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[发明专利]液处理装置、液处理方法和存储介质-CN201010119641.0有效
发明人：泷口靖史;吉村好贵;宫田雄一郎;山本裕介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-02-20 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置，该液处理装置具备：具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴，目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下，防止成品率降低。在横方向排列为一列的多个杯体的开口部间，在处理液喷嘴的移动路的下方侧，设置有与从通过移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触，用于将该液滴从处理液喷嘴除去除液部。因此，为了对基板进行处理而使处理液喷嘴在待机部与各液处理部间移动时，能够防止所述液滴从处理液喷嘴向基板上落下。其结果是，能够抑制成品率的降低。
处理装置方法存储介质

[发明专利]基板处理装置-CN201880087647.9在审
发明人：谷贵志;谷泽成规;秋山刚志 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-11-20 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明是一种对基板供给处理液的基板处理装置，包括：喷嘴管(412)，朝基板喷出处理液；送液管(411)，连接于喷嘴管(412)，并朝喷嘴管(412)输送处理液；以及抽吸管(413)，在比送液管(411)更靠下游侧处连接于喷嘴管(412)，并对喷嘴管(412)内的处理液进行抽吸。至少自抽吸管(413)的连接位置起下游侧的喷嘴管(412)的内径为抽吸管(413)的内径以下。由此，抽吸处理液的抽吸力充分地作用至喷嘴管内。因而，在喷嘴管内不易残留处理液，从而能够防止处理液的液滴下落。
处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201910711315.X在审
发明人：上村史洋;大塚贵久;小宫洋司;绪方信博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-08-02 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法，提供一种能够减少处理液的废弃量的技术。基板处理装置具有：处理室，在该处理室中利用处理液来对基板进行处理；喷嘴，其在前端部具有所述处理液的喷出口；喷嘴槽，在该喷嘴槽的内部形成有收容室，该收容室用于在所述处理液向所述基板的供给中断的待机时收容所述喷嘴的所述前端部；循环线路，其用于使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液返回所述喷嘴；以及第一限制部，在使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环时，该第一限制部限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动
处理液喷嘴槽喷嘴基板处理装置喷嘴喷前端部收容室基板处理循环线路对基板喷出口待机基板废弃中断返回外部流动

[发明专利]基片处理装置-CN201811240941.7在审
发明人：田中幸二;池田贵志;益富裕之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够均匀地蚀刻基片的基片处理装置。实施方式的基片处理装置包括基片处理槽、处理液供给喷嘴和调压板。处理液供给喷嘴设置在基片处理槽内的下方，从多个排出口排出处理液。调压板设置在处理液供给喷嘴与基片处理槽内的基片之间，具有使处理液流通的多个孔，调节从处理液供给喷嘴排出的处理液的流入压力。另外，调压板具有从处理液供给喷嘴侧的面突出且将处理液供给喷嘴侧的面划分为多个划分区域的棱。
处理液供给喷嘴基片处理装置基片处理处理液调压板蚀刻划分区域排出口喷嘴排排出流通

[实用新型]基片处理装置-CN201821724128.2有效
发明人：田中幸二;池田贵志;益富裕之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够均匀地蚀刻基片的基片处理装置。实施方式的基片处理装置包括基片处理槽、处理液供给喷嘴和调压板。处理液供给喷嘴设置在基片处理槽内的下方，从多个排出口排出处理液。调压板设置在处理液供给喷嘴与基片处理槽内的基片之间，具有使处理液流通的多个孔，调节从处理液供给喷嘴排出的处理液的流入压力。另外，调压板具有从处理液供给喷嘴侧的面突出且将处理液供给喷嘴侧的面划分为多个划分区域的棱。
处理液供给喷嘴基片处理装置基片处理处理液调压板蚀刻本实用新型划分区域排出口喷嘴排排出流通

[实用新型]释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴、喷嘴臂和基片处理装置-CN202021375493.4有效
发明人：天野嘉文;相浦一博;植木达博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴、喷嘴臂和基片处理装置。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本实用新型能够抑制颗粒的产生。
释放用于处理喷嘴装置

[发明专利]处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法-CN202010673489.4在审
发明人：天野嘉文;相浦一博;植木达博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本发明能够抑制颗粒的产生。
处理释放喷嘴装置方法

[发明专利]喷嘴构件、具有该构件的处理液供给装置及利用该构件供给处理液的方法-CN200810214995.6有效
发明人：河宗义 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2008-09-01 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本发明关于一种喷嘴构件、具有该喷嘴构件的处理液供给装置及利用该喷嘴构件供给处理液的方法。在供给处理液的喷嘴构件中，喷嘴构件包括壳体，设置在所述壳体内的多个供给单元，不同的处理液通过各个供给单元流到基板上，以及分别与所述供给单元连接的多个喷嘴，所述喷嘴的设置为：从所述喷嘴中选出的第一喷嘴转向所述基板，并且除了所述第一喷嘴之外的其他喷嘴转离所述基板。因此，喷嘴构件的机械结构得到简化并且喷嘴转离基板防止了转离基板的喷嘴被通过指向基板的喷嘴喷射到基板上的处理液污染。
喷嘴构件具有处理供给装置利用方法

