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[发明专利]一种反射式光阀微型投影仪-CN200810059573.6无效
发明人：聂瑾禄;石岩;陆祖康 -专利权人：浙江金成科技发展有限公司;浙江大学
申请日： 2008-01-31 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：本发明属于投影显示装置技术领域，特别涉及一种反射式光阀微型投影仪，包括：照明光源，采用LED；颜色合成装置，将LED发出的光束合成为彩色或白色光束；反射光阀，作为空间光调制器，对颜色合成装置合成的光束进行调制，形成投影显示的图像源；偏光分束镜，将调制前和调制后偏振方向不同的光束进行分离；投影物镜，将颜色已经合成并经反射光阀调制的光束放大或投影到屏幕上；偏光分束镜位于投影物镜之前。首先，本微型投影仪提高了光能利用率及投影图像的亮度。其次，本微型投影仪的PBS不在反射光阀和投影物镜之间，也不位于反射光阀及场镜和投影物镜之间，从而可以减小PBS的体积，有利于微型投影仪的微型化。
一种反射式光阀微型投影仪

[发明专利]光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法-CN201910026093.8有效
发明人：许嘉俊;刘志祥;邢廷文;林妩媚 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法，其装置包括：照明装置、分光装置、透镜阵列、掩模板、反射器件、光电探测装置和控制器；照明装置产生准直的光束，经分光装置透射，透镜阵列聚焦至掩模板进行空间滤波至光刻投影物镜，反射器件反射通过光刻投影物镜的聚焦光束；光电探测装置，探测所述反射器件反射光束经所述掩模板空间滤波后的光束强度并发出光束强度信号；控制器连接所述工件台和所述光电探测装置，控制所述工件台运动和/或采集所述光电探测装置探测的光束强度信号本公开利用反射器件在光刻投影物镜光轴方向的移动，根据各个视场反射光强的变化，得到光刻投影物镜的最佳焦面位置。
光刻投影物镜最佳检测装置方法

[发明专利]一种光刻投影物镜系统波像差检测装置-CN201410819658.5无效
发明人：于长淞;苏东奇;苗二龙;隋永新;杨怀江 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2014-12-25 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻投影物镜系统波像差检测装置，该装置包括：光源、照明系统、小孔空间滤波器、分光板、待测投影物镜、球面反射镜、二维光栅、空间滤波器和图像传感器；本发明通过使用级次选择窗口作为空间滤波器使得噪声减小并且测量精度获得改善在光路中加入了球面反射镜，可用于浸没式投影物镜系统波像差的检测，也可用于非浸没式投影物镜系统波像差的检测；可以对投影物镜进行全视场的系统波像差检测，得到36项泽尼克系数表示的波像差；由于采用了剪切干涉仪的光路结构
一种光刻投影物镜系统波像差检测装置

[实用新型]投影物镜波像差在线检测装置-CN201320059357.8有效
发明人：刘广义;齐月静;苏佳妮;周翊;王宇 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2013-02-01 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种投影物镜波像差在线检测装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、参考标记(RP)、探测器(DE)、掩模板(MA)。掩模板(MA)用于将由所述光源(LA)出射的激光转换为两束相干光，该两束相干光经所述投影物镜(PO)后在所述投影物镜(PO)的焦平面处发生干涉，产生干涉条纹；该干涉条纹经过所述参考标记(RP)后照射在所述探测器(DE)上，转化为电信号；根据该电信号的强度得到所述干涉条纹的位置偏移量，再根据偏移量的大小可得到所述投影物镜(PO)的波像差。
投影物镜波像差在线检测装置

