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[发明专利]一种树脂片上AR镀膜工艺-CN202111098085.8有效
发明人：王刚;叶炜昊;张亚星;万维岩 -专利权人：浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种树脂片上AR镀膜工艺。本发明工艺通过将大尺寸树脂片切割成小尺寸树脂片小片，然后贴上UV膜进行AR镀膜，镀膜时对功率和每次镀膜的间隔时间进行严格控制，防止出现温度超过85℃，导致树脂片的特性发生改变，减小产品发生的形变，防止造成产品表面膜裂，提升产品的加工质量，提升良品率。
一种树脂 ar 镀膜工艺

[发明专利]一种二氧化硅靶材及其制备方法和应用-CN202310992604.8在审
发明人：姚力军;潘杰;王佳乾;廖培君;杨慧珍 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2023-08-08 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明提供一种二氧化硅靶材及其制备方法和应用，所述制备方法包括以下步骤：1)对二氧化硅靶坯、背板和焊料进行分段加热，然后对所述二氧化硅靶坯和背板进行浸润处理，使焊料分别浸润所述二氧化硅靶坯的焊接面和所述背板的焊接面；2)将浸润处理后的所述二氧化硅靶坯扣合在浸润处理后的所述背板上，并在所述二氧化硅靶坯的溅射面上放置压块加压，实现焊接；3)冷却，对焊接组件进行整平处理，得到所述二氧化硅靶材。本发明提供了一种操作简单且成本低的方法，不仅缩短了焊接周期，提高了焊接效率，使得焊接结合率≥97％，焊接后的平面度小于1mm，而且解决了靶材变形以及开裂问题。该二氧化硅靶材磁控溅射过程稳定，可满足使用要求。
一种二氧化硅及其制备方法应用

[发明专利]一种低折射率镀膜材料及其制备方法-CN202310593086.2在审
发明人：梁小生;万一兵;梁楚军;黄洪浜 -专利权人：湖南戴斯光电有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种低折射率镀膜材料及其制备方法，涉及光学镀膜材料的领域。镀膜材料包括以下原材料：氟化镁、纳米二氧化硅、氧化铝、氟化钇、氟化钕、氟化镨钕。本申请在镀膜材料中加入了氟化钕、氟化镨钕和氟化钇，氟化钕和氟化镨钕的加入后在镀膜的过程中与氟化镁和纳米二氧化硅等同时蒸发并沉积在基底表面，通过氟化钕和氟化镨钕的共同作用可以抑制氟化镁在沉积过程中的定向生长的问题，进而形成更加均匀的光学膜层，同时提升膜层在基底上的附着效果。氟化钇在镀膜过程中可以形成更加致密的膜层，并且成膜均匀，在提升膜层均匀性的同时增强附着力。另外，氟化钇的加入还可以改善氟化钕和氟化镨钕的吸湿问题，提升镀膜材料的稳定性。
一种折射率镀膜材料及其制备方法

[实用新型]一种功能薄膜-CN202320433816.8有效
发明人：尤俊衡;李俊华;艾其波;张东东 -专利权人：安徽亦高光电科技有限责任公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种功能薄膜，包括Sio2层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层，所述调色层设在Sio2层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层，所述氮化碳膜层和耐磨层之间均设有过渡层。本实用新型使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。
一种功能薄膜

[发明专利]溅射靶构件及其制造方法、溅射膜的制造方法、以及磁控溅射装置-CN202180085168.5在审
发明人：今野善纪;铃木嗣人 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明提供溅射靶构件，其可进行均匀的溅射，同时可高效使用靶母材。一种溅射靶构件，其特征在于：其是具备靶母材层的溅射靶构件，以不暴露于上述靶母材层的溅射面的方式，进一步具备含有磁性材料的磁性层。
溅射构件及其制造方法以及磁控溅射装置