[发明专利]液处理方法和液处理装置-CN202110551004.9在审
发明人：谷卓哉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-05-20 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供能够在使用液处理装置对基片进行液处理时，提高生产率的液处理方法和液处理装置。对基片供给处理液以进行液处理的液处理方法中，当在第一涂敷模块中执行第一喷嘴的试喷时，在第二涂敷模块中成为能够对作为下一个液处理对象的基片开始液处理的状态之前，判断并决定是否进行第二喷嘴的试喷，其中，上述第一喷嘴是在上述第一涂敷模块中用于将上述处理液供给到基片以进行该基片的液处理的喷嘴，上述第二喷嘴是在第二涂敷模块中对作为上述基片的上述下一个液处理对象的基片供给上述处理液以进行液处理的喷嘴。
处理方法装置

[发明专利]基板液处理装置和基板液处理方法-CN201610633367.6有效
发明人：野中纯 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板液处理装置和基板液处理方法。基板中心部不会暴露在周围气氛中，自一喷嘴喷出的处理液不会阻挡自另一喷嘴喷出而在基板表面上朝向基板周缘部流去的处理液的流动或者不会将该处理液的流动朝向基板中心部挤回。基板液处理方法包括以下：工序a，使基板(W)绕铅垂轴线旋转；工序b，一边自第1喷嘴(411)向基板的中心部供给处理液，一边自第2喷嘴(412)向基板供给处理液，此时，使自第2喷嘴喷出的处理液的着液点自基板的中心部向周缘部连续地移动；工序c，在所述工序b之后，一边自第1喷嘴向基板的中心部继续供给处理液，一边停止自第2喷嘴喷出处理液，并使第2喷嘴向能够向基板的中心部供给处理液的位置移动。
基板液处理装置方法

[实用新型]液处理装置-CN202020576502.X有效
发明人：冈泽智树;西山雄太;飞松武志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种液处理装置，对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效。液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给处理液的涂布位置和与涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向待机位置供给清洗液，以通过清洗液对位于待机位置的喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于待机位置的喷嘴的顶端面开口的吸引口，吸引部吸引从位于待机位置的喷嘴喷出的处理液以及通过清洗部供给到待机位置的清洗液；以及控制装置，其控制处理液供给部、喷嘴移动部、吸引部及清洗部。
处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN201710495929.X有效
发明人：郑煐宪;闵忠基;曺守铉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-06-26 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种基板处理装置。该基板处理装置，包括：支撑单元，设置为支撑基板并旋转所述基板；处理液喷嘴，用于将处理液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板；预湿液喷嘴，用于将预湿液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板；和控制器，用于控制处理液喷嘴和预湿液喷嘴，其中，所述控制器控制所述处理液喷嘴和所述预湿液喷嘴，以进行用于将所述预湿液供应供到所述基板的预湿步骤，然后进行处理液供应步骤，所述处理液供应步骤用于将所述处理液供应到所述基板，并在所述处理液供应到所述基板的过程中，将预湿液供应到所述基板。
用于处理装置方法

[发明专利]尾气后处理系统、控制方法及存储介质-CN202110307257.1在审
发明人：胡国庆 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： F01N3/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种尾气后处理系统，包括储存尾气处理液的储罐、向车辆的尾气管中喷射尾气处理液的喷嘴、连接在储罐与喷嘴之间向喷嘴供给尾气处理液的供给单元以及控制单元。控制单元被配置成响应于尾气后处理请求确定需要喷射到尾气管中的尾气处理液的喷射量、控制供给单元从储罐向喷嘴供给尾气处理液以及控制喷嘴向尾气管中定量地喷射尾气处理液。在喷嘴向尾气管中定量地喷射尾气处理液期间，控制单元基于尾气处理液经过喷嘴时的压降调节喷嘴的占空比，以提高喷嘴喷射量的精确性。本申请还提供了一种控制尾气后处理系统的方法及一种机器可读的非易失性存储介质。根据本申请，可以提高喷嘴喷射量的精确性，从而提高尾气后处理系统的工作效率。
尾气处理系统控制方法存储介质

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN202310045125.5在审
发明人：桾本裕一朗;梶原英树;松浦和宏;水篠真一;重本北斗;丰泽聪大;坂井勇治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
处理装置方法以及存储介质

[发明专利]液处理中的喷嘴清洗、防止处理液干燥的方法及其装置-CN200910171077.4有效
发明人：米谷保幸;平尾刚;山村健太郎;宫本健一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理中的喷嘴清洗、防止处理液干燥的方法和装置，能抑制液体处理装置大型化，提高喷嘴清洗效率并防止处理液干燥，包括：具有漏斗部的清洗室；向清洗室的漏斗部的上部侧供给溶剂的第二溶剂供给单元；喷嘴吸引单元；使喷嘴在清洗室与向基板喷出处理液的位置之间移动的移动单元；对第一和第二溶剂供给单元、吸引单元和移动单元进行控制的控制器。在喷嘴收容于清洗室内时，利用吸引单元使喷嘴内的处理液的液面后退，从第一溶剂供给单元向清洗室内供给溶剂，形成溶剂的涡流将喷嘴清洗，从第二溶剂供给单元向清洗室内供给，在清洗室内形成溶剂的积液，利用吸引单元吸引喷嘴，在喷嘴的前端内部形成处理液层、空气层和处理液的溶剂层。
处理中的喷嘴清洗防止干燥方法及其装置

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