专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种防雾保鲜膜-CN201210153405.X有效
  • 陈建朝 - 厦门聚富塑胶制品有限公司
  • 2012-05-17 - 2012-09-19 - C08L23/08
  • 也可为A/B型双层结构,按重量百分比,由10%A和90%B组成,或由20%A和80%B组成,或由30%A和70%B组成。也可为A/B/C三结构,按重量百分比,由10%A、80%B和10%C组成,或由20%A、60%B和20%C组成,或由30%A、40%B和30%C组成。本发明不论是单层、双层还是三共挤结构,因在原料中增加防雾剂,故可使保鲜膜具有防雾效果,避免在保鲜膜表面产生雾气,便于消费者看清被保鲜的商品。
  • 一种保鲜膜
  • [发明专利]香味防渗PE保鲜膜-CN201110341363.8有效
  • 陈建朝 - 厦门聚富塑胶制品有限公司
  • 2011-11-02 - 2012-06-20 - C08L23/08
  • 也可为A/B型双层结构,按重量百分比,由10%A和90%B组成,或由20%A和80%B组成,或由30%A和70%B组成。也可为A/B/C三结构,按重量百分比,由10%A、80%B和10%C组成,或由20%A、60%B和20%C组成,或由30%A、40%B和30%C组成。本发明不论是单层挤出结构、双层共挤结构还是三共挤结构,利用香精母料都可以使保鲜膜具有水果味或芳香味,吸引顾客。
  • 香味防渗pe保鲜膜
  • [发明专利]高透明高速MPE弹性膜-CN201110341365.7有效
  • 陈建朝 - 厦门聚富塑胶制品有限公司
  • 2011-11-02 - 2012-06-20 - C08L23/08
  • 也可为A/B型双层结构,按重量百分比,由10%A和90%B组成,或由20%A和80%B组成,或由30%A和70%B组成。还可为A/B/C三结构,按重量百分比,由10%A、80%B和10%C组成,或由20%A、60%B和20%C组成,或由30%A、40%B和30%C组成。本发明不论是单层挤出结构、双层共挤结构还是三共挤结构,只要在其中增加PP,利用PP材料都可以提高薄膜的拉伸强度。本产品拉伸强度达纵向≥10N,横向≥6N。
  • 透明高速mpe弹性
  • [发明专利]互连结构的制造方法-CN201010569402.5有效
  • 周鸣 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2010-12-01 - 2012-06-06 - H01L21/768
  • 一种互连结构的制造方法,包括:提供插塞;在所述插塞上依次形成阻挡、低K介质、硬掩膜低K介质、氧化、硬掩膜和光刻胶;图形化所述光刻胶,形成光刻胶图形;以所述光刻胶图形为掩膜蚀刻所述硬掩膜,形成位于硬掩膜中、且位于插塞上的开口;去除光刻胶图形,依次蚀刻所述开口露出的氧化、硬掩膜低K介质、低K介质,直至露出所述阻挡;去除所述硬掩膜,所述去除工艺相对于氧化和硬掩膜低K介质,对硬掩膜具有较大的选择比
  • 互连结构制造方法
  • [发明专利]电子装置壳体及其制作方法-CN201010146631.6有效
  • 杜琪健;姜传华 - 深圳富泰宏精密工业有限公司
  • 2010-04-14 - 2011-10-19 - H05K5/00
  • 该电子装置壳体包括一基体、一第一金属质感及一第二金属质感,该第一金属质感形成于基体的表面,该第二金属质感形成于第一金属质感的部分表面,该第一金属质感与该第二金属质感均为以真空镀膜的方式形成的不导电该电子装置壳体的制作方法包括如下步骤:提供一基体;在该基体的表面形成一第一金属质感,形成该第一金属质感的方法为真空镀膜;提供一遮蔽,并将该遮蔽粘贴于第一金属质感的表面,该遮蔽形成有镂空区域;再次进行真空镀膜,以在该遮蔽的表面及其镂空区域形成一第二金属质感;揭掉所述遮蔽
  • 电子装置壳体及其制作方法
  • [发明专利]发光器件-CN201110092828.0有效
  • 李善浩;李祥炫;尹浩相;丁钟弼 - LG伊诺特有限公司
  • 2011-04-11 - 2011-10-12 - H01L33/14
  • 发光器件包括:支撑构件;和在支撑构件上并且包括第一导电半导体、第二导电半导体以及插入在第一导电半导体和第二导电半导体之间的有源的发光结构,并且有源包括至少一个量子阱和至少一个阻挡、位于第一导电半导体和至少一个量子阱中离第一导电半导体最近的第一量子阱之间的至少一个势垒;以及形成在至少一个势垒和第一量子阱之间并且具有不同于至少一个阻挡的厚度的厚度的未掺杂的阻挡
  • 发光器件
  • [发明专利]BOPE涂布热封膜-CN201210060843.1有效
  • 褚峰林;江四华 - 湖北富思特材料科技集团有限公司
  • 2012-03-09 - 2012-07-25 - B32B27/08
  • BOPE涂布热封膜,其特征在于:它包括功能、芯和次功能,芯层位于功能与次功能之间,功能、芯和次功能采用共挤出后经双向拉伸而成一体;功能、芯、次功能所占质量百分数为:功能1~8%、芯91~98%、次功能1~5%;功能的材料由各原料所占质量百分数为:醋酸乙酯55%、C9氢化石油树酯10%、茂金属聚乙烯18%、聚乙烯醇13%、氢氧化钠2%、抗氧化剂1%、分散剂1%;芯的材料为线型聚乙烯;次功能的材料为乙烯辛烯共聚物。
  • bope涂布热封膜
  • [发明专利]一种高迁移率衬底结构及其制备方法-CN201010578522.1有效
  • 孙兵;刘洪刚 - 中国科学院微电子研究所
  • 2010-12-08 - 2012-07-11 - H01L29/267
  • 该衬底结构包括单晶硅衬底、缓冲、势垒、铟镓砷单晶、阻挡和锗单晶。所述缓冲置于所述单晶硅衬底之上,所述势垒置于所述缓冲之上,所述铟镓砷单晶置于所述势垒之上,所述阻挡置于所述铟镓砷单晶之上,所述锗单晶置于所述阻挡之上。可以利用本发明,实现硅基衬底上高迁移率铟镓砷和锗结合的CMOS器件,或者在铟镓砷单晶和锗单晶上制备其它高迁移率半导体器件,该衬底结构还可以制备硅基器件以及用势垒制备光电器件等,有利于实现多元半导体器件的单片集成
  • 一种迁移率衬底结构及其制备方法

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