[发明专利]处理方法、处理装置以及处理程序有效

专利信息
申请号: 201710491214.7 申请日: 2017-06-23
公开(公告)号: CN107543836B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 小中尚;姫田章宏;光永彻;长尾圭吾 申请(专利权)人: 株式会社理学
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 高颖
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供处理方法、处理装置以及处理程序,能够通过较少次数的φ扫描以极像图的α无重复的方式连续地进行极图测定,从而能够进行高效的测定。在决定基于X射线衍射的极图测定的条件的处理方法中,包括如下步骤:接受衍射角2θ的输入的步骤;针对样本面内的旋转角φ决定各φ扫描中的入射X射线与x轴所成的角ω以及样本的摇摆倾斜角χ的步骤,以使得在所输入的2θ下的极图测定中,在二维的检测面230a中一次所能够检测到的散射矢量与样本面所成的角α的范围从α=90°向α=0°无重复地连续,反复进行ω以及χ的决定。
搜索关键词: 处理 方法 装置 以及 程序
【主权项】:
一种处理方法,决定基于X射线衍射的极图测定的条件,所述处理方法的特征在于,包括如下步骤:接受衍射角2θ的输入的步骤;和针对样本面内的旋转角φ决定各φ扫描中的入射X射线与x轴所成的角ω以及样本的摇摆倾斜角χ的步骤,以使得在所输入的所述2θ下的极图测定中,在二维的检测面中一次所能够检测到的散射矢量与样本面所成的角α的范围从α=90°向α=0°无重复地连续,在所述处理方法中,反复进行所述ω以及所述χ的决定。
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