光源曝光模组设置于机台的上方且与各工作区位于同一轴线上。
全自动双面曝光

[发明专利]曝光装置-CN201380034890.1有效
发明人：桥本和重;新井敏成;富冢吉博 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2013-03-29 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，其使用多个短尺寸灯作为光源，并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有：搬送部(2)，向搬送方向搬送被曝光体(11)；及光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31)，光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行，且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向，各光源曝光装置(100)具有摆动机构(56b)，所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。
被曝光体曝光装置光源偏光器光照射单元摆动机构方向相对光照射部配置长边棒状光源方向交叉方向平行间隔排列倾斜方向搬送部长度比偏振轴摆动照度平行曝光

[发明专利]校准系统及描画装置-CN201980072514.9在审
发明人：菅原雅史 -专利权人：英视股份有限公司
申请日： 2019-09-26 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：校准系统包括：曝光头支承部，以曝光时曝光用的光束入射至基板上的预定的曝光区域的方式支承曝光头；传感器单元，包括光传感器；传感器单元支承部，曝光时，以光传感器的受光面与上述曝光区域中的曝光面平行的方式支承传感器单元，并相对于曝光头支承部能够滑动地安装；移动机构，使曝光头支承部及传感器单元支承部移动；以及控制部，控制部通过在校准时使曝光头支承部及传感器单元支承部移动，将光传感器的受光面配置在与从曝光头射出的光束曝光时入射的曝光面对应的位置
校准系统描画装置