[其他]晶片的生产方法无效

专利信息
申请号: 86107119 申请日: 1986-10-21
公开(公告)号: CN86107119A 公开(公告)日: 1987-04-29
发明(设计)人: 斋藤留一 申请(专利权)人: 三菱金属株式会社;日本硅株式会社
主分类号: C30B33/00 分类号: C30B33/00;B28D5/00
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 杨松坚
地址: 日本东京都千*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 制造晶片的方法,其中包括提供拉伸料棒;将拉伸料棒一个端面加工成第一平坦面;用切片机将料棒从一端沿横向切割成预定厚度的薄片,薄片正反两面分别称为第一平坦面和经过切割所形成的切割面;再以第一平坦面作为基准面,将薄片的切割面加工成第二平坦面,从而制得晶片。
搜索关键词: 晶片 生产 方法
【主权项】:
1、制造晶片的一种方法,其中包括:(a)提供拉伸料棒;(b)将所述料棒的一个端面加工成第一平坦面;(c)用切片机将所述料棒从一端沿横向切割成预定厚度的薄片,薄片正反两面分别称为所述第一平坦面和经过所述切割所形成的切割面;(d)以所述第一平坦面作为基准面,将所述薄片的切割面加工成第二平坦面,从而制得晶片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱金属株式会社;日本硅株式会社,未经三菱金属株式会社;日本硅株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/86107119/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种单晶二维纳米金刚石的表面净化工艺-202310938988.5
  • 闫双伟;李浩;胡勤勤;梁中伍 - 河南省豫星碳材有限公司
  • 2023-07-28 - 2023-10-24 - C30B33/00
  • 本发明涉及一种单晶二维纳米金刚石的表面净化工艺,包括以下步骤:1)纳米金刚石物料先用浓硫酸、浓硝酸和高锰酸钾的混合液进行清洗,清洗温度为220℃‑260℃;2)步骤1)清洗过的纳米金刚石物料再用浓硝酸、HF酸的混合物进行清洗,清洗温度为160℃‑200℃;3)步骤2)清洗过的纳米金刚石物料再用高氯酸进行清洗,清洗温度为220℃‑260℃。本发明可以有效去除单晶纳米金刚石的表面杂质,提高纳米金刚石的纯度和性能,降低纳米金刚石的制备成本,扩大其应用领域。
  • 一种SiC人工晶界合成方法-202310948734.1
  • 张宏亮;宿冉冉 - 复旦大学
  • 2023-07-31 - 2023-10-24 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种SiC人工晶界合成方法,利用单晶碳化硅基片制备任意角度和类型SiC人工晶界的精确方法。制备过程包括以下步骤:首先对单晶SiC基片进行切割,然后对单晶SiC基片进行化学清洗,以去除可能的污染和氧化层;随后,对清洗后的单晶SiC基片进行表面氢化处理,以确保单晶SiC基片在空气中长时间保持无氧化层的状态。最后,将经过氢化处理的单晶SiC基片转移到热压炉中进行压合。本发明通过改进一系列化学清洗和高温氢化处理步骤,确保单晶SiC基片表面保持长时间的洁净状态。配合热压炉的使用,可以精确制备出任意取向的SiC人工晶界。
  • 一种基于p-GaAs衬底上的InN纳米柱的钝化方法、钝化终产物复合结构及其应用-202310354772.4
  • 李国强;梁杰辉;刘沛鑫;罗海妮;王俊锟 - 华南理工大学
