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[实用新型]一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构-CN202320381449.1有效
发明人：江峰;廖世保;邓信甫;李盼盼;卢证凯 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： F26B25/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及到一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构，所述支架结构包括有固定托架和分离托架，所述分离托架不接触地设置于固定托架的中部，所述固定托架上对称地设置有至少两个第一固定齿和至少两个第二固定齿，所述第一固定齿上设有平行的高齿条和低齿条，所述第二固定齿平行地布置于所述第一固定齿的内侧且位置低于所述低齿条，在所述分离托架上设置有分离齿，且所述分离齿可升降地设置于两个所述第二固定齿的中部，所述固定托架上的第一固定齿和第二固定齿构成支撑晶圆一次上升的六个固定支点，所述分离齿构成支撑晶圆二次上升单个固定支点。本实用新型的支架结构通过分段式支撑优化晶圆干燥过程，以解决干燥盲区和水痕问题。
一种提升干燥过程溶剂均匀分布支架结构

[发明专利]一种晶圆花篮更迭装置-CN201911102815.X有效
发明人：庄海云;王雪松;李志峰;徐铭 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2019-11-12 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆花篮更迭装置，所述装置包括：导入移动机构，所述导入移动机构包括第一托架，所述第一托架上用来放置承载有晶圆的第一花篮，所述导入移动机构包括竖直方向的短程气缸，所述短程气缸的移动端与两排第一传感器连接，每列所述第一传感器朝向所述第一花篮上对应晶片装载位置；导片机构，所述导片机构包括顶升单元和夹持单元，所述夹持单元设置在所述顶升单元的上方，所述夹持单元能够自两侧夹持或者松开晶圆，所述顶升单元能够自底部托住晶圆；左侧托架；以及右侧托架。本发明的有益效果为全面性的侦测晶圆片与晶圆盒传递，达成对晶圆传递装置的有效控制与保障。
一种花篮更迭装置

[实用新型]一种用于晶圆清洗的细缝流道工艺卡盘-CN202223583666.3有效
发明人：杨嘉斌;丁立;廖世保 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司;上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2022-12-31 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于晶圆清洗的细缝流道工艺卡盘，卡盘主体，卡盘主体上设置有多个卡爪，卡爪用于对晶圆进行限位；主盘，固定在卡盘主体的上端面，副盘，覆盖主盘，与主盘之间的间隙形成气流走道，外部输入的气流从气流走道扩散至气流走道的出气口喷向晶圆的背面，使晶圆悬浮在卡盘的上方主盘上还设置多个气流管道，气流管道连通气流走道；气流管道与卡爪一一对应，气流管道的出气口对准卡爪。主盘机构和副盘之间间隙形成气流扩散走道，利用伯努利原理，使得晶圆处于悬浮状态，避免晶圆与零件的接触而被损坏，从而保证晶圆的品质，在卡爪处设置气孔，气流吹走卡爪周边的脏污，保证卡爪洁净性。
一种用于清洗细缝工艺卡盘

[实用新型]一种抗静电污染的晶圆清洗装置-CN202320646984.5有效
发明人：廖仁红;唐宝国;周乾;卢证凯 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种抗静电污染的晶圆清洗装置，包括：晶圆承载组件，其边缘布设若干沿圆周方向排列的用于对晶圆进行限位的夹持组件；夹持组件由导电材料制成，且与电源连接。通过将夹持组件采用导电材料，并与电源连接，在进行清洗时，接通电源，除去夹持组件和晶圆的静电荷，防止静电荷聚集，防止对晶圆的二次污染。
一种抗静电污染清洗装置

[发明专利]集成化晶圆干燥方法、系统、终端及存储介质-CN202211097031.4在审
发明人：廖世保;蒋渊;陈新来;卢证凯;李盼盼 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2022-09-08 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成化晶圆干燥系统，包括：晶圆摆荡模块，外挂于工艺槽体的一侧，用于在干燥过程中对晶圆进行摆荡运动；管路输送模块，与工艺槽体连接，用于向工艺槽体输送干燥介质；干燥控制模块，电性连接所述晶圆摆荡模块和管路输送模块，用于对干燥过程的工艺控制；所述管路输送模块包括：第一氮气输送管路和第二氮气输送管路；异丙醇输送管路，连接混合罐体，用于输送异丙醇；还涉及到集成化晶圆干燥方法、终端和计算机可读存储介质。本发明采取异丙醇与水分子两相错位式移动，实现张力的扩散和垂直方向的拉抬作用，对晶圆表面的有效干燥。
集成化干燥方法系统终端存储介质

