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[实用新型]一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构-CN202320381449.1有效
发明人：江峰;廖世保;邓信甫;李盼盼;卢证凯 -专利权人：至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： F26B25/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及到一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构，所述支架结构包括有固定托架和分离托架，所述分离托架不接触地设置于固定托架的中部，所述固定托架上对称地设置有至少两个第一固定齿和至少两个第二固定齿，所述第一固定齿上设有平行的高齿条和低齿条，所述第二固定齿平行地布置于所述第一固定齿的内侧且位置低于所述低齿条，在所述分离托架上设置有分离齿，且所述分离齿可升降地设置于两个所述第二固定齿的中部，所述固定托架上的第一固定齿和第二固定齿构成支撑晶圆一次上升的六个固定支点，所述分离齿构成支撑晶圆二次上升单个固定支点。本实用新型的支架结构通过分段式支撑优化晶圆干燥过程，以解决干燥盲区和水痕问题。
一种提升干燥过程溶剂均匀分布支架结构

[发明专利]一种晶圆干燥装置及其干燥方法-CN202210101619.6有效
发明人： 邓信甫;徐铭;唐宝国 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至汇半导体应用技术有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： F26B9/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆干燥装置及其干燥方法，本发明通过在干燥槽体上盖合一个槽体顶盖，在干燥槽体内设置提升机构，利用提升机构将晶圆抬升至槽体顶盖，且在晶圆提升过程中，通过干燥模组对晶圆进行全方位、无死角干燥，不仅能够保证空间腔体内气氛控制与调节，也能够维持晶圆垂直移动的稳定性，对晶圆进行彻底干燥，提高了晶圆的干燥效率。
一种干燥装置及其方法

[发明专利]一种分段式流场控制的非接触晶圆边缘清洗装置-CN202310315566.2在审
发明人：唐宝国;张静;陈新来;周乾;邓信甫;卢证凯 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种分段式流场控制的非接触晶圆边缘清洗装置，晶圆承载平台的边缘圆周上布设多个空气动力组件，使晶圆处于悬浮状态，具有导流槽，喷流和固定槽，喷流管组件固定在固定槽，导流槽环绕固定槽，下压导流盖与导流槽、喷流管组件之间的间隙形成第一气流通道，从喷流管组件喷出的气流沿第一气流通道向晶圆的边缘部分喷出，导流槽的底部设置多个气流孔，从气流孔喷出的气流对从喷流管组件喷出的气流补强。非接触夹持晶圆不易损坏晶圆，有利于维持晶圆性能和品质，气流增强后防止清洗脏污进入晶圆的下表面，并改善晶圆边缘和承载平台边缘的颗粒等脏污，增强气流还辅助空气动力组件维持晶圆非接触状态的稳定化。
一种段式控制接触边缘清洗装置

[发明专利]一种适用于晶圆化学品蚀刻后的清洗方法-CN202111674369.7有效
发明人：陈新来;刘大威;邓信甫;唐宝国 -专利权人：至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于晶圆化学品蚀刻后的清洗方法，涉及到半导体技术领域，S1、提供晶圆，控制晶圆旋转，并向晶圆表面通入NMP溶剂和胺的混合溶液，同时并加载超声波；S2、超纯水清洗，通过雾化喷头向晶圆表面通入超纯水移除晶圆表面的NMP溶剂和胺的混合溶液；S3、向晶圆表面通入异丙醇，并在晶圆的表面覆盖一层纳米级异丙醇薄膜；S4、向晶圆的表面通入二氧化碳并进行干燥后取出晶圆。本发明中的晶圆化学品蚀刻后的清洗方法在通入混合溶液时并通入超声波，能够与晶圆表面的残留化学液和聚合物反应，然后再通入超纯水直接去除混合液，能够提高清洗效果和清洗效率，且能够降低清洗成本。
一种适用于化学品蚀刻清洗方法

[发明专利]一种晶圆的清洗方法-CN202111677796.0在审
发明人：廖世保;徐铭;邓信甫 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆的清洗方法，包括如下步骤：将待清洗的晶圆采用第一清洗液进行清洗，第一清洗液为氢氟酸和硝酸的混合溶液，晶圆在第一清洗液中的处理时间为10‑60分钟；将经过第一清洗液处理后的晶圆进行冲洗后，采用第二清洗液进行清洗，第二清洗液为氨水和双氧水的混合溶液，晶圆在第二清洗液中的处理时间为5‑15分钟；将经过第二清洗液处理后的晶圆进行炉管加热，以形成氧化层，降温后采用第三清洗液进行清洗，第三清洗液为氢氟酸和盐酸混合溶液，晶圆在第三清洗液中的处理时间为10‑20分钟；将经过第三清洗液处理后的晶圆用水进行清洗，干燥，结束清洗。本发明使晶圆表面的污染物拔除干净，并有效消除了除钨CMP工艺后晶圆表面的缺陷。
一种清洗方法

