专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种磁共振射线辐照灭菌设备-CN202320454426.9有效
  • 卢东德 - 广东精威智能科技有限公司
  • 2023-03-11 - 2023-08-29 - A61L2/02
  • 本实用新型公开了一种磁共振射线辐照灭菌设备,包括灭菌房,灭菌房内设置有磁共振单元和射线辐照单元,磁共振单元产生与物料共振的电磁场,射线辐照单元产生用于辐照放置在灭菌房内物料的高能射线;磁共振单元为放置于灭菌房中的多组螺线管,且螺线管产生与物料共振的电磁场,打断分子键,破坏物质结构,从而达到灭菌和抗菌目的,射线辐照单元为放置于灭菌房中的四个射线灯,且四个射线灯安装于灭菌房的顶部和两侧,射线灯发射高能射线,打断分子键,破坏物质结构,从而达到灭菌和抗菌目的,利用磁共振和高能射线辐照技术,对物料进行抗菌和灭菌处理,具有简易和环保等优点。
  • 一种磁共振射线辐照灭菌设备
  • [发明专利]辐照器件及制备方法-CN202010240884.3在审
  • 翟亚红;李珍 - 电子科技大学
  • 2020-03-31 - 2020-06-16 - H01L29/06
  • 辐照器件及制备方法,涉及电子器件技术。本发明的辐照器件包括辐照敏感氧化层及硅衬底,其特征在于,所述硅衬底和辐照敏感氧化层之间设置有超薄氧化层和正电荷抑制层,且按照硅衬底、超薄氧化层、正电荷抑制层、辐照敏感氧化层的顺序重叠设置。本发明通过削弱二氧化硅与硅界面处捕获的正电荷的电场,从而降低二氧化硅的表面态Dit,达到电离辐照的效果。
  • 辐照器件制备方法
  • [发明专利]一种可以补偿空间辐照损伤的CCD驱动方法-CN202010427258.5在审
  • 陈治洲;刘桂;周平;袁雷明 - 温州大学
  • 2020-05-19 - 2020-07-17 - H04N5/361
  • 本发明提供一种可以补偿空间辐照损伤的CCD驱动方法。所述可以补偿空间辐照损伤的CCD驱动方法,包括以下步骤:S1:通过采集暗信号判断表面暗电流水平;S2:通过测量转移效率判断满阱电荷容量下降程度;S3:根据表面暗电流增大和满阱电荷容量下降情况,综合判断CCD受空间辐照损伤的影响情况;S4:根据CCD当前辐射损伤程度调整驱动信号进行补偿。本发明提供一种可以补偿空间辐照损伤的CCD驱动方法,该方法能够补偿由于电离辐射造成的CCD表面暗电流增大和满阱电荷容量下降问题,进而提高CCD在轨参数性能,延长CCD在轨工作寿命。
  • 一种可以补偿空间辐照损伤ccd驱动方法

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