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[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置-CN201510561375.X有效
发明人：孙增标;金基用;王涛;罗丽平;刘会双;姚化礼 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-09-06 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，所述阵列基板包括衬底、以及设置在所述衬底上方的栅极驱动电路和公共电极线，所述栅极驱动电路与所述公共电极线相邻设置，所述公共电极线上设置有至少一个凹槽。本发明通过在公共电极线上制作凹槽，能够有效降低显影液从公共电极线向栅极驱动电路的流动，从而解决了栅极驱动电路中的薄膜晶体管由于显影液分布不均匀而发生的沟道断路问题。
阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]一种掩膜板盒-CN201410206149.5有效
发明人：钱宏伟;金基用;许朝钦;李向峰;孙增标;蔡春月 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-05-15 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板盒，包括用于容置掩膜板的盒体结构；及，能够吸附所述盒体结构内的掩膜板表面上的污染颗粒，以清洁掩膜板的清洁机构，所述清洁机构设置于所述盒体结构上。本发明所提供的掩膜板盒上设置有清洁机构，可以不必开启掩膜板盒的盒盖，直接利用其清洁机构进行掩膜板的清洁工作，具有操作简便、清除污染颗粒效率高等优点，同时，可节省大量的人力成本。
一种掩膜板盒

[发明专利]一种掩模板-CN201410145265.0有效
发明人： 金基用;孙增标;王涛;许朝钦 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-04-11 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板，用以提供一种新型结构的掩模板，避免掩模板上因静电释放而破坏掩模板上掩模图形的问题。所述掩模板包括衬底，以及位于所述衬底上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层，还包括一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线，所述连接线的宽度为0.3～1.5μm。
一种模板

[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、修复方法和阵列基板-CN201310484547.9有效
发明人： 金基用;罗丽平;许朝钦;李正勋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-10-16 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、修复方法和阵列基板，涉及显示技术领域，解决了薄膜晶体管经修复后不能正常工作，以及包括该薄膜晶体管的阵列基板经修复后像素单元成为暗点，影响阵列基板良品率的技术问题。该薄膜晶体管包括栅极、栅极绝缘层、有源层、源极和漏极，所述源极包括相互独立的第一源极部和第二源极部，所述第一源极部和所述第二源极部分别与所述有源层电连接；和/或，所述漏极包括相互独立的第一漏极部和第二漏极部，所述第一漏极部和所述第二漏极部分别与所述有源层电连接。本发明还提供了一种该薄膜晶体管的制作方法、修复方法和包括该薄膜晶体管的阵列基板。
薄膜晶体管及其制作方法修复方法阵列

[实用新型]一种掩模板和曝光系统-CN201520719092.9有效
发明人：罗丽平;刘会双;胡海琛;孙增标;王涛;金基用 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-09-16 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩模板和曝光系统。该掩模板包括第一区和第二区，第一区和第二区内均设置有多个图形化掩模，且第一区内多个图形化掩模的分布密度小于第二区内多个图形化掩模的分布密度；每个图形化掩模包括第一图形、第二图形和两图形之间的狭缝，第一区内的狭缝宽度大于第二区内的狭缝宽度。该掩模板能使透过第二区内狭缝的曝光光线的强度相对于透过第一区内狭缝的曝光光线的强度减小，从而使显示区和非显示区内的晶体管在经过源漏极曝光和显影后，保留在有源区膜层上的光刻胶的厚度趋于一致，进而确保通过刻蚀工艺后非显示区晶体管的有源区不会断开，最终确保非显示区的晶体管能够正常工作。
一种模板曝光系统

