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[发明专利]微纳结构图形试样的高速跟踪方法-CN202110390170.5有效
发明人：刘星;魏劲松;陈国东;郑金轮;赵培均 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：微纳结构图形试样的高速跟踪方法,包括计算机、照明成像模块、二向色棱镜、调焦机构、压电陶瓷、物镜、待跟踪的微纳结构图形试样、工件台、探测器、象散模块、分光模块、扩束镜、激光器和控制器。将待跟踪的微纳结构图形试样放置于工件台上，通过调焦机构的上下移动，使得待跟踪的微纳结构图形试样的表面在照明成像模块清晰成像。调节扩束镜，使得激光器发出的激光聚焦在待跟踪的微纳结构图形试样的表面，同步控制工件台与控制器，完成待跟踪的微纳结构图形试样的运动与跟踪。本发明微纳结构图形试样的高速跟踪方法可以高速、高精度、高灵敏度的对微纳结构图形试样进行自动跟踪，保证微纳结构图形清晰成像，为后续的读取与检测提供保证。
结构图形试样高速跟踪方法

[实用新型]一种抑菌膜-CN202022078818.9有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;蔡文静;杨颖;刘晓宁;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B01D53/86 文献下载
摘要：本实用新型公开一种抑菌膜，包括基层和设于基层一侧的微纳结构层，微纳结构层远离基层一侧设有微纳结构，微纳结构包括若干结构单元，结构单元包括若干微纳图形和围绕若干微纳图形设置的边缘图形，边缘图形沿结构单元的边缘自微纳结构层的表面向外凸起，相邻两个结构单元的边缘图形之间接触或共边，在每一个结构单元中，各个微纳图形间互不接触，微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构。本申请利用微纳结构物理抑菌，减少微生物粘附并抑制其生长繁殖；采用抑菌材料对已经粘附微生物进行灭活杀菌，有效起到抑菌杀菌作用，同时还具备除甲醛、除臭、抗污、净化空气等功能，具有无污染，安全稳定，持续作用、
一种抑菌膜

[发明专利]一种基于微透镜阵列和微图形阵列的可沿某一方向移动的动态图形的制备方法-CN201810787000.9在审
发明人：黄鹏;何传王;董小春;范斌 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微透镜阵列和微图形阵列的可沿某一方向移动的动态图形的制备方法，包括：(1)一层微透镜阵列的设计，其设计内容包括：设计微透镜阵列的排布方式为矩形排布，选取的微透镜为方口径微透镜，确定微透镜的矢高以及微透镜阵列的周期大小(2)一层微图形阵列的设计，具体内容包括：微图形的图像设计，阵列周期的设计，微图形阵列与微透镜阵列夹角的设计。(3)微结构载体的选取，选用合适厚度的塑料薄膜作为动态图形的承载物。(4)微结构的复合，即将上述微透镜阵列和微图形阵列采用模压或粘合的方式重叠在一起，完成整体微结构的设计。本发明的视觉效果独特，能达到让设计图形沿着某一方向移动的效果。
微透镜阵列微图形动态图形方向移动微结构微透镜制备塑料薄膜矩形排布排布方式设计图形视觉效果图像设计阵列周期承载物粘合矢高口径复合

[发明专利]一种具有微纳图形结构的掩膜板制作方法和纳米光刻方法-CN201810202020.5有效
发明人：吴进;刘川;李敏敏 -专利权人：中山大学
申请日： 2018-03-12 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G03F1/52 文献下载
摘要：本发明涉及纳米图形化领域，具体涉及一种具有微纳图形结构的掩膜板制作方法和纳米光刻工艺，在硅片衬底上，利用图形化工艺定义需要进行刻蚀的图形；对硅片表面进行各向异性刻蚀，通过控制刻蚀过程，在硅片上制备特定形状和特定尺寸的微纳图形排列结构；将聚合物溶液涂在具有特定形状的微纳图形排列结构的硅片表面上，将硅片表面的微纳图形结构转印在聚合物上；取出转印后的聚合物，具有微纳图形结构的聚合物作为光刻掩膜板，用于光刻制备微纳图形。本发明同时具备成本低、简单、高效、可灵活调控图形的特征尺寸和几何形状的优点，该工艺可通过调整聚合物掩膜版的图形尺寸，实现全反射式的光刻曝光技术。
一种具有图形结构掩膜板制作方法纳米光刻方法

