[发明专利]一种可调节阈值电压的平面型碳化硅MOSFET及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210244830.3 申请日: 2022-03-14
公开(公告)号: CN114361242B 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 李翔;吴文杰;何浩祥;刘毅 申请(专利权)人: 芯众享(成都)微电子有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 成都鼎胜专利代理事务所(普通合伙) 51356 代理人: 李想
地址: 610000 四川省成都市中国(四川)*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种可调节阈值电压的平面型碳化硅MOSFET及其制备方法,属于半导体的技术领域,该平面型碳化硅MOSFET通过将N+区在栅极下的边缘部分的掺杂浓度降低,以在N+区边缘形成一个低注入剂量区,同时,该平面型碳化硅MOSFET的制备方法,其通过在传统的高剂量N+注入步骤前,增加一次低剂量自对准注入,进而在N+区边缘形成一个低注入剂量区,进而降低在低栅压下的源漏电流,以实现从技术上提高阈值电压,同时又不显著影响器件的导通电阻,解决了目前面临阈值电压和导通电阻相矛盾的问题。
搜索关键词: 一种 调节 阈值 电压 平面 碳化硅 mosfet 及其 制备 方法
【主权项】:
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