[发明专利]一种分段式流场控制的非接触晶圆边缘清洗装置-CN202310315566.2在审
发明人：唐宝国;张静;陈新来;周乾;邓信甫;卢证凯 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种分段式流场控制的非接触晶圆边缘清洗装置，晶圆承载平台的边缘圆周上布设多个空气动力组件，使晶圆处于悬浮状态，具有导流槽，喷流和固定槽，喷流管组件固定在固定槽，导流槽环绕固定槽，下压导流盖与导流槽、喷流管组件之间的间隙形成第一气流通道，从喷流管组件喷出的气流沿第一气流通道向晶圆的边缘部分喷出，导流槽的底部设置多个气流孔，从气流孔喷出的气流对从喷流管组件喷出的气流补强。非接触夹持晶圆不易损坏晶圆，有利于维持晶圆性能和品质，气流增强后防止清洗脏污进入晶圆的下表面，并改善晶圆边缘和承载平台边缘的颗粒等脏污，增强气流还辅助空气动力组件维持晶圆非接触状态的稳定化。
一种段式控制接触边缘清洗装置

[发明专利]一种组合式非接触晶圆边缘清洗装置-CN202310333934.6在审
发明人：周乾;蒋渊;唐宝国;李盼盼;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种组合式非接触晶圆边缘清洗装置，晶圆承载平台包括分布在边缘的多个空气动力组件；导流平台，固定在晶圆承载平台上；空气动力组件的上端出气口以第一预定方向喷出气流使晶圆悬浮于导流平台的上方；导流平台内部产生气流走道，气流走道的出气口面向晶圆的边缘部分，气流经气流走道向晶圆的边缘部分喷出，以稳定空气动力组件喷出的气流。将晶圆清洗时通用的晶圆承载平台与一导流平台组装形成晶圆边缘清洗用承载装置，对晶圆进行非接触式夹持，有利于进行晶圆边缘的清洗工艺，节省开发成本，提高经济效益，并有利于维持晶圆的品质。
一种组合式接触边缘清洗装置

[发明专利]一种适用于晶圆化学品蚀刻后的清洗方法-CN202111674369.7有效
发明人：陈新来;刘大威;邓信甫;唐宝国 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于晶圆化学品蚀刻后的清洗方法，涉及到半导体技术领域，S1、提供晶圆，控制晶圆旋转，并向晶圆表面通入NMP溶剂和胺的混合溶液，同时并加载超声波；S2、超纯水清洗，通过雾化喷头向晶圆表面通入超纯水移除晶圆表面的NMP溶剂和胺的混合溶液；S3、向晶圆表面通入异丙醇，并在晶圆的表面覆盖一层纳米级异丙醇薄膜；S4、向晶圆的表面通入二氧化碳并进行干燥后取出晶圆。本发明中的晶圆化学品蚀刻后的清洗方法在通入混合溶液时并通入超声波，能够与晶圆表面的残留化学液和聚合物反应，然后再通入超纯水直接去除混合液，能够提高清洗效果和清洗效率，且能够降低清洗成本。
一种适用于化学品蚀刻清洗方法

[发明专利]一种晶圆的清洗方法-CN202111677796.0在审
发明人：廖世保;徐铭;邓信甫 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆的清洗方法，包括如下步骤：将待清洗的晶圆采用第一清洗液进行清洗，第一清洗液为氢氟酸和硝酸的混合溶液，晶圆在第一清洗液中的处理时间为10‑60分钟；将经过第一清洗液处理后的晶圆进行冲洗后，采用第二清洗液进行清洗，第二清洗液为氨水和双氧水的混合溶液，晶圆在第二清洗液中的处理时间为5‑15分钟；将经过第二清洗液处理后的晶圆进行炉管加热，以形成氧化层，降温后采用第三清洗液进行清洗，第三清洗液为氢氟酸和盐酸混合溶液，晶圆在第三清洗液中的处理时间为10‑20分钟；将经过第三清洗液处理后的晶圆用水进行清洗，干燥，结束清洗。本发明使晶圆表面的污染物拔除干净，并有效消除了除钨CMP工艺后晶圆表面的缺陷。
一种清洗方法

[发明专利]一种改善清洗剂残留的晶圆清洗装置-CN202310315220.2在审
发明人：张辉;陈新来;邓信甫;王奎;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： B08B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种改善清洗剂残留的晶圆清洗装置，晶圆承载平台，边缘设有夹持组件；导流板开设有导流槽；下压导流盖覆盖导流槽，下压导流盖与导流槽之间的间隙形成气流扩散通道和第一环形间隙，第一环形间隙的出气端朝向晶圆的边缘区域；导流板设置有穿孔和第一气流通道；夹持组件穿过穿孔并露出夹持头部，且和穿孔之间的间隙形成第二环形间隙；第一气流通道连通气流扩散通道和第二环形间隙。增强夹持组件靠近晶圆的区域的气流，加大清洗剂和脏污的吹送力度，防止晶圆和夹持组件附近的区域清洗剂和脏污残留。
一种改善洗剂残留清洗装置

