[发明专利]一种大角度低漂移滤光片的磁控溅射镀膜方法在审
| 申请号： | 201910528274.0 | 申请日： | 2019-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN110273126A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 张威;马帅;刘年生;周常河;丁自强;谢才林 | 申请（专利权）人： | 江苏星浪光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/10;C23C14/35;C23C28/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 225600 江苏省扬州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种偏移范围小、识别精度高、生产能耗低、生产效率高的大角度低漂移滤光片的磁控溅射镀膜方法，本发明采用滚筒式双腔溅射镀膜机，内腔为溅射腔，外腔为装卸腔，大气压下，将基片装入装卸腔的镀膜机滚筒上，镀膜面朝外；抽气，当溅射腔和装卸腔的真空达到9.0*10‑3Pa～8.0*10‑3Pa时，基片随镀膜机滚筒进入溅射腔；当溅射腔真空达到8.0*10‑5Pa～2.0*10‑5Pa时，打开溅射源，通入氩气，同时打开离子源，通入氢气、氮气，在基片上形成氮掺杂氢化非晶硅层(α‑Si:H)N2；打开溅射源，通入氩气，同时打开离子源，通入氧气，在基片上形成氧化硅层；依次反应，形成氮掺杂氢化非晶硅与氧化硅的交替叠层结构；最后在蒸发镀膜机上，在工件反面，镀相应波长的长波通。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射腔 装卸腔 磁控溅射镀膜 氩气 氮掺杂 低漂移 镀膜机 溅射源 离子源 滤光片 滚筒 氮气 氢化非晶硅层 溅射镀膜机 氢化非晶硅 交替叠层 生产能耗 生产效率 氧化硅层 蒸发镀膜 氢气 长波通 镀膜面 滚筒式 氧化硅 偏移 波长 朝外 抽气 内腔 双腔 外腔 装入 氧气 | ||
【主权项】：
1.一种大角度低漂移滤光片的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一，采用滚筒式双腔溅射镀膜机，内腔为溅射腔(1)，外腔为装卸腔(2)，大气压下，将基片装入装卸腔(1)的镀膜机滚筒(5)上，镀膜面朝外；步骤二，抽气，当溅射腔(1)和装卸腔(2)的真空达到9.0*10‑3Pa～8.0*10‑3Pa时，基片随镀膜机滚筒(5)进入溅射腔(1)；步骤三，当溅射腔(1)真空达到8.0*10‑5Pa～2.0*10‑5Pa时，打开溅射源(3)，通入氩气(9)，同时打开离子源(2)，通入氢气(6)、氮气(8)，在基片上形成氮掺杂氢化非晶硅层(α‑Si:H)N2；步骤四，打开溅射源(3)，通入氩气(9)，同时打开离子源(2)，通入氧气(7)，在基片上形成氧化硅层；步骤五，重复步骤三和步骤四，形成氮掺杂氢化非晶硅(α‑Si:H)N2与氧化硅的交替叠层结构；步骤六，在蒸发镀膜机上，在工件反面，镀相应波长的长波通。