[发明专利]一种改善清洗剂残留的晶圆清洗装置-CN202310315220.2在审
发明人：张辉;陈新来;邓信甫;王奎;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： B08B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种改善清洗剂残留的晶圆清洗装置，晶圆承载平台，边缘设有夹持组件；导流板开设有导流槽；下压导流盖覆盖导流槽，下压导流盖与导流槽之间的间隙形成气流扩散通道和第一环形间隙，第一环形间隙的出气端朝向晶圆的边缘区域；导流板设置有穿孔和第一气流通道；夹持组件穿过穿孔并露出夹持头部，且和穿孔之间的间隙形成第二环形间隙；第一气流通道连通气流扩散通道和第二环形间隙。增强夹持组件靠近晶圆的区域的气流，加大清洗剂和脏污的吹送力度，防止晶圆和夹持组件附近的区域清洗剂和脏污残留。
一种改善洗剂残留清洗装置

[发明专利]一种湿法清洗设备防震动进液系统及方法-CN202011632278.2有效
发明人：卢证凯;邓信甫;刘大威;陈丁堃 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种湿法清洗设备防震动进液系统，包括安装框架、阀件固定板、加热器固定板，所述阀件固定板、所述加热器固定板均固定安装于所述安装框架上，所述阀件固定板安装于所述安装框架的两侧，所述加热器固定板安装于安装框架的顶部，所述调节电磁阀集成安装于所述阀件固定板上，所述加热器安装于所述加热器固定板上，所述过滤器设置于所述加热器的旁侧，所述介质输送泵安装于所述安装框架的底部并位于所述加热器与所述过滤器之间。本发明通过将各个阀门集成安装于阀门固定板上，将加热器安装于加热器固定板上，再将阀门固定板与加热器固定板安装在安装框体上，可以有效提高进液装置的安装稳定性，避免了液体介质在传输时产生气泡。
一种湿法清洗设备震动系统方法

[发明专利]一种晶圆盒输送装置-CN202310108712.4在审
发明人： 邓信甫;孔昊;卢证凯;陈新来;杨复 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至微半导体有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆盒输送装置，包括呈U型设置的备载区、中转区、导片区及晶圆侦测模组；晶圆侦测模组，包括光学侦测单元和波段侦测单元，光学侦测单元包括：至少一组接收集成组件和光源集成组件，每一组接收集成组件和光源集成组件分别位于晶圆盒承载位底部、对应镂空位置的两侧，且所述接收集成组件整体升降移动和/或旋转摆动，以接收并转向传导光线，所述光源集成组件整体升降移动和/或旋转摆动，以集成所述接收集成组件传导的光线，本发明提供的一种晶圆盒输送装置可对晶圆盒内晶圆进行的光学扫描，反应晶圆的实时状态。
一种晶圆盒输送装置

[发明专利]一种多通道流场控制的晶圆清洗装置-CN202310318249.6在审
发明人：周乾;张静;陈新来;唐宝国;邓信甫;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B08B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种多通道流场控制的晶圆清洗装置，晶圆承载平台，晶圆承载平台的边缘布设若干支撑晶圆的支撑组件；导流板，导流板上设置导流槽；下压导流盖，覆盖导流板，下压导流盖与导流槽之间的间隙形成气流走道，外部输入的气流经气流走道喷向晶圆的边缘部分；导流板上开设有与支撑组件一一对应的气流管道；气流管道的出气口靠近对应的支撑组件，外部输入的气流经气流管道的出气口吹向支撑组件。通过多通道设计，对夹持区域进行气流增强，吹走脏污，避免脏污残留。
一种通道控制清洗装置

[发明专利]一种优化摆动型马兰格尼干燥流场的干燥槽体结构-CN202310198523.0在审
发明人：江峰;蒋渊;李盼盼;邓信甫;卢证凯 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： F26B25/02 文献下载
摘要：本发明涉及到一种优化摆动型马兰格尼干燥流场的干燥槽体结构，该干燥槽体结构包括主体槽，为进行液体排放的带有缓坡的漏斗型主体结构；下沉式槽道，位于主体槽的底部中心，在其斜坡最低端设有排放孔；溢流槽，分别设置于主体槽的两侧，用以排出溢流的超纯水和异丙醇；负压腔，设置于溢流槽内，形成负压排风腔体；注入水管路，设置于下沉式槽道内，其上设有注入管排放孔。本发明的干燥槽体结构能够做到批量晶圆正反面的均匀超纯水浸润，并且形成垂直向的顺流牵引，避免产生紊乱绕流，利用负压排风腔体体来保证槽内IPA雾散布均匀，外部空气不会进入腔体内污染晶圆。
一种优化摆动马兰干燥结构

