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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法-CN202111301066.0在审
发明人：陈新来 -专利权人：上海至临半导体技术有限公司
申请日： 2021-11-04 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法，其中，湿法设备包括：存放机构，存放机构内放置有晶圆片；第一传输机构，第一传输机构设置于存放机构的一侧；清洗模组，清洗模组设置于第一传输机构远离存放机构的一侧；干燥模组，干燥模组设置于第一传输机构远离存放机构的一侧，干燥模组和清洗模组相正对设置；第二传输机构，第二传输架构设置于清洗模组与干燥模组之间，且第二传输机构的一端靠近第一传输机构设置。通过对本发明的应用，提供了一种可以稳定高效对晶圆片进行清洗干燥的设备，利用该设备可以实现与晶圆清洗的湿法工艺的结合，确保晶圆在转运过程中的稳定和高效，进一步提高了晶圆的生产效率，保障了晶圆的清洗干燥质量
一种用于临界清洗湿法设备及其工作方法

[发明专利]晶圆防脱落装置-CN201811617047.7有效
发明人：边晓东;高津平;刘豫东;孙国锋;周立庆;谢珩 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆防脱落装置，涉及晶圆清洗设备的技术领域。晶圆防脱落装置包括片盒固定架、转动组件和驱动组件；片盒固定架内用于固定待清洗的晶圆；片盒固定架连接在转动组件的一端，驱动组件连接在转动组件的另一端；驱动组件能够驱动转动组件旋转，使转动组件带动片盒固定架倾斜解决了晶圆在槽式设备内固定，清洗浸泡时，晶圆在自身浮力的作用下容易脱离晶圆片盒，造成晶圆损坏的问题。本发明通过驱动组件带动转动组件，便于晶圆放入片盒固定架，转动组件控制挡板部对开口端进行封闭，确保晶圆的位置牢固。
晶圆防脱落装置

[实用新型]一种化学机械抛光平坦化晶圆传输设备-CN201920832611.0有效
发明人：李苍;顾静然 -专利权人：杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2019-06-04 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光平坦化晶圆传输设备，该化学机械抛光平坦化设备包括至少一套晶圆抛光传输机械手；所述晶圆抛光传输机械手包括：水平传动机构、垂直传动机构及晶圆抓取装置；在所述晶圆抓取装置水平直线运动方向上的活动范围内布置有抛光中转台、清洗中转台及抛光装载台。本实用新型所提供的化学机械抛光平坦化晶圆传输设备可以将晶圆在抛光中转台、抛光装载台及清洗中转台之间直接传输，由于无需中转，减少了晶圆的中转次数，缩短了晶圆传输时间，提高了传输效率，减少晶圆因传输产生损坏的概率
一种化学机械抛光平坦化晶圆传输设备

[实用新型]一种水封清洗机构及晶圆清洗设备-CN202320094292.4有效
发明人：左国军;邱瑞;陈雷;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水封清洗机构及晶圆清洗设备，所述水封清洗机构包括：水槽，所述水槽中容纳有清洗液；横移机构，位于所述水槽的一侧，用于带动晶圆盒在所述清洗液内横向移动；升降机构，位于所述水槽的另一侧，并与所述横移机构相对设置，用于带动晶圆盒进行升降动作；所述水封清洗机构可通过所述横移机构和所述升降机构实现所述晶圆盒在所述清洗液内的传送。与现有技术相比，本实用新型能够将晶圆盒下沉到水中，并在水中移动，从而将晶圆从清洁度不好的地方传输到清洁度好的地方，避免了晶圆二次污染的风险。
一种水封清洗机构设备

[发明专利]一种晶圆清洗方法和晶圆清洗设备-CN202210013373.7在审
发明人：皮孝东;张玺;王明华;张序清;朱如忠;杨德仁 -专利权人：浙江大学杭州国际科创中心
申请日： 2022-01-07 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆清洗方法和晶圆清洗设备，所述晶圆清洗方法包括利用二氧化碳的超临界流体和二氧化碳的气溶胶同时对晶圆表面进行冲洗，然后将晶圆表面的二氧化碳挥发成气态，使得冲洗的过程中有机物和颗粒污染物脱离晶圆表面，实现对晶圆表面的有机物和颗粒污染物的清洗。本发明利用压强或温度变化可使CO2完成在超临界流体、液体、气态、气溶胶不同形态转变的物理性质，将其引入晶圆清洗流程，替代传统RCA清洗剂SC1和SPM去除颗粒和有机物，突破了传统清洗方法超纯水使用量大、化学污染多、废料多、效率低的限制。
一种清洗方法设备