  • 2023-04-04 - 2023-09-01 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种基于p‑GaAs衬底上的InN纳米柱的钝化方法、钝化终产物复合结构及其应用。该钝化终产物复合结构包括p‑GaAs衬底、生长在所述p‑GaAs衬底上的In(As)N纳米带。本发明提出的对p‑GaAs衬底上的InN纳米柱的电化学阳极钝化法,能够高效、简单地钝化InN纳米柱中的In原子团簇;同时,钝化终产物复合结构形成的p‑GaAs/In(As)N异质结构满足了析氢电位,增大了内部费米势垒,增强光生载流子分离与转移效率,能显著提高光电转换效率。本发明的p‑GaAs/In(As)N异质结具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。
  • 一种二维氧化物原位钝化钙钛矿单晶表面的方法-202210056684.1
  • 朱京涛;屠洛涔;陈溢祺;吴朱超;周新宇;王添随 - 科晶瑞思(苏州)科技有限公司
  • 2022-01-18 - 2023-08-22 - C30B33/00
  • 本发明提供了一种二维氧化物原位钝化钙钛矿单晶表面的方法。本发明钝化方法具体为:(1)在载体上生长钙钛矿单晶;(2)加热镓铟锡合金至液态,并加入改性金属改善液态合金特性,静置形成自限性薄氧化层;(3)将步骤(1)载有钙钛矿单晶的载体浸入步骤(2)的液态铟锡合金中,使得自限性薄氧化层覆盖所述钙钛矿单晶表面,完成二维氧化物原位钝化。本发明所述二维Ga2O3材料可以显著得减少钙钛矿晶体表面多晶化对其晶体质量造成的影响,并可对钙钛矿晶体起到明显的钝化作用,使得钙钛矿晶体表面缺陷密度降低,提高晶体的物理、电学、光学性能。
  • 氧化镓基板的加工方法-202180080243.9
  • 北市充;浅井义之;冈本浩和;辻本优季 - 三星钻石工业股份有限公司
  • 2021-12-06 - 2023-08-15 - C30B33/00
  • 本发明提供一种能够将氧化镓基板纵横地切断成格子状的实用的氧化镓基板的加工方法。使用主面为(001)面的氧化镓基板,将与主面和(100)面的交线平行的方向设为X方向,沿着与X方向平行的切断预定线通过刻划工具进行在主面上刻设切槽的机械刻划加工,并且通过沿着与Y方向平行的切断预定线扫描激光束而进行使该切断预定线变质的激光刻划加工,以沿着机械刻划加工后以及激光刻划加工后的X方向以及Y方向的切断预定线断开的方式进行切断。
  • 晶片的黑化方法、黑化后的晶片及声表面波滤波器-202080007457.9
  • 刘艺霖;林仲和;林彦甫;黄世维;枋明辉;杨胜裕 - 福建晶安光电有限公司
  • 2020-09-28 - 2023-08-15 - C30B33/00
  • 本申请公开了一种晶片的黑化方法、黑化后的晶片及声表面波滤波器,涉及半导体相关技术领域。该晶片的黑化方法包括:对晶片进行还原性处理;采用紫外光照射晶片预定时间;晶片的黑化均匀性DE值介于0.3~0.6;色度L值介于48~54。在本申请中,利用紫外光辅助晶片的黑化制程,能够有效改善晶片的黑化均匀性DE值及色度L值,进而改善晶片的透射率,并提高晶片黑化的良率。其中,对晶片进行还原性处理及采用紫外光照射晶片预定时间的先后顺序可以互换,这两种方法均能提高晶片黑化的良率。
  • 一种转移大面积无裂纹自支撑氧化物单晶薄膜的方法-202310541101.9
  • 刘明;彭斌;邱瑞玢;董国华;郭筠婷 - 西安交通大学
  • 2023-05-12 - 2023-08-11 - C30B33/00
  • 本发明提供一种转移大面积无裂纹自支撑氧化物单晶薄膜的方法,包括:S1,在单晶衬底上沉积牺牲层,在牺牲层上沉积氧化物单晶薄膜;S2,在氧化物单晶薄膜上沉积金属应力缓冲层;S3,在金属应力缓冲层上涂覆有机支撑层;S4,溶解牺牲层;S5,将牺牲层溶解后得到的氧化物单晶薄膜、金属应力缓冲层以及有机支撑层构成的异质结转移至任意衬底上;S6,溶解有机支撑层;S7,去除金属应力缓冲层。本发明通过引入应力缓冲层均匀释放薄膜内应力,保证转移薄膜的完整性。
  • 一种促钛离子水解制剂及其制备方法与应用-202211686634.8
  • 吴景辉;苏默翰;张建伟 - 哈尔滨博睿创富新材料有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-08-11 - C30B33/00