[发明专利]一种掩模板及其制备方法和曝光系统-CN201510591876.2在审
发明人：罗丽平;刘会双;胡海琛;孙增标;王涛;金基用 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2015-09-16 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模板及其制备方法和曝光系统。该掩模板包括第一区和第二区，第一区和第二区内均设置有多个图形化掩模，且第一区内多个图形化掩模的分布密度小于第二区内多个图形化掩模的分布密度；每个图形化掩模包括第一图形、第二图形和两图形之间的狭缝，第一区内的狭缝宽度大于第二区内的狭缝宽度。该掩模板能使透过第二区内狭缝的曝光光线的强度相对于透过第一区内狭缝的曝光光线的强度减小，从而使显示区和非显示区内的晶体管在经过源漏极曝光和显影后，保留在有源区膜层上的光刻胶的厚度趋于一致，进而确保通过刻蚀工艺后非显示区晶体管的有源区不会断开，最终确保非显示区的晶体管能够正常工作。
一种模板及其制备方法曝光系统

[实用新型]一种掩模板-CN201420174118.1有效
发明人： 金基用;孙增标;王涛;许朝钦 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-04-11 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩模板，用以提供一种新型结构的掩模板，避免掩模板上因静电释放而破坏掩模板上掩模图形的问题。所述掩模板包括：衬底，以及位于所述衬底上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层，还包括：一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线，所述连接线的宽度为0.3～1.5μm。
一种模板

[发明专利]一种打码系统、方法及装置-CN201410145544.7有效
发明人：黄敬义;许朝钦;金基用;罗丽平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-04-11 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： B41J3/407 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种打码系统、方法及装置，以提高打码精度和打码工艺的稳定性，降低产品的监控管理难度。打码系统包括沿第一方向传送基板的传送基台；对位设备，包括沿第一方向设置的对位导轨、滑动装配于对位导轨上且沿第二方向设置的驱动杆、以及滑动装配于驱动杆上的对位镜头，对位镜头用于采集基板对位标记的位置信息；打码设备，包括与驱动杆平行设置的支撑杆，以及滑动装配于支撑杆上的打码镜头；控制设备，分别与传送基台、对位镜头和打码镜头信号连接，用于根据基板对位标记的位置信息得到传送基台沿第一方向的移位信息和打码镜头沿第二方向的移位信息，控制打码镜头与基板的打码位置框位置相对。
一种系统方法装置

[发明专利]一种掩膜板及其实现曝光接合的方法-CN201210545317.4在审
发明人：周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板及其实现曝光接合的方法，在该掩膜板上用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。因此，通过所述掩膜板进行曝光接合后，会在基板上形成具有特定位置关系的图形，可以根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。本发明掩膜板及其实现曝光接合的方法，均可有效保证曝光接合的精度，因而避免了曝光接合不良的发生。
一种掩膜板及其实现曝光接合方法

[发明专利]关键尺寸测量装置的光量强度调整系统及调整方法-CN201310701218.5有效
发明人：李向峰;金基用;周子卿;贠向南;许朝钦;侯本光;刘会双 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-12-18 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统、关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，属于关键尺寸测量技术领域，其可解决现有的光量强度调整系统光量强度的补正调节效果不佳，光量强度不稳定，无法准确调整补正量的问题。本发明的光量强度调整系统通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作；同时通过设置补正量计算单元准确的计算得到补正量，有利于实现准确的光量强度调整。
关键尺寸测量装置强度调整系统方法

[实用新型]一种支撑脚联动装置、涂胶机和涂胶设备-CN201320609075.0有效
发明人：张振宇;李星火;王涛;金基用;周子卿;郑铁元 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-09-29 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种支撑脚联动装置、涂胶机和涂胶设备。支撑脚联动装置，包括：支撑脚、支撑脚承接结构和升降结构，支撑脚承接结构与支撑脚对应设置，在支撑脚承接结构中设置在支撑脚的下方用于承接支撑脚，且支撑脚承接结构承接支撑脚的部件长短可变；升降结构与支撑脚承接结构对应设置，且设置在支撑脚承接结构的下方，并可穿过支撑脚承接结构进行升降。支撑脚随升降结构下降时，玻璃基板落在载物台上，即使支撑脚连接帽松动，支撑脚在脱离升降结构的支撑作用力后，也会因受重力作用而下降，下降到支撑脚承接结构上，保证支撑脚下降到载物台表面之下，不会造成玻璃基板的异常突起，也不会在涂胶成膜时产生缺陷，还能避免玻璃基板破碎以及涂胶机喷嘴结构受损。
一种支撑联动装置涂胶设备