[发明专利]一种LED晶圆清洗夹具及清洗设备-CN202211074334.4在审
发明人：高兆林;殷玲;高梦涵;侯琳熙 -专利权人：福建久策气体股份有限公司
申请日： 2022-09-03 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本申请公开了一种LED晶圆清洗夹具及清洗设备，涉及LED晶圆生产制造技术领域，改善了无法均匀清理各个晶圆的问题，一种LED晶圆清洗夹具设置在LED晶圆清洗设备上，LED晶圆清洗设备包括反应釜，反应釜开设有容纳腔本申请能够均匀清理各个晶圆。
一种 led 清洗夹具设备

[实用新型]分架式晶圆清洗装置-CN201120200091.5有效
发明人：赵振伟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-06-14 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种分架式晶圆清洗装置，用于清洗晶圆，包括一对设置在晶圆两侧表面的第一晶圆清洗刷，还包括一对第二晶圆清洗刷，所述第二晶圆清洗刷也分别设置在所述晶圆的两侧表面，且所述第一晶圆清洗刷的轴心线靠近所述晶圆的中心部位，所述第二晶圆清洗刷的轴心线靠近所述晶圆的边缘部位。本实用新型通过增设一对轴心线靠近所述晶圆的边缘部位的第二晶圆清洗刷，可以重点清洗所述晶圆的边缘部位，实现对晶圆的全面、快速清洗。另，通过不同的马达分别带动所述第一晶圆清洗刷和所述第二清洗刷，从而可以实现第一晶圆清洗刷和第二晶圆清洗采用不同的转速进行刷洗工作，达到一组粗洗、一组精洗的目的，提高清洗效率。
架式清洗装置

[发明专利]可改善单片清洗固体结晶物堆积的装置及湿法清洗设备-CN202011631610.3有效
发明人：卢证凯;邓信甫;刘大威;陈丁堃 -专利权人：至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种可改善单片清洗固体结晶物堆积的装置及湿法清洗设备，所述装置包括清洗机构和用以带动清洗机构上下移动和在圆周方向旋转的顶升旋转机构，所述清洗机构包括套设在顶升旋转机构上的晶圆定位组件以及扣合固定在晶圆定位组件上的管件外壳，所述管件外壳内设置有晶圆吸附管和清洗液输送管。本发明利用伯努利原理使晶圆悬浮在该装置上方，可对清洗晶圆背面的污染物进行彻底清洗，提高了清洗效果，提高了清洗效率。
改善单片清洗固体结晶堆积装置湿法设备

[发明专利]转送晶圆输送盒的设备-CN202111534055.7在审
发明人：梁猛;赵凯;林海涛;李彬;陈玉林 -专利权人：上海世禹精密机械有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： B65G47/52 文献下载
摘要：本发明涉及一种转送晶圆输送盒的设备，用于在天车和水洗机之间转运晶圆输送盒，该设备包括箱体、设于所述箱体内的开盖机构和机械臂；箱体一侧设有用于和水洗机配合的窗口，另有一侧的外部设置有两个上下料载台，所述箱体内设置有待清洗仓储区和完成清洗仓储区，待清洗仓储区和完成清洗仓储区均设置有多个晶圆输送盒存放工位；开盖机构用于和机械臂配合开启晶圆输送盒；机械臂前端设有用于夹持所述盒体和盖体的夹持机构。其优点是：本机构配合晶圆输送盒水洗机工作，其全自动智能运行，大幅减少人力、速度快、效率高、减少了清洗晶圆输送盒后再次污染晶圆输送盒的可能。并且有晶圆输送盒的仓储区，适应水洗机的工作原理。
转送输送设备

[实用新型]一种晶圆用高温药液清洗设备-CN202022977996.5有效
发明人：余涛;朴灵绪;郭巍 -专利权人：若名芯半导体科技（苏州）有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆用高温药液清洗设备，包括清洗室，清洗室内具有腔体，承载台可转动的设于腔体内；多个卡盘销设于承载台上，用于夹持晶圆；定位盘设置在承载台，且定位盘位于晶圆的下方；下加热板可转动设于定位盘内，且下加热板可升降的设于定位盘和晶圆之间，下加热板上开有进液口和排液口；第一喷嘴和第二喷嘴可上下移动的设于下加热板的下方，当下加热板转动时，进液口与第一喷嘴或第二喷嘴相通；多个第三喷嘴设于晶圆的上方，本实用新型的晶圆用高温药液清洗设备，可以满足在常温状态下对晶圆清洗的臭氧和氟酸等药液，也可以满足磷酸和硫酸等需要在高温状态状态下才能更好的将晶圆上的SiN等颗粒去除的需求。
一种晶圆用高温药液清洗设备