[实用新型]一种抑菌材料-CN202020313286.X有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;左志成;蔡文静;任家安;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B32B27/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抑菌材料，包括基层；设于基层一侧的微纳结构层，微纳结构层远离基层的一侧设有微纳结构，微纳结构包括若干呈阵列交错排布的结构单元，其包括若干依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一结构单元中，各微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在微纳结构中，各微纳图形互不接触，微纳图形的纵横比大于1，微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构；仿形固定铺设在微纳结构层远离基层一侧的纳米抑菌材料层。本申请利用微纳结构物理抑菌，减少细菌等微生物的粘附并有效抑制其生长繁殖；同时还采用抑菌材料对已粘附的细菌等微生物进行灭活杀菌，安全稳定，无污染，且时间持久、持续作用、性质稳定、安全无毒。
一种材料

[发明专利]一种基于微结构的非阵列动态显示防伪图形的设计方法-CN201910355637.5有效
发明人：黄鹏;何传王;董小春;范斌 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微结构的非阵列动态显示防伪图形的设计方法，包括：(1)微图形阵列的设计；(2)微图形阵列单元的放大；(3)对微图形阵列单元像素的采集；(4)微图形阵列的重排。最后利用与微图形阵列排列方式相同的微透镜阵列作为解码片显示出设计的动态图形。本发明的视觉效果独特，除了能显示出非阵列化的单元图形外，还能让动态图形随着观察视角的变化消失或浮现。
一种基于微结构阵列动态显示防伪图形设计方法

[实用新型]一种双重防伪膜-CN202020523021.2有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;孙营春;左志成;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双重防伪膜，其包括：基膜层；信息层，其具有微纳结构，所述微纳结构包括若干结构单元，若干所述结构单元呈阵列交错排布，所述结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一所述结构单元中，各所述微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在所述微纳结构中，各个所述微纳图形互不接触，所述微纳图形的纵横比大于1，所述微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构；变色层，其随着观察角度的变化，颜色发生变化
一种双重防伪

[发明专利]一种光栅制作方法及光栅-CN202210751803.5在审
发明人：邓辉;段聪;李珍 -专利权人：长沙韶光铬版有限公司;湖南智信微电子科技有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种光栅制作方法及光栅，光栅制作方法包括：在平面基板上制作微纳高精图形，微纳高精图形具有异构图形加工定位标志；在微纳高精图形上设置保护层；基于异构图形加工定位标志对平面基板的下表面进行加工，以在平面基板的下表面形成凹陷状的异形结构；对形成异形结构的平面基板的下表面进行抛光；去除保护层，并对平面基板进行清洗。微纳高精图形中预置了异构图形加工定位标志，从而便于后续利用寻迹设备来检测异构图形加工定位标志的位置，使得后续加工设备可以根据寻迹的结果完成对平面基板的异形结构的加工；同时，在微纳图形上会覆盖一层保护层，有效的保护微纳高精图形加工中不会受到污染。
一种光栅制作方法

[发明专利]微图形结构转印方法及微图形结构基板-CN202011432425.1在审
发明人：冯雪;傅棋琪;邓雨平 -专利权人：浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： B41M3/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种微结构图形转印方法，包括：提供一基板组件，基板组件包括施主基板及可剥离地设置在施主基板一侧表面的组合体，组合体包括依次层叠的微图形结构、第一牺牲层、第二牺牲层，微图形结构位于组合体的朝向施主基板的一侧；将组合体从施主基板上剥离；将组合体的具有微图形结构的一侧贴附在受主基板的表面；除去第一牺牲层与第二牺牲层，使微图形结构转印到受主基板的表面。本申请的转印方法通过第一牺牲层与第二牺牲层的设计，既保护了微图形结构，降低了转印过程中的应力失配，减少剥离次数，可以实现对多种基底间、不同微图形结构高质量、低损失的转印，通用性好。
图形结构方法