  • 本发明涉及水解促进剂领域,提供一种促钛离子水解制剂及其制备方法与应用;制备方法步骤包括:制备蒙脱石悬浊液,向蒙脱石悬浊液中加入EDTA,并调节pH至碱性,即得促钛离子水解制剂;本发明通过控制蒙脱石悬浊液的pH值使得钛离子进入蒙脱石间层,进而达到促进钛离子水解的效果,本发明结合高纯钛晶体的生产工艺选择效果显著的配比,既可以有效促进钛离子水解,原料本身使用的化学品也不会成为新的污染源,不会影响高纯钛晶体的指标。
  • 一种管式扩散氧化炉及半导体扩散氧化设备-202310487082.6
  • 彭高攀 - 滁州捷泰新能源科技有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-07-28 - C30B33/00
  • 本发明涉及半导体产品制备领域,公开了一种管式扩散氧化炉及半导体扩散氧化设备,该管式扩散氧化炉包括炉管本体;炉管本体包括沿长度方向依次分布的多个加热区段;每个加热区段的管壁上均铺设有多个主加热条,各个主加热条和炉管本体的长度方向平行;还包括在相邻两个加热区段之间的过渡区段沿管壁设置有辅加热环;辅加热环所在平面和炉管本体的长度方向垂直。本申请中在管式扩散氧化炉内各个加热区段之间的过渡区段进一步地设置辅加热环,减小相邻两个加热区段之间的过渡区段的温度存在较大幅度的下降,也即可在一定程度上提升整个管式扩散氧化炉中温度的均匀性,进而有利于半导体电池等产品的生产质量。
  • 一种平坦化多晶CVD金刚石片及其表面平坦化方法-202310427034.8
  • 孙明辉;刘卓;穆德魁 - 华侨大学
  • 2023-04-20 - 2023-07-18 - C30B33/00
  • 本发明公开一种平坦化多晶CVD金刚石片及其表面平坦化方法,包括如下步骤:将可与金刚石在高温条件下反应生成金属碳化物的金属粉末均匀铺展到多晶CVD金刚石片的表面,而后进行一次热处理,而后再将在高温条件下可催化多晶CVD金刚石片相变为石墨的催化剂粉末均匀铺展到多晶CVD金刚石片的表面,而后进而二次热处理,之后再对多晶CVD金刚石片的表面进行抛光处理。本发明通过分步操作和控制反应条件来实现对多晶CVD金刚石表面进行可调控的平坦化,为后续的多晶CVD金刚石表面进一步抛光处理做好基础工作。
  • 一种钙钛矿微纳晶粒的制备装置、制备方法及其应用-202110404149.6
  • 刘维峰;文伟;刘晓梅;柳华;刘子豪;黄广坤;董天为;郑馨龙 - 海南大学
  • 2021-04-15 - 2023-07-04 - C30B33/00
  • 本发明涉及钙钛矿晶粒的钝化技术领域,尤其涉及一种钙钛矿微纳晶粒的制备装置和制备方法及其应用,所述方法包括:将钙钛矿微纳晶粒放置在激振腔室中斜面的高位处,并在激振腔室中充入保护性气体,然后用封盖将激振腔室的上端开口密封,并保证激振腔室中为正压状态。(2)将激振腔室平放在激振器平台上进行激振,使钙钛矿微纳晶粒从斜面的高位激振到低位,即得。本发明的这种方法采用激振静电发生方法,通过变频激振在晶粒表面生成电荷,改变了表面能带弯曲度,达到表面场钝化效果,并有效降低光生载流子表面复合效应,提升钙钛矿微纳晶粒光生载流子少子寿命,而且可避免对原有晶粒结构的破坏和特性的干扰,避免了化学钝化方法带入杂质的干扰。
  • 一种提高多晶金刚石与结合剂之间界面结合力的方法-202310313938.8
  • 刘璐;张小友;韩顺利;王学峰 - 开封贝斯科超硬材料有限公司
  • 2023-03-28 - 2023-06-27 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种提高多晶金刚石与结合剂之间界面结合力的方法,包括以下步骤:多晶金刚石表面除杂、与稀土氧化物混配、多晶金刚石表面粗化、多晶金刚石清洗,本提高多晶金刚石与结合剂之间界面结合力的方法,利用具有f空轨道的稀土元素易与金刚石C原子成键,产生吸引作用,再利用铁镍合金粉促进金刚石表面C原子上下错位移动,部分转变成石墨相,使得金刚石表面形成坑点,增大粗糙度,有利于多晶金刚石与粘结剂的界面结合,提高把持力,增大使用寿命。
  • 一种氧化炉内惰性气体喷淋装置-202320799930.2
  • 赵承杰;周炳 - 张家港意发功率半导体有限公司
  • 2023-04-12 - 2023-06-23 - C30B33/00
