专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]施源器的设计方法-CN201510457723.9有效
  • 杨波 - 西南医科大学附属医院
  • 2015-07-30 - 2018-08-10 - A61M36/04
  • 本发明公开了施源器的设计方法,其包括以下步骤:获取患者放射治疗时的断层图像;根据断层图像生成的三维图像;计算所述三维轮廓的空间坐标;选取施源器的放射源在放射治疗中的分布坐标;基于放射治疗区外轮廓处放射剂量相等原则采用该方法设计的施源器进行放射治疗时,能够使边缘实现等剂量照射,使得到高剂量放疗的同时正常组织及器官得到最小的照射。
  • 施源器设计方法
  • [实用新型]磁控镀膜机腔罩结构-CN201520063134.8有效
  • 闫会朝;丁磊;李晓哲 - 厦门玉通光电有限公司
  • 2015-01-29 - 2015-07-29 - C23C14/35
  • 本实用新型公开一种磁控镀膜机腔罩结构,包括机壳体,机壳体侧面开口用于机芯卷绕部分进出,机壳体内上部为收放,下部为,所述收放均为弧状空间,收放的内径大于镀区内径,与收放结合处形成向中心延伸的突台结构,机壳体的收放侧壁设有深冷管,机壳体顶部设有气流通道。本实用新型机壳体的收放设计合理,机芯卷绕部分可以伸入或拖出到机壳体真空室,具有结构合理、上下膜操作方便、镀膜效率高等优点。
  • 镀膜机腔罩结构
  • [实用新型]自动报装置-CN200820301059.4无效
  • 朱德晓;朱德万;张娉 - 朱德晓
  • 2008-06-05 - 2009-05-20 - F41J5/048
  • 本实用新型所涉及一种自动报装置,包括控制终端和靶标,靶标主要由导电底板和面构成,面包括若干块相互隔离的,控制终端根据脉冲信号发生在哪一块与导电底板之间来判断命中环数,进行实时报。所述面包括沿圆周方和径向分割成的若干个相互隔离的,导电底板向后延伸出若干个止档杆,止档杆的同侧间隔的固定有两个绝缘空心环,这两个空心环恰好能够使每个上固定的垂直于面的支杆穿入,位于两个空心环间的支杆上还套有一回位弹簧,在止档杆的顶端还连有一在受力下压时能够与支杆顶端接触的接触头。
  • 自动装置
  • [发明专利]线路板以及电子通讯装置-CN202011168152.4有效
  • 许校彬 - 惠州市特创电子科技股份有限公司
  • 2020-10-27 - 2021-12-07 - H05K1/02
  • 上述的线路板包括阻焊层、基板以及位凸起;基板具有印刷以及与印刷相邻设置,印刷覆盖有阻焊层,阻焊层开设有开窗口,开窗口用于裸露基板上的部分铜箔;位凸起设置于位区内,位凸起与基板连接,且位凸起凸出于基板的距离小于或等于阻焊层凸出于基板的距离,其中,位凸起与开窗口相对应,位凸起用于对开窗口进行坐标定位。通过在基板上形成位区内设置用于对开窗口的坐标进行定位的位凸起,实现对开窗口的位置确定,便于激光烧蚀装置对基板上的阻焊层进行开窗操作,使得在制作线路板时省去了使用菲林以及显影液,降低了线路板的生产成本
  • 线路板以及电子通讯装置
  • [发明专利]材的处理方法-CN201310396542.0在审
  • 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;徐清锋 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2013-09-03 - 2015-03-18 - C23C14/34
  • 一种材的处理方法,包括:提供材,所述材包括边缘区域的非溅射;对所述材的非溅射表面进行喷砂处理,形成粗糙面;对所述粗糙面进行熔射处理,在所述非溅射表面形成膜层。经喷砂处理后,材的非溅射表面形成粗糙面;接着,对粗糙面进行熔射处理形成膜层,由于粗糙面凹凸不平,熔化的粉末很容易在粗糙面着陆,而不会滚落。相比于单纯的喷砂处理,经喷砂、熔射处理后的非溅射表面形成的膜层与非溅射表面的粘附性强。在将本技术方案的材应用到真空溅射较长时间时,即使材原子形成堆积,膜层也不会脱落,保持溅射参数稳定。而且,这显著提高了材的使用寿命,最终可提升多于50%的材寿命。
  • 处理方法
  • [发明专利]一种大面弹丸着坐标及速度测量方法-CN201811549512.8有效
  • 姜坤;王青;蒲涛 - 南京理工大学
  • 2018-12-18 - 2021-06-29 - F41J5/02