[实用新型]一种防伪包装材料-CN202020313283.6有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;左志成;任家安;蔡文静;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： B65D65/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防伪包装材料，其包括基层；设于基层一侧的信息层，信息层远离基层的一侧设有微纳结构，微纳结构包括一个或若干结构单元，若干结构单元呈阵列交错排布，结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一结构单元中，各微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在微纳结构中，各个微纳图形互不接触，微纳图形的纵横比大于1，微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构；镀层，镀层仿形固定铺设在信息层远离基层的一侧本实用新型的包装材料利用微纳结构可实现在光照条件下的特殊光效，提供一种有效的防伪鉴别手段，同时此材料具有的微纳结构，可有效减少细菌等粘附并抑制其生长繁殖，具有抑菌效果。
一种防伪包装材料

[发明专利]微纳结构的测量以及加工方法-CN202010410264.X有效
发明人：郭登极;陈章;黄海军;林建军;许佼;伍晓宇;徐斌 -专利权人：深圳大学
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种微纳结构的测量方法和加工方法，测量方法包括：获得微纳结构的实时显微图像，微纳结构包括至少一个微纳单元；识别并拟合显微图像而得到微纳单元的拟合图形；测量拟合图形以获取至少一个微纳单元的尺寸和位置信息。本发明提供的微纳结构的测量方法，通过获得微纳结构的实时显微图像，并通过识别和拟合得到与微纳单元的外形轮廓最为一致的拟合图形，测量拟合图形相当于测量对应的微纳单元，从而获得微纳单元精确的尺寸和位置信息，同时由于能够在加工的过程中执行测量方法，以便于对于微纳结构加工过程进行实时监测，有利于微纳结构的高精度加工。
结构测量以及加工方法

[实用新型]一种防伪证卡-CN202020313280.2有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;左志成;蔡文静;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B42D25/36 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种防伪证卡，其包括卡体和设置于卡体上的复合表层，复合表层包括依次层叠于卡体上的基膜层、信息层和透明介质层，基膜层设置于所述卡体上；信息层设置在基膜层远离卡体的一侧，信息层远离基膜层的表面具有微纳结构，微纳结构包括若干结构单元，若干结构单元呈阵列交错排布，结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一结构单元中，各微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在微纳结构中，各个微纳图形互不接触，微纳图形的纵横比大于1，微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构；透明介质层仿形设置在信息层具有所述微纳结构的一侧上。
一种伪证

[实用新型]一种双重防伪包装材料-CN202020521990.4有效
发明人：朱昊枢;叶瑞;左志成;任家安;蔡文静;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 -专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请日： 2020-04-10 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B65D65/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双重防伪包装材料，包括基层、第一信息层和第二信息层；所述第一信息层远离所述基层的一侧设有第一微纳结构，所述第一微纳结构包括若干结构单元，若干所述结构单元呈交错阵列排布，所述结构单元包括若干依次并行且间隔排布的微纳图形，在同一结构单元中，各微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布，在所述第一微纳结构中，各微纳图形互不接触，所述微纳图形的纵横比大于1，所述微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构；所述第二信息层远离所述基层的一侧设有第二微纳结构本材料正常情况呈现防伪光效或镭射效果，满足设计和视觉效果，具有防伪性；光照下呈现特殊光效，进一步提高防伪度；同时具有微纳结构，有抑菌效果。
一种双重防伪包装材料

[发明专利]发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法-CN202210960208.2在审
发明人：李彬彬;李瑞评;梅晓阳 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法，其中，该图形化衬底包括：衬底和微纳复合图形结构。微纳复合图形结构形成于所述衬底的一侧表面；所述微纳复合图形结构包括主图形和表面微结构；所述主图形为凸部结构且包含不平行于所述衬底且背对所述衬底的侧面，所述表面微结构位于所述主图形的所述侧面，所述表面微结构包括垂直于所述主图形的所述侧面且背对所述衬底的所述侧表面的侧面
发光二极管图形衬底及其制备方法

[发明专利]发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法-CN202110317828.X有效
发明人：李彬彬;彭鹏飞;霍曜;李瑞评;乔新宇;梅晓阳 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法，其中，该图形化衬底包括：衬底和微纳复合图形结构。微纳复合图形结构形成于所述衬底的一侧表面；所述微纳复合图形结构包括主图形和表面微结构；所述主图形为凸部结构且包含不平行于所述衬底且背对所述衬底的侧面，所述表面微结构位于所述主图形的所述侧面，所述表面微结构包括垂直于所述主图形的所述侧面且背对所述衬底的所述侧表面的侧面
发光二极管图形衬底及其制备方法

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