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- 本发明涉及一种AlCrSiCuN纳米复合刀具涂层及其制备方法，属于薄膜材料技术领域；本发明的AlCrSiCuN纳米复合刀具涂层成分如下：Al：18～29at.％Cr：19～30at.％Si：6～9at.％Cu：0～12at.％N：46～55at.％；其制备方法是采用阴极电弧离子镀技术和高功率脉冲磁控溅射技术(HIPPIMS)，在硬质合金刀具表面镀覆AlCrSiCuN纳米复合刀具涂层制备而成，该AlCrSiCuN刀具纳米复合涂层通过引入Cu元素来制备涂层，实现性能提升的目的，具有高硬度，在高温下具有低摩擦系数，高韧性，优越的干切削性能，在高速切削及表面防护领域具有重大的应用前景。
- 涂布的基材-201910116587.5
- A.艾萨里安;P.霍瑟比安;D.S.瑞克比;M.迪克森 - 劳斯莱斯有限公司
- 2019-02-15 - 2019-08-23 - C23C14/06
- 一种涂布的基材，包括金属或金属合金诸如高速钢、TiAl基合金或Ni基合金或导电陶瓷材料，其中所述涂层包含硬质材料保护涂层，所述硬质材料保护涂层包含不同组合物的交替层，其中所述交替层的第一组合物包含硅Si，和/或所述交替层的第二组合物包含硼B。
- 一种Ag-MAX相纳米复合镀层及其沉积方法-201710339920.X
- 宋忠孝;张庆丰;孙宇;邓子豪;关博远;庄智鸿;崔笑千;朱学政;周学松 - 西安交通大学
- 2017-05-15 - 2019-08-23 - C23C14/06
- 本发明公开了一种Ag‑MAX相纳米复合镀层及其沉积方法，以铜触头为基体，Ag‑MAX相复合材料为靶，采用脉冲激光沉积方法，在触头基体表面形成100nm～10um的致密、两相均匀的纳米复合材料。利用MAX相作为陶瓷材料优异的弹性模量及硬度，可以提高Ag触头的耐电弧烧蚀性及抗熔焊性；其优异的自润滑性有利于延长触头的使用寿命。本方法可以通过控制激光脉冲数控制镀层厚度，通过控制靶材成分来控制镀层成分，可以得到不同配比的复合材料镀层。实验表明，本方法可以获得具有纳米晶结构的、两相分布均匀的Ag基复合材料，保证电导率的同时有效提高硬度、耐磨性和抗烧蚀性，可以延长使用寿命，有较大的应用推广价值。
- 一种室外配电电缆低压派接箱保护壳体及其制备方法-201710416917.3
- 于源;张东;刘宝贵;谷彩连;曹福毅;尹常永;衣云龙;王黎明;李丰鹏;孟垂懿;黄硕;杜士鹏 - 沈阳工程学院
- 2017-06-06 - 2019-08-23 - C23C14/06
- 本发明涉及一种室外配电电缆低压派接箱保护壳体及其制备方法，所述室外配电电缆低压派接箱保护壳体表面由内向外依次沉积MgO保护薄膜和TiSiN保护薄膜，得到具有TiSiN/MgO双层保护薄膜的室外配电电缆低压派接箱保护壳体，MgO保护薄膜的厚度300nm～500nm，TiSiN保护薄膜的厚度400nm～800nm；本发明采用TiSiN保护薄膜配合MgO保护薄膜涂层具有比重轻、抗腐蚀、耐老化、密封性能好，安全美观，具有全天候防护功能，能够满足室外工程项目中各种恶劣环境和场所的需要，克服了户外金属配电电缆低压派接箱保护壳体的易锈蚀、寿命短和隔热保温性能差等缺陷。
- 掺杂CaF2的TiB2涂层、CaF2和TiB2复合涂层、其制备方法和应用及刀具-201711019913.8
- 唐永炳;蒋春磊;石磊 - 深圳先进技术研究院
- 2017-10-25 - 2019-08-23 - C23C14/06
- 本发明公开了一种掺杂CaF2的TiB2涂层、CaF2和TiB2复合涂层、其制备方法和应用及刀具，涉及陶瓷涂层技术领域。该掺杂CaF2的TiB2涂层中CaF2含量为10～30at％；CaF2和TiB2复合涂层为包括交替排列的掺杂CaF2的TiB2涂层和CaF2层的多层结构；涂层采用磁控溅射方法制备。本发明缓解了现有TiB2涂层或掺杂金属的TiB2复合涂层耐磨性和韧性较差、涂层刀具加工有色金属时容易粘刀的问题，本发明通过在TiB2涂层中掺杂10～30at％的CaF2不仅赋予涂层优秀的耐磨性和抗断裂韧性，而且大幅度降低了加工时的粘屑现象，与CaF2层形成交替层状结构的高韧性、高耐磨性的硬质复合涂层。
