[发明专利]研磨垫以及研磨方法在审
| 申请号： | 201680038710.0 | 申请日： | 2016-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107708926A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 森永均;玉井一诚;田原宗明;浅井舞子;伊藤友一 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨垫，其在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨时，能够充分研磨至研磨对象物的表面中凸部的附近部分、凹部的内表面。研磨垫具有立毛部(1)，所述立毛部(1)是多个长度为2mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的，纤维(12)的质量为250g/m2以上。该研磨垫用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部(21)和凹部(22)中的至少一者的研磨对象物(2)的研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物的研磨，所述研磨垫具有立毛部，所述立毛部是多个长度为2mm以上的纤维在基部的表面立起而成的，所述纤维的质量为250g/m2以上。
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- 本发明涉及制备化学机械抛光层的改进方法。本发明提供了一种用于对基材进行抛光的抛光层的制备方法，所述方法包括提供液体预聚物材料；提供多个空心微球体；使得所述多个空心微球体与真空接触，以形成多个经接触的空心微球体；用二氧化碳气氛处理所述多个经接触的空心微球体，以形成多个经处理的空心微球体；使得所述液体预聚物材料与所述多个经处理的空心微球体结合，以形成可固化混合物；允许所述可固化混合物经受反应，以形成固化的材料，其中，所述反应允许在形成所述多个经处理的空心微球体之后的<24小时开始；以及从所述固化的材料得到至少一层抛光层；其中所述至少一层抛光层具有适合对基材进行抛光的抛光表面。
- 一种环保型背绒研磨盘-201720150889.0
- 郭成祥 - 镇江日辉电动工具配件有限公司
- 2017-02-20 - 2017-09-15 - B24B37/24
- 本实用新型涉及一种环保型背绒研磨盘，包括基体，所述基体中部设有连接柱，所述连接柱为中空结构，内壁设有内螺纹，所述基体下端设有研磨装置，所述研磨装置包括研磨片和磨料层，所述研磨片两侧边缘端设有固定孔，所述研磨片通过螺钉穿过固定孔与基体连接，所述研磨片上均匀设有若干个通孔，所述磨料层包括第一磨料层和第二磨料层，所述研磨片底部设有第一磨料层，所述第一磨料层底部设有背绒层，所述背绒层与所述第一磨料层之间设有钩面贴，所述背绒层具有毛绒的一面粘接在钩面贴设有钩面的一面上，所述背绒层另一面底部设有第二磨料层，本实用新型结构简单、使用方便、寿命长。
- 具有广谱终点检测窗口的化学机械抛光垫以及使用该抛光垫进行抛光的方法-201410080909.2
- A·雷珀;D·B·詹姆士;M·A·洛伊格斯 - 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限公司
- 2014-03-06 - 2017-05-24 - B24B37/24
- 本发明提供了一种化学机械抛光垫，其包括具有抛光表面的抛光层；以及广谱终点检测窗口块体，其具有沿着垂直于所述抛光表面的平面的轴方向上的厚度；其中所述广谱终点检测窗口块体包含环状烯烃加成聚合物；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度上具有均匀的化学组成；其中所述广谱终点检测窗口块体的光谱损失<40%；以及，其中所述抛光表面适合用于对选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基材进行抛光。
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