[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法、包括薄膜晶体管的显示设备在审

专利信息
申请号: 202011551240.2 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN113054034A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 张宰满;尹弼相;卢智龙;赵寅晫 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34;H01L27/12;H01L27/32;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高岩;陈炜
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种薄膜晶体管、包括薄膜晶体管的显示装置和用于制造薄膜晶体管的方法。薄膜晶体管,包括:有源层;以及栅电极,栅电极与有源层间隔开并且被构造成具有与有源层交叠的至少一部分,其中,有源层包括:硅半导体层;以及与硅半导体层接触的氧化物半导体层,其中,硅半导体层的至少一部分和氧化物半导体层的至少一部分与栅电极交叠。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法 包括 显示 设备
【主权项】:
暂无信息
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