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[实用新型]一种上下料晶圆片篮传送装置-CN202320161415.1有效
发明人：左国军;饶相松;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体湿法清洗技术领域，具体涉及一种上下料晶圆片篮传送装置，具有：多个直线阵列的第一缓存位，多个所述第一缓存位用以放置片篮，初始位，所述初始位位于多个所述缓存位的一端；下料机构，所述下料机构位于多个所述第一缓存位的另一端；分离合并机构，所述分离合并机构位于多个所述第一缓存位的一侧，所述分离合并机构设有数个第二缓存位；传送机构，所述传送机构位于所述第一缓存位和所述分离合并机构之间，所述传送机构用以带动片篮在所述第一缓存位、所述初始位、所述下料机构、所述第二缓存位之间移动转载。
一种上下料晶圆片篮传送装置

[实用新型]一种水封清洗机构及晶圆清洗设备-CN202320094292.4有效
发明人：左国军;邱瑞;陈雷;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水封清洗机构及晶圆清洗设备，所述水封清洗机构包括：水槽，所述水槽中容纳有清洗液；横移机构，位于所述水槽的一侧，用于带动晶圆盒在所述清洗液内横向移动；升降机构，位于所述水槽的另一侧，并与所述横移机构相对设置，用于带动晶圆盒进行升降动作；所述水封清洗机构可通过所述横移机构和所述升降机构实现所述晶圆盒在所述清洗液内的传送。与现有技术相比，本实用新型能够将晶圆盒下沉到水中，并在水中移动，从而将晶圆从清洁度不好的地方传输到清洁度好的地方，避免了晶圆二次污染的风险。
一种水封清洗机构设备

[实用新型]一种快速排放槽-CN202223400062.0有效
发明人：左国军;陈雷;庄海云;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B08B3/10 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种快速排放槽包括：清洗槽、鼓泡组件、喷淋组件、快排阀以及锁止组件；所述清洗槽的底部开设有适于所述快排阀安装的排液管；所述锁止组件以及所述快排阀套设在所述排液管上，且所述锁止组件适于将所述快排阀固定在所述排液管上；所述鼓泡组件以及喷淋组件均设置在所述清洗槽的上方；所述鼓泡组件适于对清洗槽内的药液鼓氮气；所述喷淋组件适于对清洗槽内的待清洗物体进行喷淋清洗。通过设置大口径的底部排水接管与排水阀，可以快速排干槽内的清洗液。从而达到好的清洗效果。
一种快速排放

[实用新型]喷淋管及清洗设备-CN202223400559.2有效
发明人：左国军;陈雷;庄海云;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种喷淋管及清洗设备，其中，喷淋管，包括：管本体以及至少一个喷头；所述管本体的侧壁沿轴向开设有适于喷头安装的平槽；所述平槽沿所述管本体的径向向内开设有适于喷头螺纹连接的内螺纹孔；所述平槽还开设有与所述管本体内部空腔连通的喷水孔；所述喷头与所述喷水孔连通。通过在管本体的侧壁切削出一平槽，方便加工螺纹，使得管本体与喷头贴合的更加紧密，同时便于喷头的安装以及更换，简化装配喷头无需焊接，通过螺纹连接，减少制作周期，降低成本，在喷头损坏时，只需要对损坏的喷头进行更换，无需对整根喷头进行更换。
喷淋清洗设备

[实用新型]片盒数片机构及晶圆清洗设备-CN202123287374.0有效
发明人：龚泽熙;李雄朋;庄海云 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G06M1/272 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种片盒数片机构及晶圆清洗设备，其中片盒数片机构，包括：料台，安装在料台上的片盒，该片盒间隔设有多个晶圆槽；安装在料台上的定位件，该定位件设有与多个晶圆槽一一对应的定位结构；扫描装置，包括：计数传感器、定位传感器、驱动计数传感器和定位传感器同步运动的动力机构；定位传感器逐个扫描定位结构以确定扫描装置与晶圆槽的对应位置，计数传感器逐个扫描晶圆槽是否有晶圆。该片盒数片机构及晶圆清洗设备采用简单的传感器及其驱动结构，解决现有晶圆传感器结构可靠性问题并大幅节省设备成本，是一种数片计数及定位准确且可靠性高、返修少、故障率及成本低，尤其适合晶圆槽式半导体湿法清洗设备的上下料装置的数片作业。
片盒数片机构清洗设备