  • 本实用新型公开了一种氧化炉内惰性气体喷淋装置,其包括:进气管接头、第一喷淋管和第二喷淋管,所述第一喷淋管同心设置在第二喷淋管中,所述进气管接头垂直贯穿第二喷淋管并与第一喷淋管相连接,所述第一喷淋管顶部间隔设置有第一喷淋孔,所述第一喷淋管两侧分别设置有延伸至第二喷淋管内壁的喷淋板,所述喷淋板上间隔设置有第二喷淋孔,所述第二喷淋管底部设置有沿长度方向延伸的喷淋口。本实用新型所述的氧化炉内惰性气体喷淋装置,提升了惰性气体喷淋的均匀性,而且结构相对简洁,加工难道低。
  • 智能车间硅片生产方法-202310037744.X
  • 曾佳雄 - 江阴市澳星电气有限公司
  • 2023-01-10 - 2023-05-30 - C30B33/00
  • 本发明涉及新能源硅片材料领域,且公开了智能车间硅片生产方法,包括以下步骤:S1:备料,将晶圆棒的两端头切割掉,并将端面和外壁进行磨平抛光;S2:分类存放,将备好的晶圆棒分割成N个小圆柱体,根据导电性,进行标记分类;S3:割料,将分类好的小圆柱体,切割成小长方体,并进行打磨;S4:成品制作,将S3得到物料进行涂胶并于玻璃粘黏在一起,之后进行切割且不割穿玻璃,保证玻璃与物料始终连在一起,完成成品制作,通过自动的完成多个生产工序中的用料和设备的控制,提升生产效率,降低人为出错概率,能够在线对于当前硅片的生产过程自动控制。
  • 一种SiC晶片的检测系统及其检测方法-202310011436.X
  • 张红梅;胡北辰;唐景庭;张彩云;牛奔;田雅芳;刘彦利;张志耀 - 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所)
  • 2023-01-05 - 2023-05-26 - C30B33/00
  • 本发明涉及一种SiC晶片的检测系统及其检测方法,包括SiC晶锭激光改质仪、改质层视觉检测仪、晶锭NG库、裂纹超声加工仪、晶锭涂胶仪、视觉信息处理计算机、玻璃板粘贴仪、玻璃板位置视觉检测器、胶膜压紧压力控制器、胶膜粘贴质量视觉检测器、晶片完整性视觉检测器、晶片剥离仪、晶片和晶锭NG库、晶锭除胶仪、晶片磨削仪和晶锭磨削仪。本发明可提升晶体加工效率、减少材料损耗,从而显著降低如硅、碳化硅、氮化镓或蓝宝石等衬底的生产成本、提高成品晶圆产量;在线检测对晶锭剥离过程进行监控,对关键工序进行检测分选,对剥离的晶片和晶锭进行分选,能够提高晶片生成成功率,节约生产时间,提高生产效率。
  • 一种用于改善管式热氧化气路的装置-202222302757.9
  • 孟鑫 - 江苏润阳世纪光伏科技有限公司
  • 2022-08-31 - 2023-05-26 - C30B33/00
  • 本实用新型公开了一种用于改善管式热氧化气路的装置,属于太阳能电池领域,所述装置使气体更能均匀的分布在炉管内,从而提高了整个炉管内气体分布的均匀性有助于对热生长的二氧化硅更均匀以达到良好的PID效果。本实用新型装置包括:石英气管、匀流装置;所述石英气管放置于石英炉管内底部,所述石英气管尾部与匀流装置连接,所述匀流装置出口设置均匀分布的匀流气孔。
  • 具有不对称几何形状的单晶碳化硅衬底及其制造方法-202280005650.8
  • 冈本国美;M·伏格尔 - SI晶体有限责任公司
  • 2022-04-14 - 2023-05-16 - C30B33/00
  • 本发明提供了一种具有用于增强衬底抵抗热致变形的刚度的不对称形状的单晶碳化硅衬底,该衬底包括:主区域、以及位于衬底的外围区域并与主区域相邻的不对称区域,其中所述不对称区域相对于主区域向内倾斜,从而为衬底提供不对称形状。本发明还提供了一种生产一片或更多片具有不对称形状的衬底的方法,该方法包括:执行多丝锯切过程,在该过程中,用丝锯网从放置在工作台上的晶锭切割出一片或更多片衬底;并且通过控制丝锯网与工作台之间的相对移动来切割出一片或更多片具有不对称形状的衬底,所述相对移动使得丝锯网描绘横跨晶锭的非直线锯切路径,以切割出不对称形状。
  • 一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法-202310163273.7
  • 许剑锋;刘念;雷凌;张建国;肖峻峰 - 华中科技大学
