[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置

摘要

本发明提出了薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置。该方法包括：在基板的一侧依次形成缓冲层和图形化后的源漏电极；在缓冲层和源漏电极的远离基板的一侧，形成光刻胶层；从基板远离光刻胶层的一侧，对光刻胶层进行曝光和显影处理，以得到光刻胶图案；在缓冲层和光刻胶图案的远离基板的一侧，依次形成半导体层、第一绝缘层和导电层；去除光刻胶层，以获得有源层、栅极绝缘层和栅极；其中，基板和缓冲层由透光材料形成。本发明所提出的制作方法，通过背面曝光光刻胶层的方式，可省去一次光掩模，简化工序、降低制作成本，且制备的薄膜晶体管直接利用金属作为源漏导电区域，无需额外的导电化技术，解决了源漏电极导电化效果稳定性差的问题。

主权项

1.一种制作薄膜晶体管的方法，其特征在于，包括：在基板的一侧依次形成缓冲层和图形化后的源漏电极，且所述源漏电极不被紫外线穿过；在所述缓冲层和源漏电极的远离所述基板的一侧，形成光刻胶层，且所述光刻胶层由正性光刻胶形成；从所述基板远离所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以得到光刻胶图案；在所述缓冲层和所述光刻胶图案的远离所述基板的一侧，依次形成半导体层、第一绝缘层和导电层；去除所述光刻胶层，以获得有源层、栅极绝缘层和栅极；其中，所述基板和缓冲层由透光材料形成。