[实用新型]连接装置-CN202122376263.0有效
发明人：左国军;朱烨明;李雄朋;陈雷 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： F16L19/028 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种连接装置，用于连接第一管道与第二管道，包括：接头组件，接头组件的第一端用于与第一管道相连，接头组件的第二端用于与第二管道相连；第一锁紧件，套设于接头组件的第二端；接头组件与第一锁紧件之间留有间隙，第一锁紧件用于将第二管道夹紧于接头组件与第一锁紧件之间。通过在连接装置中设置第一锁紧和接头组件，使第一管道和第二管道通过连接装置相互连通。该连接装置仅通过第一锁紧件和接头组件即可实现两个管道的连接，减小了产品的外廓尺寸，进而减少产品占用的空间，并且采用的部件少，减少了连接装置所产生的粉尘或颗粒。该连接装置适用于多种尺寸及材质的管道，适用范围广。
连接装置

[实用新型]用于机械手抓手清洗的槽体结构以及清洗设备-CN202122570308.8有效
发明人：左国军;陈雷;成旭;李雄朋;申斌;谈丽文;邱瑞;饶相松 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B25J19/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了用于机械手抓手清洗的槽体结构以及清洗设备，槽体结构包括：底座、安装在底座上的至少一个清洗槽、以及设于清洗槽中的进水管，底座安装有对清洗槽进行水平调节的水平调节组件。清洗槽设有喷洗区，清洗时机械手抓手位于喷洗区中，进水管排布有若干个对准喷洗区的喷水口。清洗槽的槽口上方安装有吹气管组件，吹气管组件包括：排布有吹气口的两个吹气管，两个吹气管的吹气口相对设置，且两个吹气管之间设有间距形成允许机械手抓手活动穿过的干燥区。本实用新型可通过水平调节组件及时对清洗槽的水平状态进行调整，利用喷水口向抓手喷水以冲洗机械手抓手的残留药液，喷水压力大，清洗速度快且效果好。
用于机械手抓手清洗结构以及设备

[实用新型]机械手装置和清洗设备-CN202122610501.X有效
发明人：左国军;龚泽熙;李雄朋;庄海云 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提出了一种机械手装置和清洗设备，属于半导体清洗设备技术领域。机械手装置包括：机械手；拖链，设于机械手的一侧；以及线槽组件，设于拖链的底部，线槽组件包括：槽体；以及多个线槽盖板，线槽盖板与槽体可装卸地连接，沿槽体长度方向，多个线槽盖板依次设置，与槽体合围出线缆通道。通过本申请的技术方案，保护了机械手走线不被损坏，并可任意拆卸线槽盖板维护机械手及线路，提高了维修的便利性。
机械手装置清洗设备

[实用新型]均流装置及湿法清洗设备-CN202122209157.3有效
发明人：左国军;李雄朋;庄海云 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B01F25/452 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种均流装置及湿法清洗设备，其中均流装置包括：至少两根套设在一起的均流管，相邻两根均流管之间形成均流空间，每根均流管的侧壁上设有多个出液口，相邻均流管的出液口朝向相反。本实用新型解决了清洗液因为出液口孔径存在偏差或者清洗液有压力波动而导致的均匀性差的问题。因为本实用新型提及的均流装置含有均流空间，所以从最内层的均流管流出的不均匀的清洗液还能再次在均流空间中再混合，再从最外层均流管的出液口均匀的流入清洗槽，从而较好的解决清洗液均匀性差的问题。
装置湿法清洗设备

[实用新型]半导体清洗单元和半导体清洗设备-CN202122489262.7有效
发明人：左国军;邱瑞;成旭;李雄朋;陈雷;谈丽文;申斌 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种半导体清洗单元和半导体清洗设备，其中，半导体清洗单元包括：框架；封板，围设于框架上；隔槽，位于框架内，与封板或/和框架固定连接；清洗槽，至少部分清洗槽位于隔槽内。本实用新型提出的半导体清洗单元，包括框架、封板、隔槽和清洗槽，隔槽由于是单独加工的，其结构强度较高，并且，具有较高的密封性，即使有多个清洗槽，也可以通过增加隔槽或将隔槽划分为多个区域的形式实现清洗槽的安装，从而降低了半导体清洗单元的装配难度。并且，清洗槽的至少部分位于隔槽的内部，在清洗槽清洗半导体元件后的清洗液温度较高，在排出时，先通过隔槽缓冲，进而提升排液速度，并且降低清洗液的排出量过大而出现溢流等现象。
半导体清洗单元设备

