专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]三维存储器及其控制方法-CN202211236030.3在审
  • 宋雅丽;赵向南;闵园园;崔莹 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-01-28 - 2023-01-06 - G11C16/08
  • 本发明涉及一种三维存储器的控制方法,三维存储器包括多个存储串和多条字线,每个存储串包括自上而下依次串联的多个存储单元,每条字线与每个存储串位于相同高度的存储单元相连,方法包括:确定进行编程验证操作的选定字线;以及在编程验证操作时对位于选定字线一侧的第一字线区域施加第一导通电压,且对位于选定字线另一侧的第二字线区域施加第二导通电压;其中,与第一字线区域中的字线相连的存储单元为已编程的状态,与第二字线区域中的字线相连的存储单元为未编程的状态
  • 三维存储器及其控制方法
  • [发明专利]三维存储器及其控制方法-CN202110118819.8有效
  • 宋雅丽;赵向南;闵园园;崔莹 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-01-28 - 2022-10-28 - G11C16/08
  • 本发明涉及一种三维存储器的控制方法,三维存储器包括多个存储串和多条字线,每个存储串包括自上而下依次串联的多个存储单元,每条字线与每个存储串位于相同高度的存储单元相连,方法包括:确定进行编程验证操作的选定字线;以及在编程验证操作时对位于选定字线一侧的第一字线区域施加第一导通电压,且对位于选定字线另一侧的第二字线区域施加第二导通电压;其中,与第一字线区域中的字线相连的存储单元为已编程的状态,与第二字线区域中的字线相连的存储单元为未编程的状态
  • 三维存储器及其控制方法
  • [发明专利]平面单元存储元件的硅化物膜制造方法-CN02154746.7无效
  • 韩昌勋 - 东部电子株式会社
  • 2002-09-05 - 2003-06-11 - H01L21/822
  • 平面单元阵列区硅基片中形成字线和位扩散层、外围电路区硅基片中形成字线和源/漏结,仅除外围电路区之外平面单元阵列区字线间填平间隙填充(Gapfill)绝缘膜,在整个基片形成绝缘膜,干法蚀刻绝缘膜直至露出字线表面和外围电路区基片表面,在外围电路区字线侧壁形成衬垫,平面单元阵列区字线上部形成硅化物膜同时,外围电路区字线上部及基片表面形成硅化物膜。在整个基片形成字线,采用硅化物防护膜保护平面单元阵列区字线之外激活区同时,使全部字线上部和外围电路区激活区露出,进行硅化物工序,可降低字线布线电阻,还可降低外围电路区的源/漏接触电阻,提高高集成度平面单元元件速度
  • 平面单元存储元件硅化物膜制造方法

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