  • 本发明提供了一种大面弹丸着坐标及速度测量方法,包括:设置两个,每一的两端分别设置若干激光模组和若干激光接收管,激光接收管接收相应激光膜组发射的扇形一字线激光;以第一个发光的激光模组为坐标原点O建立坐标系XOY,其光轴方向为X轴,激光模组组成的阵列方向为Y轴;弹丸穿过由激光组成的光幕,通过弹丸遮挡住光幕的部分识别被遮挡的每个的激光接收管和激光模组的位置坐标;获得弹丸过的位置坐标;根据弹丸通过两个的时差与两个间的距离获取弹丸速度
  • 一种大靶面弹丸坐标速度测量方法
  • [发明专利]溅射沉积设备和方法-CN202080092671.9在审
  • M.伦德尔 - 戴森技术有限公司
  • 2020-11-10 - 2022-08-26 - H01J37/34
  • 一种溅射沉积设备(100),包括:远程等离子体产生装置(106),布置成在溅射沉积(112)内为材料(102)的溅射沉积提供等离子体(120);限制装置,布置成提供限制磁场以基本上将等离子体限制在所述溅射沉积中;设置在所述溅射沉积区内的基板(104);以及一个或多个支撑组件(108),布置成支撑所述溅射沉积中的一个或多个,以便在所述基板上提供材料的溅射沉积;其中,所述限制装置将远程等离子体限制到所述支撑组件,使得在使用中沉积:作为基板上的第一域的材料;作为基板上的第二域的材料;和所述第一域和第二域之间的中间区域,包括材料的混合物。
  • 溅射沉积设备方法
  • [发明专利]溅射沉积-CN202080092664.9在审
  • M.伦德尔 - 戴森技术有限公司
  • 2020-11-10 - 2022-08-19 - H01J37/34
  • 一种溅射沉积设备(100),包括:远程等离子体产生装置(106),布置成在溅射沉积(112)内为材料(102)的溅射沉积提供等离子体(120);限制装置,布置成提供限制磁场以基本上将等离子体限制在所述溅射沉积中;设置在所述溅射沉积区内的基板(104);以及一个或多个支撑组件(108),布置成支撑所述溅射沉积中的一个或多个,以便在所述基板上提供材料的溅射沉积;其中,所述限制装置将远程等离子体限制到所述支撑组件,使得在使用中沉积:作为基板上的第一域的材料;作为基板上的第二域的材料;以及位于所述第一域和第二域之间的中间区域,其中没有材料。
  • 溅射沉积
  • [实用新型]一种具有防脱落结构的材组件-CN202022261548.5有效
  • 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;冯周瑜 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2020-10-12 - 2021-08-13 - C23C14/35
  • 本实用新型提供了一种具有防脱落结构的材组件,所述具有防脱落结构的材组件包括材与背板;所述材的上表面边缘为第一防脱落;所述材的侧面分为第二防脱落与第三防脱落;所述背板的上表面设置有第四防脱落;所述第四防脱落区内设置有至少1个闭合凹槽;所述第一防脱落、第二防脱落、第三防脱落与第四防脱落的表面分别独立地设置有防脱落结构;所述防脱落结构包括滚花结构和/或喷砂结构;所述第一防脱落、第二防脱落、第三防脱落与第四防脱落中至少有1个防脱落的表面设置有滚花结构。本实用新型能够长期且有效地防止材组件在使用过程中反溅射物脱落,从而延长材的使用寿命。
  • 一种具有脱落结构组件
  • [发明专利]一种外源补给型页岩气勘探有利预测方法-CN202310644833.0在审
  • 黄宇琪;张鹏;李涛;杨军伟;刘洪洋;刘承伟 - 中国地质大学(北京);六盘水师范学院
  • 2023-06-01 - 2023-09-12 - G01V11/00
  • 本发明涉及外源补给型页岩气勘探技术领域,且公开了一种外源补给型页岩气勘探有利预测方法包括以下步骤:步骤一:查询地质资料,以地质资料为基础,对含有页岩的区域进行筛分;步骤二:野外地质调查,在进行查询地质资料之后,进行野外地质调查,找寻富有机质页岩层系发育的地区,通过区域地质概况了解该区域的地质特征,进行初步预测勘探的区域;步骤三:页岩气多重勘探。本发明通过设有重力勘探法、磁力勘探法和地震勘探法的配合,利用不同的探测方法对,可以多重推断出外源补给型页岩气存在的位置,并提高推断出外源补给型页岩气存在位置时的准确性,再对页岩气勘探的有利区间进行划分,有利于准确的对外源补给型页岩气勘探进行预测。
  • 一种补给页岩勘探有利预测方法

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