[发明专利]一种可提升晶圆干燥效能的液体张力控制方法-CN202211096522.7在审
发明人：蒋渊;廖世保;邓信甫;李盼盼;卢证凯 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及到一种可提升晶圆干燥效能的液体张力控制方法，包括：第一步，晶圆盒连接摆荡机构放入干燥槽体内，晶圆盒装载晶圆片，干燥槽体与上盖圆顶合并保持密合度，微量气体抽空；第二步，自上盖圆顶注入常温氮气，在干燥槽体内注入超纯水进行晶圆的表面润湿；第三步，晶圆片表面浸润完成，进行如下操作：S1：利用专用的集成模组向干燥槽体内注入异丙醇和加热氮气混合物，同时将超纯水从干燥槽体底部控速排放；S2：超纯水排放过程中操作摆荡机构携带晶圆片形成行星式摆荡，使晶圆片上的水分子加快脱离；第四步，重复完成晶圆干燥。本发明通过行星式弧形摆荡干燥技术使晶圆表面的残余水分加速带离，通过有效控制液体张力实现晶圆快速干燥。
一种提升干燥效能液体张力控制方法

[发明专利]一种晶圆侦测系统及方法-CN202310103146.8在审
发明人：廖世保;邓信甫;李盼盼;卢证凯;吕芳毅;陈新来 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至微半导体有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆侦测系统，采用光学与波段频谱波的结合建立全方位的光学与毫米波噪声扫描成像；包括：光学侦测单元，设置在相对晶圆移动路径的第一位置，用于对晶圆进行光学成像；波段侦测单元，设置在相对晶圆移动路径的第二位置，用于对晶圆进行波谱成像，侦测分析单元，与所述光学侦测单元和所述波段侦测单元信号连接，用于对光学成像信息和波谱成像信息进行侦测和运算分析，以实现对晶圆的侦测，获得晶圆的实时状态，本发明还提供了一种晶圆侦测方法，本发明提供的一种晶圆侦测系统可有效对晶圆盒的位置、移动速度和移动过程进行实时侦测侦测，同时可对晶圆盒与晶圆片三维位置或动作是否偏移、晶圆片是否发生破损进行实时侦测。
一种侦测系统方法

[发明专利]一种防回流的晶圆清洗装置-CN202310318515.5在审
发明人：周乾;蒋渊;唐宝国;邓信甫;陈新来 -专利权人：至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种防回流的晶圆清洗装置，包括：晶圆承载组件布设若干夹持组件，并开设导流槽；下压导流盖覆盖导流槽，形成气流扩散通道和第一环形间隙；下压导流盖的边缘部和晶圆承载组件之间的间隙形成缓冲气道；下压导流盖的边缘部设有若干气孔；外部输入的气流依次经过气流扩散通道、第一环形间隙、缓冲气道后，从气孔喷出。通过在第一环形间隙和气孔之间设置缓冲气道作为辅助气室，辅助气室容纳输出气流，具有持压作用，阻断虹吸路径，阻断气体回流的可能性。
一种回流清洗装置

[发明专利]一种解决马兰格尼干燥模组震动造成颗粒污染的优化装置-CN202310198534.9在审
发明人： 邓信甫;陆磊;吕芳毅;李盼盼;卢证凯 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： F26B25/02 文献下载
摘要：本发明涉及到一种解决马兰格尼干燥模组震动造成颗粒污染的优化装置，该优化装置包括有整体稳定性控制系统和干燥腔(1)的移动控制系统，所述整体稳定性控制系统包括有设置于脱水槽(3)底部的两组结合块，该两组结合块利用巨型螺栓可调节地固定在机台(0)的骨架(001)上，在所述骨架(001)上设有对应结合块的支点；所述移动控制系统包括有开盖机构(2)和调整杆组合(4)，在所述干燥腔(1)和脱水槽(3)之间设有开盖机构(2)以实现相位移动，所述开盖机构(2)与干燥腔(1)之间设有调整杆组合(4)。本发明的优化装置提高了大型较重干燥腔的支持稳定性，保证水平运动的平稳性，并能避免污染颗粒进入到干燥模组内。
一种解决马兰干燥模组震动造成颗粒污染优化装置

[发明专利]一种晶圆侦测模组及方法-CN202310099591.1在审
发明人：蒋渊;邓信甫;吕芳毅;刘传龙;卢证凯 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;合肥至微半导体有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆侦测模组，包括：晶圆盒承载平台，设置有若干中间镂空的晶圆盒承载位，用于承载晶圆盒；晶圆侦测装置，包括：接收集成组件和光源集成组件，所述接收集成组件和光源集成组件分别位于晶圆盒承载平台底部、对应镂空位置的两侧；其中，所述接收集成组件整体升降移动和/或旋转摆动，以接收并转向传导光线，所述光源集成组件整体升降移动和/或旋转摆动，以集成所述接收集成组件传导的光线，并通过所述镂空位置对晶圆盒内晶圆片进行的光学扫描，本发明还提供了一种晶圆侦测方法。本发明提供的一种晶圆侦测模组及方法可对晶圆盒与晶圆片三维位置或动作是否偏移、晶圆片是否发生破损进行侦测。
一种侦测模组方法

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