  • 2023-02-22 - 2023-05-16 - C30B33/00
  • 本发明属于超精密加工领域,并公开了一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法,方法的具体步骤包括:在清洁后的单晶金刚石表面离子镀特定厚度的金属薄膜;利用纳秒脉冲激光对金属薄膜进行烧蚀,当金属薄膜被完全烧蚀后,继续烧蚀,直至所述单晶金刚石上生成石墨层。本发明能够通过在金刚石表面镀金属薄膜,使用合适能量的纳秒脉冲激光烧蚀单晶金刚石,以在单晶金刚石表面形成均匀的石墨层,从而实现对单晶金刚石的均匀化激光烧蚀。
  • 硅片的处理方法-202211613726.3
  • 杨海龙;王力 - 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
  • 2022-12-15 - 2023-05-05 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种硅片的处理方法,包括:将硅片放置于反应腔中;向所述反应腔中通入还原性气体还原所述硅片表面的氧化层;向所述反应腔中通入刻蚀气体刻蚀所述硅片表面。通过还原性气体可以还原所述硅片表面的氧化层,比如二氧化硅;通过刻蚀气体可以刻蚀所述硅片表面,以去除硅片表面的有机物杂质,通过刻蚀能够有效去除有机物杂质,整个硅片表面去除杂质的工艺过程简单,不会带来新的杂质,所需时间短,去除效果好,可以提高硅片外延的沉积质量。
  • 一种粘接、固化及切割一体化的节能型硅棒加工设备-202310048159.X
  • 李磊 - 无锡展照精密机械科技有限公司
  • 2023-01-31 - 2023-05-02 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种粘接、固化及切割一体化的节能型硅棒加工设备,属于硅棒加工技术领域。本发明包括输送机,所述输送机上设置有基板,输送机的一侧设置有涂胶机械臂,所述涂胶机械臂的执行端安装有混胶机,所述输送机中部的一侧设置有上料机械臂,所述输送机上对应上料机械臂的位置处设置有粘接组件,所述粘接组件包括一对固化灯、上立直架、下立直架,所述输送机远离涂胶机械臂的一端安装有一对升降支柱,一对所述升降支柱上滑动设置升降台,所述升降台上设置有分体线割机及下料机械臂,与上立直架中夹块接触段的硅棒中心和与下立直架中夹块接触段的硅棒中心处于同一铅垂线上,硅棒中心与基板平面之间的垂直度得到保证。
  • 一种单晶硅片掩膜制备方法-202211524992.9
  • 张大荣;赵福祥;李宝磊;钱小波;王红娟 - 韩华新能源(启东)有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-05-02 - C30B33/00
  • 本发明涉及一种单晶硅片掩膜制备方法,包括:先对制绒后的单晶硅片的一面生长第一掩膜层,再在第一掩膜层上生长第二掩膜层,其中,第一掩膜层通过热氧方式生长,第二掩膜层通过PECVD方式生长,第一掩膜层和第二掩膜层的材质均为SiOx。本发明提供的单晶硅片掩膜制备方法,先通过热氧方式对制绒后的单晶硅片的一面生长第一掩膜层,再在第一掩膜层上生长第二掩膜层,得到的掩膜层质量高,致密性与均匀性均好;用HF去掉掩膜层后硅片表面外观没有出现小黑点,解决电池片表面小针孔问题,且不损伤硅片表面层。
  • 光学晶体控温装置及LBO晶体倍频装置-202222183122.1
  • 董来喜;张彦鑫 - 威海威高激光医疗设备股份有限公司
  • 2022-08-18 - 2023-04-11 - C30B33/00
  • 本实用新型公开了一种光学晶体控温装置,包括压件和底座,所述压件和所述底座之间形成用于放置光学晶体的放置腔,在所述放置腔相反的两侧分别设置有制冷设备,从所述放置腔相反的两侧对所述放置腔进行吸热。在放置腔相反的两侧分别设置有制冷设备,使得可以从光学晶体相反的两侧进行吸热控温,因此可以使光学晶体从两侧均匀向外散热,以使得光学晶体各区域温度更为接近,综上所述,该光学晶体控温装置能够有效地解决光学晶体各区域温度温差大的问题。本实用新型还公开了一种包括上述光学晶体控温装置的LBO晶体倍频装置。