[实用新型]半导体清洗设备的隔离装置和半导体清洗设备-CN202122489264.6有效
发明人：左国军;邱瑞;成旭;李雄朋;陈雷;谈丽文;申斌 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种半导体清洗设备的隔离装置和半导体清洗设备，半导体清洗设备的隔离装置包括：驱动模块，包括主体和活动部，主体用于驱动活动部移动；多个缓冲器，沿活动部的位移路径，分别位于活动部的第一侧和第二侧；挡板，与活动部相连接。本实用新型提出的半导体清洗设备的隔离装置，活动部可活动地设置在主体上，主体可驱动活动部移动，并且，活动部上设置有挡板，能够隔离两个清洗槽，进而在半导体清洗过程中，降低两个清洗槽之间酸气相互蹿动的可能，提升半导体洁净度和良品率，并且，可以通过活动部的运动，使得挡板不再间隔两个清洗槽，从而便于半导体在两个清洗槽之间的运输。
半导体清洗设备隔离装置

[实用新型]清洗槽和清洗装置-CN202122377057.1有效
发明人：左国军;陈雷;李雄朋;邱瑞;饶相松;龚泽熙 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种清洗槽和清洗设备，其中，清洗槽包括：槽体组件，槽体组件设有开口，内部具有腔体；第一挡板，设于槽体组件的开口一侧，并遮挡部分开口；第二挡板，设于槽体组件的开口一侧，与第一挡板相对设置，并遮挡部分开口；盖板组件，设于槽体组件开口处，盖板组件能够开启或闭合，其中，在盖板组件闭合时，盖板组件的至少部分位于第一挡板和第二挡板之间，以关闭开口。本实用新型提出的清洗槽，第一挡板和第二挡板可以针对槽体组件的结构，将结构复杂，无法设置可开合盖体组件的部分进行遮挡，增强第一挡板和盖板组件之间的密封性，增强第二挡板和盖板组件之间的密封性，减少了清洗槽开口处的缝隙，减少清洗液的蒸发量，节约成本。
清洗装置

[实用新型]半导体清洗设备-CN202122108950.4有效
发明人：左国军;龚泽熙;庄海云;李雄朋 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供了一种半导体清洗设备，包括：机架；多个处理槽，多个处理槽位于机架内；门组件，设于机架上，与机架活动连接；连接机构，包括电磁铁组件和吸附组件，电磁铁组件和吸附组件分别设于机架和门组件上，连接机构用于使门组件相对于机架处于开启或闭合状态；提示装置，设于门组件上，用于提示门组件的实时状态。通过本申请的技术方案，门组件能够在机架上实现自锁和解锁，可以防止人为疏漏，并且方便维护工作。
半导体清洗设备

[实用新型]自动气液分离供酸系统-CN202122096489.5有效
发明人：左国军;饶相松;成旭;李雄朋;陈雷;邱瑞;申斌 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B01F33/80 文献下载
摘要：本申请提出了一种自动气液分离供酸系统，属于半导体及泛半导体技术领域，自动气液分离供酸系统包括：药液桶，药液桶用于盛放液体；泵体，泵体的一端与药液桶连通；气液分离罐，与泵体的另一端连通，气液分离罐中设有网板，网板上设有通孔，其中，泵体用于抽取液体到气液分离罐中，网板用于打散液体中的气泡。通过本申请的技术方案，可自动过滤泵体抽空产生的气泡，不需要人干预，从而提高配液精度，进而改善工艺槽配液精度。
动气分离系统

[实用新型]载体摆动机构和处理设备-CN202120762605.X有效
发明人：左国军;申斌;饶相松;成旭;李雄朋;陈雷;任金枝 -专利权人：创微微电子（常州）有限公司;常州捷佳创精密机械有限公司
申请日： 2021-04-14 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种载体摆动机构和处理设备，其中载体摆动机构包括：摆动平台，摆动平台的底部设有摆动轴；动力组件；传动组件，传动组件的两端分别连接动力组件和摆动平台，动力组件用于通过传动组件带动摆动平台绕摆动轴摆动。本实用新型的技术方案中，动力组件能够通过传动组件驱动摆动平台摆动，即摆动平台能够相对处理槽进行摆动，放置在摆动平台上的待处理件可以按要求做往复的倾斜角度变化，使待处理件在处理槽内能够按预设方向倾斜，从而达到动态清洗的目的，这种方式可以在很大程度上消除清洗干燥死区，提升清洗效果及清洗效率。
载体摆动机构处理设备

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