[发明专利]光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法-CN202310374496.8在审
发明人：赵明华;汪达文;沈妙杰;汪经纬 -专利权人：深圳森丰真空镀膜有限公司
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法。其中，所述制备方法包括以下步骤：S1、采用TiO2层和SiO2层的多层叠加模式，在真空靶材室内进行真空溅射镀膜，制备出具有单一颜色的第一薄膜；S2、冷却出炉，将所述第一薄膜放置在镀膜冶具上，调整第一薄膜与所述镀膜冶具的遮挡距离；S3、在所述第一薄膜上沉积TiO2和SiO2层，直至出现第二种颜色，得到光学炫彩渐变色薄膜。其中，在S1中沉积的最后一层涂层和S3中沉积的第一层涂层相同。本发明提供的一种光学炫彩渐变色薄膜既具有良好的渐变美观效果，同时又获得了高耐磨性，能够广泛应用于多种产品的外观装饰件上。
光学渐变薄膜及其制备方法

[发明专利]一种兼容可见光和红外隐身涂层及其制备方法和应用-CN202310196453.5在审
发明人：李杨;于冬梅;吴晓宏;卢松涛;秦伟;洪杨 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种兼容可见光和红外隐身涂层及其制备方法和应用，属于功能薄膜材料及其制备技术领域。本发明解决了现有可见‑红外兼容隐身材料中存在耐温性差、阻碍辐射散热以及耐腐蚀性差等技术问题。本申请通过膜系优化设计，提供了一种具有周期性多层膜结构的涂层，在周期交替叠加结构的最上层设置可见光隐身膜层，该涂层可较好地实现可见光范围内的高吸收率和红外范围内的低发射率。周期性多层膜结构由高折射率材料层和低折射率材料层组成，可以有效的降低涂层在红外波段的温度。此外，涂层厚度不大于2μm，具有质轻的优点，整体涂层厚度较均匀，表面光滑、均匀致密，且无明显孔洞和缺陷，有效提高了涂层的耐腐蚀性能。
一种兼容可见光和红外隐身涂层及其制备方法应用

[发明专利]一种减反射膜及其生产工艺-CN202110676673.9有效
发明人：王军;何茵 -专利权人：浙江三海微纳科技有限公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种减反射膜，包括基层与设置在基层上的防反射层，所述防反射层包括AR膜层与AF膜层，所述AR膜层包括三层SiO2层与两层Nb2O5层，两层所述Nb2O5层分别夹在三层SiO2层之间，一侧的所述SiO2层固定在基层上，所述AF膜层固定在另一侧的SiO2层上；其生产工艺为通过A、清洗，B、镀AR膜，C、镀AF膜，D、存放检测，四个步骤完成生产。本发明具有如下有益效果：通过三层SiO2层与两层Nb2O5层叠加的AR膜与表面的AF膜，在保证手机屏幕具有优良的防油污性能与高的耐磨性能的前提下，进一步提高了手机屏幕的清晰度。
一种减反射膜及其生产工艺

[发明专利]一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺-CN202310178031.5在审
发明人：甄元石;尉士民 -专利权人：深圳市端天科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明提供一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1：选择低温镀膜室，低温镀膜室内设置有SiOx镀膜区以及ITO镀膜区，其中x为常数，且0≦x≦2，将PET基材放入放卷室内；步骤S2：向SiOx镀膜区通入一定量的氩气，采用电压控制模式，向ITO镀膜区分别通入氩气和氧气的混合气体，并通过气体反应控制器控制氧气通入量，控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为1.5～5％，步骤S3：将PET基材在低温镀膜室的放卷室内依次经过SiOx镀膜区、ITO镀膜区；步骤S4：对镀膜完成后的PET基材进行收取，本发明通过控制合适的镀膜速度、控制氧气通入量在气体总通入量中的占比、ITO靶溅射功率和ITO靶材中In2O3和SnO2的比例，缩短加热老化时间。
一种结晶 ito 电容镀膜工艺

[发明专利]一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法-CN202111071468.6在审
发明人：刘保剑;段微波;郑玉祥;李大琪;余德明;蔡清元;刘定权 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，涉及光学薄膜技术领域。其包括步骤：制备Si膜层和SiO2膜层，获取所述膜层的第一光学厚度，进行退火处理；获取经退火处理后的Si膜层和SiO2膜层的光学常数及第二光学厚度；根据所述光学常数，计算滤光片的膜系；根据光学厚度的变化量，计算所述滤光片的修正监控膜系；在修正监控膜系的光学监控下制备所述滤光片，并进行退火处理，制得近红外滤光片。本发明提供的一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其制备的近红外滤光片具有高透过率和高环境稳定性等优点。
一种用于空间遥感系统红外滤光制作方法