  • 横向等离子体发生室和多功能高温反应装置-202211616881.0
  • 林政勋;郭轲科 - 江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
  • 2022-12-16 - 2023-03-21 - C30B33/00
  • 本发明提供一种横向等离子体发生室和多功能高温反应装置,涉及半导体技术领域。横向等离子体发生室包括腔体、第一分流板、感应线圈、第二分流板和过滤装置,腔体开设有沿横向布置的进气口和出气口;第一分流板安装在腔体内、且靠近进气口一侧;感应线圈缠绕在腔体上、且位于第一分流板远离进气口的一侧;感应线圈在腔体内对应形成电离区;第二分流板安装在腔体内、且位于感应线圈远离进气口的一侧;过滤装置位于第二分流板与出气口之间且靠近出气口。横向等离体子发生室独立设置,降低了反应腔室与等离体子发生室之间的影响,可以与不同反应腔室组合使用,如应用到多功能高温反应装置,以制备界面态密度低、性能优异的SiC MOFSET器件。
  • 一种单晶稀土六硼化物阴极发射体阵列结构制备方法-202011411368.9
  • 张忻;周宁;张伟;肖怡新;刘维康;刘燕琴 - 北京工业大学
  • 2020-12-02 - 2023-03-21 - C30B33/00
  • 本发明提供了一种单晶稀土六硼化物阴极发射体阵列结构制备方法,该方法将激光加工与机械循环电化学腐蚀相结合,先利用激光直写加工或激光扫描振镜加工对阵列结构进行粗加工,高效获得阵列结构的雏形,后利用机械循环电化学腐蚀方法去除表面激光加工变质层的同时,对雏形进行高质量表面处理进而使尖锥曲率半径减小,最终制得形貌均匀、尖锥曲率半径小、表面质量优的阴极发射体阵列结构。本发明将激光加工技术和机械循环电化学腐蚀方法有机复合到单晶稀土六硼化物阴极发射体阵列结构制备中,充分结合激光、机械和电化学技术的优点,实现对单晶稀土六硼化物表面阵列结构的高效率、高表面质量以及更小尖锥曲率半径的制备。
  • 光学各向同性晶体的湿法辅助-飞秒激光加工纳米孔方法-202211399789.3
  • 陈智;钟理京;王宇莹;杨弈;许贝贝;刘小峰;谭德志;马志军;邱建荣 - 之江实验室;浙江大学
  • 2022-11-09 - 2023-03-07 - C30B33/00
  • 本发明公开了一种光学各向同性晶体的湿法辅助‑飞秒激光加工纳米孔方法。在目标加工物的光学各向同性晶体上通过光学接触放置一块更厚光学各向同性晶体作为球差增强辅助物,飞秒激光透射经过球差增强辅助物后入射并聚焦到目标加工物内产生自聚焦拉丝效应,而诱导材料局域改性成纳米拉丝诱导区域;再用特定酸性溶液湿法刻蚀,使纳米拉丝诱导区域被刻蚀形成孔径可控、高深‑径比的纳米孔。本发明可对任意光学各向同性晶体内部三维空间进行诱导加工,还可调节制备高深‑径比的纳米孔结构,克服了传统方法只能在材料表面加工低深‑径比的纳米孔结构缺点,制备更小尺寸、均一、可控的纳米孔结构,具有高效、稳定、低廉的三维空间可控的纳米加工特点。
  • 二维氮化镓晶体的制备方法-202211351439.X
  • 吴伟汉;宋文涛;徐耿钊;刘争晖;张春玉;陈科蓓;韩厦;徐科 - 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2022-10-31 - 2023-01-31 - C30B33/00
  • 本发明揭示了一种二维氮化镓晶体的制备方法,所述制备方法包括:S1、制备二维硒化镓或二维硫化镓晶体;S2、将二维硒化镓或二维硫化镓晶体置于等离子体发生装置的真空腔室中,并通入氮源使二维硒化镓或二维硫化镓晶体发生氮化反应,用氮原子替换硒原子或硫原子,得到二维氮化镓晶体。本发明通过对二维硒化镓或二维硫化镓晶体进行氮化,用氮原子替换硒化镓中的硒原子或硫化镓中的硫原子,可以实现二维氮化镓的低温生长,且可以控制氮化镓的生长厚度,生长出来的氮化镓结晶性好且高度平整,为高性能器件的制备奠定了良好的基础。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top