[实用新型]卡盘销和晶圆清洗设备-CN201820638970.8有效
发明人：金绍彤;许平康;方桂芹;黄仁德 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种卡盘销和晶圆清洗设备，所述卡盘销包括：主体；销元件，包括销体，所述销体位于所述主体上方；传动结构，与所述销元件连接，能够带动所述销元件相对于所述主体进行自转。所述卡盘销有利于提高晶圆清洗设备对晶圆的清洗效果。
卡盘晶圆清洗设备销元件销体本实用新型传动结构清洗效果自转晶圆

[实用新型]一种晶圆清洗设备的夹持机构-CN202123231198.9有效
发明人：陆先锋 -专利权人：无锡颂林达科技有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆清洗设备的夹持机构，属于夹持设备技术领域，包括工作台、晶圆夹持装置、底座板、翻转调节装置和升降装置，所述升降装置设有两个，两个所述升降装置对称设置在工作台上，所述翻转调节装置的两端固定连接在两个所述升降装置的一侧上，所述晶圆夹持装置设置在翻转调节装置上，所述底座板设置在翻转调节装置的下端且位于工作台的上方，所述底座板上设有污水流出槽，本装置能够在对晶圆夹持完成后，使得晶圆后续清洗过程中，无需将其从夹持设备上取下，通过将晶圆翻转，便可实现对晶圆的两面进行清洗作业。
一种清洗设备夹持机构

[实用新型]一种半导体晶圆清洗设备-CN202221683232.8有效
发明人：田欢 -专利权人：北京博文合锋咨询有限公司
申请日： 2022-07-02 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体晶圆清洗设备，涉及半导体加工设备技术领域，包括清洗箱，清洗箱内部的下端焊接有网板，网板上表面的中部焊接有内部中空的半圆盘，半圆盘内部的均匀转动连接有多个辊轮，清洗箱内部的上端设置有用于对晶圆进行清洗的U型架，U型架内侧左右两面的中部均开设有多个喷淋口，清洗箱右侧面的下端安装有用于往U型架内输水的循环泵，清洗箱左侧面安装有加热罐和风机。通过U型架内侧左右两面的喷淋口能够分别朝晶圆的左右两面喷淋喷洗，并且在晶圆喷洗时，辊轮能够推动晶圆进行转动，而且在U型架对晶圆进行清洗时，电动缸能够推动U型架进行前后往复移动，以此能够扩大清洗范围，减少清洗死角
一种半导体清洗设备

[发明专利]晶圆清洗装置及晶圆清洗方法-CN201110247903.6有效
发明人：纪登峰 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2011-08-26 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法，其中晶圆清洗装置包括：托盘，所述托盘用于承载待清洗晶圆；设置于托盘上方的喷嘴，所述喷嘴在清洗待清洗晶圆时喷射清洗剂至晶圆表面；设置于托盘上方的矫正装置，所述矫正装置用于监测所述喷嘴喷射至所述晶圆表面的清洗剂的轨迹本发明提供的晶圆清洗装置清洗污染彻底，本发明提供的晶圆清洗方法清洗效果佳。
清洗装置方法

[发明专利]一种交错式晶圆表面湿法清洗系统及清洗方法-CN202011635615.3有效
发明人：邓信甫;刘大威;方超;陈丁堃 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种交错式晶圆表面湿法清洗系统及清洗方法，所述清洗系统包括晶圆承载机构及晶圆清洗机构，所述晶圆承载机构用于放置晶圆片，所述晶圆片固定在晶圆承载机构的表面并在晶圆承载机构的带动下转动；所述晶圆清洗机构包括第一清洗机构、第二清洗机构、第三清洗机构及第四清洗机构，所述第一清洗机构、第二清洗机构、第三清洗机构、第四清洗机构均设置于所述晶圆承载机构的外侧用于对所述晶圆片的表面进行清洗。本发明采用多种清洗溶液进行交错式清洗，各个清洗工序之间互不干扰，提升了晶圆片表面的清洗质量，保证了晶圆片的清洗效果。
一种交错式晶圆表面湿法清洗系统方法

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