[发明专利]光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法-CN201810415080.5在审
发明人：苏佳妮;卢增雄;齐月静;杨光华;王宇 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法，属于投影光刻性能检测领域，旨在解决现有技术中由于投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器直接在线测量的技术问题，其中，所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台，所述掩模板的中心具有长方形孔，在线测量时，光束将掩模板的长方形孔经所述投影物镜成像到像面处，所述探测器探测所述像面处的成像，所述在线测量装置及所述测量方法基于掩模板标记成像的方式，解决了现有技术中存在的投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器进行直接测量的问题，实现了投影物镜集成后像方视场的在线测试，且测量速度快、易于推广应用。
在线测量装置投影物掩模板探测器视场测量长方形孔投影物镜光刻机像面成像标记成像投影光刻像方视场性能检测在线测量在线测试直接测量直接在线工件台掩模台探测

[发明专利]物面像面位置的实时测校装置以及方法-CN200810032842.X有效
发明人：毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-01-21 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种物面像面位置的实时测校装置以及方法，所述装置包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支撑并固定掩模版的掩模台、用于支撑并固定晶片的工作台，所述测校装置还包括用于监测物面位置的投影物镜成像系统顶部传感器，以及用于监测像面位置的投影物镜成像系统底部传感器，所述方法监测不同时刻投影物镜成像系统顶部传感器和底部传感器测量结果，通过与初始标定时刻物面像面位置相比较，计算可得不同时刻物面像面漂移量，并对投影系统物面像面位置进行实时校正通过本发明的测校装置及方法，可以测量待测物面、像面与透镜的相对位置，有效修正光刻装置中投影物镜系统物面、像面漂移值。
物面像面位置实时装置以及方法

[实用新型]光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置-CN201820656372.3有效
发明人：苏佳妮;卢增雄;齐月静;杨光华;王宇 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，属于投影光刻性能检测领域，旨在解决现有技术中由于投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器直接在线测量的技术问题，其中，所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台，所述掩模板的中心具有长方形孔，在线测量时，光束将掩模板的长方形孔经所述投影物镜成像到像面处，所述探测器探测所述像面处的成像，所述在线测量装置基于掩模板标记成像的方式，解决了现有技术中存在的投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器进行直接测量的问题，实现了投影物镜集成后像方视场的在线测试，且测量速度快、易于推广应用。
在线测量装置投影物掩模板探测器视场长方形孔投影物镜光刻机像面成像测量本实用新型标记成像投影光刻像方视场性能检测在线测量在线测试直接测量直接在线工件台掩模台探测

[实用新型]一种三维形貌比对显微镜-CN201620678460.4有效
发明人：钟新文;霍敬军;任愽远 -专利权人：吉林警察学院
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： G02B21/18 文献下载
摘要：本实用新型提供一种三维形貌比对显微镜，包括基座、云台、投影机、摄像机、目镜、物镜，基座上设置有可相对基座上下运动的升降体，升降体上设有左右两个双光路物镜，升降体上设置有左右两个摄像机，两个摄像机分别与两个双光路物镜的成像光路对应设置，在升降体上设置有一个投影机，投影机与两个双光路物镜的投影光路均对应，投影机投射光分别通过两个双光路物镜的投影光路，升降体上设置有目镜，目镜与两个双光路物镜的成像光路均对应设置，基座的下部设有两个云台分别位于两个双光路物镜的下方且相对应
一种三维形貌显微镜

[发明专利]超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法-CN201310076400.6有效
发明人：孙文凤 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2013-03-11 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法，其中所述装置包括偏振补偿单元，放置于光刻装置投影物镜的光瞳面并对所述投影物镜的出射光束进行偏振调制；偏振检测装置，位于所述投影物镜的像面，以检测所述投影物镜的视场点的偏振态
超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置方法

[发明专利]投影物镜偏振像差测量方法-CN201810712998.6有效
发明人：倪晟 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种投影物镜偏振像差测量方法，所述投影物镜偏振像差测量方法通过基于光强测量装置测量获得所有组光强值构建为的光强矩阵和所有选取的元素构建的λ函数矩阵计算投影物镜的琼斯矩阵，即本发明的测量方法可以直接计算获得投影物镜的琼斯矩阵
投影物镜偏振测量方法

