[发明专利]气体处理系统、气体处理方法及原子层沉积设备

摘要

本发明提供一种气体处理系统、气体处理方法及原子层沉积设备，该系统包括：第一气路，用于向反应腔室内通入第一工艺气体；在第一气路上设置有第一开关；第一旁路，其进气端与第一气路连接，用于排出第一气路中的第一工艺气体，使之不流入反应腔室；在第一旁路上设置有第二开关；第二气路，用于向反应腔室内通入第一吹扫气体；在第二气路上设置有第三开关；第二旁路，其进气端与第二气路连接，用于排出第二气路中的第一吹扫气体，使之不流入反应腔室；在第二旁路上设置有第四开关。本发明提供的气体处理系统，其可以平衡腔室压力，从而避免因泵口压力突然增加而产生气体回流至腔室的现象，造成腔室的颗粒污染严重。