专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种红外目标和干扰仿真装置-CN201410483849.9无效
  • 虞红;高阳;雷杰;杨召伟;杜惠杰;张盈 - 北京仿真中心
  • 2014-09-19 - 2014-12-10 - F41G3/32
  • 本发明公开一种红外目标和干扰仿真装置,包括目标黑体、目标聚光镜、目标光阑、投影物镜组、干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑和合束器;目标黑体、目标聚光镜、目标光阑的光轴与投影物镜组的光轴重合,干扰黑体、干扰聚光镜、干扰光阑的光轴与投影物镜组的光轴相垂直;合束器与投影物镜组的光轴呈45度设置,目标光阑和干扰光阑均安装在投影物镜组的焦平面上;合束镜为半反半透镜;目标黑体辐射的红外光经目标聚光镜后均匀照亮目标光阑,干扰黑体辐射的红外光经干扰聚光镜后均匀照亮干扰光阑;合束器将透射的红外目标和反射的红外干扰合束;投影物镜组将合束后的红外目标和红外干扰投射到无穷远。
  • 一种红外目标干扰仿真装置
  • [发明专利]一种投影物镜和光刻曝光系统-CN201810113896.2有效
  • 侯宝路 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2018-02-05 - 2020-10-09 - G02B13/00
  • 本发明公开了一种投影物镜和光刻曝光系统。该投影物镜包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组,第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组,第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组,投影物镜满足以下关系式本发明实施例提供的投影物镜和光刻曝光系统,可以解决投影物镜投影视场较小,同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题,实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影,增加曝光系统的曝光视场,提高光刻机的光刻产率。
  • 一种投影物镜光刻曝光系统
  • [发明专利]投影物镜倍率误差及畸变的检测装置及方法-CN200810202413.2有效
  • 杨志勇 - 上海微电子装备有限公司
  • 2008-11-07 - 2009-03-18 - G03F7/20
  • 本发明提供一种投影物镜倍率及畸变的检测装置以及方法,首先制备一具有栅格状透光标记的测量掩模版,同时提供镀铬面上涂覆正性光刻胶且没有图形的掩模版作为一转印掩模版,利用物像交换曝光的方法以及涂胶显影、刻蚀、套刻测量等相关设备,测量固定在检测装置中的投影物镜倍率误差及畸变;采用本发明的投影物镜倍率及畸变的检测装置以及方法测量投影物镜的倍率误差和畸变,可排除标准栅格模版等传统测量手段带来的系统误差,特别适于包含有测量名义倍率为-1或相近倍率的投影物镜的检测装置系统。
  • 投影物镜倍率误差畸变检测装置方法
  • [发明专利]一种曝光系统、曝光方法和光刻机-CN201810570140.0有效
  • 郭银章 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2018-06-05 - 2021-07-02 - G03F7/20
  • 本发明提供一种用于半导体投影光刻技术领域的曝光系统、曝光方法和光刻机,包括照明单元、掩模版、投影物镜单元、基底和至少一个衍射光学元件,所述衍射光学元件设置在所述照明单元和/或所述投影物镜单元中,所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近或者远离所述照明单元中的光阑的位置处,和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近或者远离所述投影物镜单元中的光阑的位置处,所述照明单元提供的照明光束依次入射所述掩模版、所述投影物镜单元和所述基底后,将所述掩模版上的图形成像到所述基底上
  • 一种曝光系统方法光刻
  • [发明专利]一种全息消像差方法及其投影光刻系统-CN200710099761.7无效
  • 张强;李艳秋;周远 - 中国科学院电工研究所
  • 2007-05-30 - 2008-02-20 - G03F7/20
  • 一种全息消像差方法,利用全息照明技术在特定条件下曝光,将光刻中照明信息,投影物镜调制信息以及掩模版位相调制信息同时记录在全息干板上。曝光后的全息干板替代现有技术的掩模版以及照明系统,采用共轭再现方式,令再现后的共轭光波再次进入投影物镜,补偿投影物镜在成像过程中引入的像差。携带有掩模调制信息、投影物镜倍缩信息和照明信息的光束令光刻胶曝光,完成光刻曝光过程。应用本发明方法的投影光刻系统,包括激光器[1]、光闸门[2]、照明系统[3]、偏振控制装置[4]投影物镜[5]扩束装置[6]、掩模版[7]全息干板[8]、分光镜[9]、抗蚀剂硅片[15]、硅片工作台[16
  • 一种全息消像差方法及其投影光刻系统
  • [发明专利]一种LCD投影装置及方法-CN202310930759.9在审
  • 黄柏良 - 湖南阿秒光学科技有限公司
  • 2023-07-26 - 2023-10-10 - G03B21/20
  • 本申请适用于投影技术领域,提供了一种LCD投影装置及方法,该LCD投影装置包括:第一光源系统、第二光源系统、单向反射片和投影物镜;单向反射片设置在第一光源系统和投影物镜之间;第一光源系统设置在单向反射片的透射面的一侧;第一光源系统所射出的第一光线穿过单向反射片的透射面,射向投影物镜;第二光源系统射出的第二光线从单向反射片的反射面反射,射向投影物镜;其中,反射后的第二光线与穿过单向反射片的透射面的第一光线重合。本申请能够提升投影图像的亮度,同时解决了LCD液晶片的受热问题。
  • 一种lcd投影装置方法
  • [发明专利]一种光刻机投影物镜安装调平装置-CN200810033381.8有效
  • 唐海明;朱岳彬 - 上海微电子装备有限公司
  • 2008-01-31 - 2008-07-23 - G03F7/20
  • 本发明提供一种光刻机投影物镜安装调平装置,用于调平带有安装法兰的投影物镜。它包括安装基板,三个柔性块,安装件和固定件。柔性块前端通过固定件与投影物镜的安装法兰连接,柔性块底座通过安装件安装在安装基板;柔性块前端中部开有第一狭长槽,柔性块后端与第一狭长槽相向方向开有第二狭长槽,柔性块后端装有一调节杆。该调平装置采用三个等圆周均布的柔性块,调节柔性块的调节杆实现柔性块前端的翘起和压下以调节投影物镜水平度,并利用两狭长槽形成的弹性支点避免外界的振动和冲击给投影物镜带来的损害。
  • 一种光刻投影物镜安装平装

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