专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]外延温度测试监控结构-CN201320825704.3有效
  • 杨彦涛;蒋敏;何金祥;李小锋;王柁华;苏兰娟 - 杭州士兰集成电路有限公司
  • 2013-12-12 - 2014-06-04 - H01L21/66
  • 本实用新型提供的外延温度测试监控结构,包括:一半导体衬底;监控窗口,由所述半导体衬底的表面形成,所述监控窗口具有特征尺寸大小分别相等的第二开口和用于间隔所述第二开口的第二间距区,所述第二间距区与所述第二开口的表面具有台阶差;测试结构,采用外延工艺在所述监控窗口上形成,所述测试结构具有第三开口和位于所述第三开口间的第三间距区,所述第三开口和第三间距区的图形数据为沿外延畸变的方向的数据。本实用新型通过所述外延温度测试监控结构使外延温度的监控简单高效、操作性强,可迅速有效地监控外延温度,以减少由于温度偏差导致的产品风险。
  • 外延温度测试监控结构
  • [实用新型]外延结构及发光器件-CN202023328832.6有效
  • 张海林;黄国栋;林雅雯;谷鹏军;刘勇兴 - 重庆康佳光电技术研究院有限公司
  • 2020-12-31 - 2021-11-23 - H01L33/10
  • 一种外延结构及发光器件,包括衬底以及依次叠设于衬底上的复合布拉格反射结构、第一限制层、有源层和第二限制层;其中,复合布拉格反射结构包括周期性交替生长的低反射率半导体层和高反射率半导体层,且复合布拉格反射结构中最先生长和最后生长的半导体层均为低反射率半导体层通过使复合布拉格反射结构为低反射率层和高反射率层周期性交替生长的复合结构,且最先生长和最后生长的半导体层均为低反射率半导体层,可以增大布拉格反射结构对有源层光线的反射率,减少大倾角入射光线的临界损失,以达到提高外延结构的光提取效率的目的
  • 外延结构发光器件
  • [发明专利]一种发光器件、显示面板及电子设备-CN202210179597.5在审
  • 梁轩;王飞;王明星;王灿;董学;杨明坤;齐琪 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2022-02-25 - 2022-05-27 - H01L33/08
  • 本公开实施例提供了一种发光器件、显示面板及电子设备,发光器件至少包括:第一外延结构、第二外延结构,第一外延结构和第二外延结构能够发出不同波段的光;第一外延结构和第二外延结构沿第一方向依次设置,每个外延结构均包括:N型半导体层、P型半导体层、多量子阱层;第一外延结构和第二外延结构之间设置有导电键合层,包括:第一导电材料层和第二导电材料层,第一导电材料层还与第一外延结构的N型半导体层连接,第二导电材料层还与第二外延结构的P型半导体层连接;第二导电材料层的表面面积小于或等于第一导电材料层的表面面积;第二导电材料层的表面面积与第二外延结构的P型半导体层的表面面积之比的取值范围为0.2‑1。
  • 一种发光器件显示面板电子设备

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