[发明专利]抗氧化结构及形成抗氧化结构的方法-CN202210314627.9有效
发明人：冯雪;王锦阳;张金松;岳孟坤 -专利权人：清华大学
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本公开提供了一种抗氧化结构及形成抗氧化结构的方法。该抗氧化结构包括基体和封闭微结构，所述封闭微结构是上下方向上的两端开口的腔体，并且所述封闭微结构的下端设于所述基体表面，在所述基体的表面上在所述封闭微结构的内部和外部形成氧化膜时，形成于所述封闭微结构的内部的所述氧化膜受到压应力，以使氧化膜厚度增长率减小。通过采用上述技术方案，能够减小抗氧化结构的基体的表面上的形成于封闭微结构的内部的氧化膜的增长率，减缓抗氧化结构的基体在封闭微结构内部的氧化进程，实现对基体的表面抗氧化性的选择性提升，从而为热防护材料的设计提供指导、为材料的性质调控提供有力手段。
氧化结构形成方法

[发明专利]一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法-CN202211084868.5在审
发明人：屠国力;田楠;林养唐;任毅;屠楠 -专利权人：深圳市氟德特科技有限公司
申请日： 2022-09-06 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法，包括如下步骤：S1，240～260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积SiO2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；S2，在SiO2层表面磁控溅射ITO膜层，ITO膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。本发明通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置SiO2层和ITO膜层，形成复合涂层结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。
一种降低透明 cpi 黄色指数工艺方法

[发明专利]一种可编程彩色超表面器件及其制备方法-CN202211313639.6在审
发明人：胡超权;李瑞凡;王磊 -专利权人：吉林大学
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明属于超表面器件制备技术领域，具体涉及一种在全可见光范围连续调制的可编程彩色超表面器件及其制备方法，该可编程彩色超表面器件包括依次设置在衬底上的反射层、介质层和相变材料层、保护层；相变材料层上设置有光栅结构；相变材料层是在整个可见光波段具有介质非晶态到金属结晶态转变性质(DMT)的硫系相变材料，硫系相变材料是具有少量重原子M掺杂的立方相GeTe基固溶体Ge1‑xMxTe相变材料薄膜，其中M为Sn、In、Bi、Pb、Sb中的至少一种。本发明从根本上解决了基于相变材料的可编程、可重构超表面器件颜色调制无法覆盖整个可见光波段的瓶颈问题，制备的超表面器件具有其谐振峰和颜色在整个可见光波长范围内连续调制、可灵活编程等优点。
一种可编程彩色表面器件及其制备方法

[发明专利]复合膜、覆膜产品及其制备方法、应用-CN202210953288.9在审
发明人：易伟华;张迅;阳威;刘松林;张远浪;李景艳;张论;欧阳小园 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2022-08-10 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种复合膜，包括层叠设置的二氧化硅膜层、氧化铟锡膜层、氮化硅膜层以及防指纹膜层，所述氧化铟锡膜层设置于所述二氧化硅膜层之上，所述氮化硅膜层设置于所述氧化铟锡膜层之上，所述防指纹膜层设置于所述氮化硅膜层之上。复合膜具有良好的导电特性和防静电功能，将其应用于电子触摸屏等电子产品生产领域中，能够将因人体触摸传递到电子产品屏幕表面的电荷及时导走，避免电荷积累产生静电危害。
复合产品及其制备方法应用

[发明专利]一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法-CN201911146648.9有效
发明人：姜玉刚;刘华松;陈丹;王利栓;何家欢 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法，属于技术领域。本发明提供一种高性能窄带滤光薄膜的制备方法，将制备滤光薄膜的透过率曲线与相近的理论曲线进行对比分析，通过对滤光薄膜的间隔层沉积时间进行修正，实现高性能窄带滤光薄膜的制备。本发明对于不同工作波长不同带宽的窄带滤光薄膜的制备具有普适性。
一种性能窄带滤光薄膜制备方法

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