[实用新型]一种涂胶设备-CN201320573385.1有效
发明人：王涛;吴磊;郑铁元;周子卿;金基用 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-09-16 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：实用新型涉及液晶显示装置制造设备技术领域，公开了一种涂胶设备，包括承载基板的载台，和位于载台上方、可相对载台移动的支架，支架朝向载台的一侧具有对载台上的基板涂胶的喷嘴，还包括两个预喷涂滚轮，沿支架相对载台的移动方向，一个预喷涂滚轮位于载台的一侧，另一个预喷涂滚轮位于载台的另一侧；检测基板表面异物的检测装置，与支架滑动配合；沿支架相对载台的移动方向，检测装置可由支架的一侧移动到支架的另一侧。本实用新型提供的涂胶设备的喷嘴在载台承载面往返一次可以完成两块基板的涂胶作业，缩短了涂胶设备的生产节拍时间，提高了生产效率。
一种涂胶设备

[发明专利]一种基板的全距调控方法和装置-CN201310355960.5有效
发明人：罗丽平;许朝钦;贠向南;金基用;周子卿;孔令燚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-08-15 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板的全距调控方法，包括：根据已完成全部曝光工艺的基板样本的实际全距值，与该基板的期望全距值，获得基板样本的全距变化值；根据全距变化值，对待曝光基板的第一层曝光工艺中的第一层全距初始基准坐标进行调整，得到待曝光基板的第一层全距调整后基准坐标；利用第一层全距调整后基准坐标对待曝光基板进行第一层曝光工艺。上述方法根据基板实际全距值与期望全距值得到的全距变化值，在第一层曝光过程中根据全距变化值对待曝光基板的全距初始基准坐标进行调整，便可实现最终全距相对于热制程等工艺参数变更前无明显变化，或变化量极其微小，采用简单易行的操作实现在液晶盒对盒工艺过程中阵列基板与彩膜基板对盒的精准性。
一种调控方法装置

[发明专利]一种显示面板及其制作方法、显示器-CN201310424465.5有效
发明人：许朝钦;罗丽平;廖燕平;金基用;周子卿 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-09-17 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示器，用以减小显示面板中标识码区域中的通用字符码打码区域的宽度，从而实现了最大程度地减小面板非显示区域的边框宽度，同时在大尺寸拼接面板显示器中减小了拼接面板间的缝宽，确保拼接面板的高品质显示。所述显示面板包括标识码区域，所述标识码区域是由第一区域和第二区域沿第一方向排列组成的不规则区域，其中第一区域用于通用字符码的打码，第二区域用于二维码的打码，在与第一方向垂直的第二方向上，第一区域的宽度小于第二区域的宽度。
一种显示面板及其制作方法显示器

[实用新型]基板传送装置-CN201220647558.5有效
发明人：许朝钦;金基用;周子卿;贠向南;王涛;郑铁元 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-11-29 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板传送装置，涉及传送机构技术领域，解决了在传送基板过程中，现有技术的除静电离子效果不佳，导致基板良品率低的问题。本实用新型中，由于设置了传动轴与滚轮总成，使基板在滚轮总成上传送，而且还设置了向待传送基板的朝向传动轴及滚轮总成的表面喷射离子气体的离子气体喷射单元，使离子气体能够充斥在基板下表面与滚轮总成之间，从而使基板下表面与滚轮总成摩擦产生的静电离子充分接触并中和，提高了除静电离子效果和基板的良品率。
传送装置

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