[实用新型]亚半微米投影光刻物镜-CN00223215.4无效
发明人：陈旭南;李展;林妩媚;姚汉民;余国彬 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2000-06-08 - 公布日： 2002-03-27 - 主分类号： G02B13/22 文献下载
摘要：本实用新型公开的亚半微米投影光刻物镜,是一种大规模集成电路制造设备分步重复投影光刻机的高分辨力投影成像物镜。它由外层密封恒温外套、中间层镜筒、内层为分隔固定光学透镜元件的透镜框组件组成。它克服了目前国内现有光刻设备投影光刻物镜光刻分辨力较低,不能制作千兆位VLSI的不足。与国外具有同等技术参数指标的物镜相比,具有双远心特性,结构性能好,制作成本低。
微米投影光刻物镜

[实用新型]手术显微镜-CN201721626143.9有效
发明人：夏伟庆;陶巍 -专利权人：上海轶德医疗科技股份有限公司
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：包含：显微镜主体、设置于显微镜主体内的物镜、设置于显微镜主体上的光纤透镜、粘贴于光纤透镜上的投影薄膜；其中，投影薄膜位于物镜和光纤透镜之间，且投影薄膜上具有圆靶形标尺，手术显微镜的光路用于依次穿过光纤透镜、投影薄膜、物镜，照射于待测物体上，将圆靶形标尺投影于待测物体上。由于在光纤透镜上粘贴有投影薄膜，并且投影薄膜上具有圆靶形标尺，并且手术显微镜的用于依次穿过光纤透镜、投影薄膜、物镜，照射于待测物体上，将圆靶形标尺投影于待测物体上，因此医生在手术时，就可利用显微镜对眼球进行测量
投影薄膜光纤透镜手术显微镜待测物体物镜圆靶显微镜主体标尺粘贴投影照射穿过本实用新型显微镜领域医生显微镜光路眼球测量便利

[实用新型]一种激光投影短焦镜头-CN201621385948.4有效
发明人：徐舟 -专利权人：深圳市帅映科技股份有限公司
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种激光投影短焦镜头，属于投影机设备领域，因此包括第一非球面镜片为负弯月形双面偶次非球面镜片，第一光学物镜为负弯月形球面镜，第二光学物镜为负弯月形球面镜，第三光学物镜为负弯月形球面镜，第四光学物镜为正弯月形球面镜，第五光学物镜为双凸正球面镜，胶合物镜为双凸正透镜和双凹负透镜组成，第六光学物镜为双凸正透镜，第七光学物镜为平凸透镜，靠近屏幕方向为凸面。该短焦镜头，镜片总数较少，亮度损失小，针对蓝光激光器出射波长进行优化，色差小，畸变低，适用于新型激光光源投影机。
一种激光投影镜头

[发明专利]一种基于LCoS的自适应变焦投影物镜-CN201910237577.7在审
发明人：李磊;李林阳;匡凤麟 -专利权人：四川大学
申请日： 2019-03-27 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G03B21/53 文献下载
摘要：本发明公开基于LCoS的自适应变焦投影物镜，该投影物镜包括：固体透镜Ⅰ、自适应透镜Ⅰ、自适应透镜Ⅱ、自适应透镜Ⅲ、固体透镜Ⅱ、固体透镜Ⅲ。3个自适应透镜组成透镜组位于固体透镜之间,通过改变自适应透镜的焦距来改变整个投影物镜的焦距，从而调节投影画面的大小。
自适应透镜固体透镜变焦投影物镜投影物镜焦距光学系统投影画面透镜组成光焦度透镜组变焦像差校正

[发明专利]一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统-CN202110861967.9有效
发明人：杨超;胡松;朱咸昌;刘磊;刘锡;位浩杰;金川;韩陈浩磊 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜系统由20片透镜组成，物镜系统分辨力700nm，放大倍率为‑0.25倍，曝光视场44mm×44mm。本投影曝光物镜系统共轭距(物方到像方)为L＝740mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，采用球面校正系统场曲、畸变和波像差，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求
一种应用于投影光刻视场曝光物镜系统