[发明专利]一种湿法清洗设备防震动进液系统及方法-CN202011632278.2有效
发明人：卢证凯;邓信甫;刘大威;陈丁堃 -专利权人：上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种湿法清洗设备防震动进液系统，包括安装框架、阀件固定板、加热器固定板，所述阀件固定板、所述加热器固定板均固定安装于所述安装框架上，所述阀件固定板安装于所述安装框架的两侧，所述加热器固定板安装于安装框架的顶部，所述调节电磁阀集成安装于所述阀件固定板上，所述加热器安装于所述加热器固定板上，所述过滤器设置于所述加热器的旁侧，所述介质输送泵安装于所述安装框架的底部并位于所述加热器与所述过滤器之间。本发明通过将各个阀门集成安装于阀门固定板上，将加热器安装于加热器固定板上，再将阀门固定板与加热器固定板安装在安装框体上，可以有效提高进液装置的安装稳定性，避免了液体介质在传输时产生气泡。
一种湿法清洗设备震动系统方法

[实用新型]一种集多功能用途的马兰格尼干燥槽体-CN202320381442.X有效
发明人：陶明生;刘传龙;孔昊;陈新来 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： F26B9/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种集多功能用途的马兰格尼干燥槽体，其结构包括有干燥槽、脱水槽和开合机构，所述干燥槽利用开合机构可侧向移动地盖合在所述脱水槽上，所述干燥槽内的顶部设置有多根平行分布的喷管，在每根所述喷管上开有多个用以喷洒异丙醇雾气的喷孔，干燥槽内侧壁的相对侧分别设有上导向板；所述脱水槽上设有槽内进水管、快排水接口和排风口，在脱水槽内侧壁的相对侧设有下导向板；在脱水槽顶部的外侧还设有溢流进液结构。本实用新型的马兰格尼干燥槽体具有异丙醇液面稳定溢流、槽内气氛维持、封闭式腔体以及晶圆定位导向多种功能。
一种多功能用途马兰干燥

[实用新型]一种有效提高晶圆干燥能力的异丙醇气化装置-CN202320381451.9有效
发明人：陶明生;江峰;吕芳毅;陈新来 -专利权人： 至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： F26B5/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及到一种有效提高晶圆干燥能力的异丙醇气化装置，其包括有至少一组雾化器，每组雾化器内设有：反应腔，为容纳异丙醇和氮气气化反应的腔体；氮气进气管，从上部向反应腔内输入加热后的氮气；异丙醇注入管路，从底部向反应腔内注入异丙醇；气曝装置，为置于反应腔内的微孔石英结构，将注入的氮气与异丙醇反应雾化，形成雾化产物；雾化产物输出管路，将产生的异丙醇和氮气的雾化产物从反应腔内输出。本实用新型的异丙醇气化装置提供了马兰格尼干燥反应所需的优化异丙醇雾化粒子气体，有效提高了晶圆干燥能力。
一种有效提高干燥能力异丙醇气化装置

[发明专利]一种多通道流场控制的晶圆清洗装置-CN202310318249.6在审
发明人：周乾;张静;陈新来;唐宝国;邓信甫;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B08B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种多通道流场控制的晶圆清洗装置，晶圆承载平台，晶圆承载平台的边缘布设若干支撑晶圆的支撑组件；导流板，导流板上设置导流槽；下压导流盖，覆盖导流板，下压导流盖与导流槽之间的间隙形成气流走道，外部输入的气流经气流走道喷向晶圆的边缘部分；导流板上开设有与支撑组件一一对应的气流管道；气流管道的出气口靠近对应的支撑组件，外部输入的气流经气流管道的出气口吹向支撑组件。通过多通道设计，对夹持区域进行气流增强，吹走脏污，避免脏污残留。
一种通道控制清洗装置

[发明专利]一种晶圆双面同步清洗设备及清洗方法-CN202310325886.6在审
发明人：陈新来;唐宝国;周乾;李盼盼;廖世保 -专利权人：江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体（上海）有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆双面同步清洗设备及清洗方法，涉及晶圆清洗技术领域，包括：控制晶圆承载平台带动晶圆旋转，随后依次控制各正面清洗机构的喷嘴沿预设路径摆动，在摆动过程中对晶圆的正面进行喷淋清洗，并控制各背面清洗管路经由中央管路对晶圆的背面进行同步喷淋清洗，且同步喷淋清洗时保持正面清洗机构与背面清洗管路喷淋的清洗试剂、清洗试剂的速度及流量均相同。有益效果是采用正面清洗机构与背面清洗管路相结合，在晶圆旋转过程中同步输出清洗试剂对晶圆正反面同时清洗，有效减少传统单片正反面分段清洗而产生的蚀刻品质与洁净度的落差。
一种双面同步清洗设备方法

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