- 具有镜面光泽的PVD处理工艺-201910297641.0
- 陈杰锋;丁斐 - 东莞市旺鑫精密工业有限公司
- 2019-04-15 - 2019-08-16 - C23C14/06
- 本发明涉及PVD处理工艺技术领域，具体涉及具有镜面光泽的PVD处理工艺，包括前处理：对基材进行清洗，风干预处理；抛光：对基材表面进行抛光处理；清洗：对基材抛光后进行清洗；喷涂反光漆：对基材进行真空喷涂反光漆；红外线烘烤：烘烤时间4‑6min；紫外固化：在紫外固化室对底漆进行固定，清洗：对固化后的基材进行清洗；静电除尘；制备TiN、SiN交替层：通过磁控溅射制备TiN、SiN交替层；注入高能离子：通过离子注入机注入高能离子。本发明通过喷刷反光漆使得基体达到反光效果，通过TiN、SiN交替生长，TiN、SiN交替层晶体结构产生晶化，通过往TiN、SiN交替层注入TiN和SiN离子，高能离子对TiN、SiN交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应。
- 一种金色及玫瑰金色氮化物涂层的制备方法-201710027850.4
- 王周成;吴正涛;魏斌斌;张东方 - 厦门大学
- 2017-01-16 - 2019-08-16 - C23C14/06
- 一种金色及玫瑰金色氮化物涂层的制备方法，涉及氮化物涂层。在铝合金及钛合金基体表面沉积金属Zr过渡层；反应溅射沉积金色(Zr,Al)N涂层；反应溅射沉积玫瑰金色(Zr,Si)N涂层。在经过离子源轰击清洗的铝合金及钛合金基体表面，沉积含0～15at.％Al的(Zr,Al)N涂层，可得到结构均匀的金色氮化物涂层，涂层颜色L*值为81.4～89.3，a*值为3.8～6.1，b*值为10.3～18.1；沉积含0～16.4at.％Si的(Zr,Si)N涂层，可得到结构均匀的玫瑰金色氮化物涂层，涂层颜色L*值为73.4～83.7，a*值为8.8～12.9，b*值为‑0.3～21.1。
- 一种硒化锡薄膜的制备方法-201910420412.3
- 丁利苹;杨林泰;张方辉;代康 - 陕西科技大学
- 2019-05-20 - 2019-08-13 - C23C14/06
- 本发明公开了一种硒化锡薄膜的制备方法，包括以下步骤：将锡原料和硒原料置于不同的反应舟中，再将反应舟和基片置于真空镀膜机内，挡板复位遮住两个反应舟；将真空镀膜机内温度升至685‑750℃，打开遮住硒反应舟的挡板，使硒原料蒸发到基片上形成硒膜，复位硒反应舟的挡板；将真空镀膜机内温度升至2000‑2500℃，打开遮住锡反应舟的挡板，使锡原料蒸发到硒膜上形成锡膜，复位锡反应舟挡板；重复上述过程，直至基片上形成的硒膜和锡膜的总厚度达到18‑22nm时即得到硒化锡薄膜。本发明直接用硒和锡原料通过蒸镀法制备硒化锡薄膜，没有使用任何化学还原剂，安全环保，制备工艺路线简易，具备广泛的应用前景。
- 耐腐蚀部件-201780078712.7
- 奥平宏行 - SMC株式会社
- 2017-09-01 - 2019-08-13 - C23C14/06
- 耐腐蚀部件(10)具备由铝或铝合金构成的基材(16)；形成于基材(16)的表面的由非晶碳(a‑C)或氢化非晶碳(a‑C:H)构成的类金刚石碳膜(18)；以及至少填充于类金刚石碳膜(18)的开气孔(24)且含有环氧树脂的涂布材料(20)。
- 专利分类
