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[发明专利]用于位置特定晶片抛光的辊-CN202210213861.2在审
发明人： E·A·米克海利琴科;F·C·雷德克;B·J·布朗;C·偌德瑞格;S·M·苏尼卡;J·古鲁萨米 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种抛光装置，包括：支撑件，被配置为在平面中接收和保持基板；抛光垫，固定到旋转滚筒的圆柱形表面；第一致动器，用于绕着平行于平面的第一轴旋转该滚筒；第二致动器，用于使旋转滚筒上的抛光垫与基板接触；以及端口，用于将抛光液分配到抛光垫与基板之间的界面。
用于位置特定晶片抛光

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN201911339738.X有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·付;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙克;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-19 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]用于CMP应用的薄的塑料抛光用具-CN201810059565.5有效
发明人： R·D·托勒斯;G·E·孟克;E·戴维;Y·王;H·K·特兰;F·C·雷德克;V·R·R·卡基雷迪;E·米克海利琴科;J·古鲁萨米 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-01-22 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本公开涉及用于CMP应用的薄的塑料抛光用具。本公开内容提供了一种用于抛光基板的方法和设备，包括抛光用具，所述抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有凸起表面纹理，所述凸起表面纹理形成在所述聚合物片材的表面上。根据本公开内容的一个或多个实现方式，已发展出一种不需要研磨衬垫修整的改进的抛光用具。在本公开内容的一些实现方式中，所述改进的抛光用具包括聚合物片材，所述聚合物片材具有抛光表面，所述抛光表面带有形成在所述抛光表面中的凸起表面纹理或“微观特征”和/或多个沟槽或“宏观特征”。在一些实现方式中，所述凸起表面纹理是在抛光系统中安装并且使用所述改进的抛光用具之前被压印、蚀刻、机器加工或以其他方式形成在所述抛光表面中。在一个实现方式中，所述凸起特征具有在抛光期间从所述基板移除的特征的一个量级内的高度。
用于 cmp 应用塑料抛光用具

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN202010531656.1有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN202010532089.1有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]抛光制品-CN201910517080.0有效
发明人： N·B·帕蒂班德拉;K·克里希南;D·莱德菲尔德;R·巴贾杰;R·E·帕里;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;M·C·奥里拉尔;J·G·方 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-01 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本公开涉及抛光制品。抛光制品制造系统包含：进料段和卷取段，所述卷取段包含供应辊，所述供应辊具有抛光制品，所述抛光制品设置在所述供应辊上并用于化学机械抛光工艺；打印段，所述打印段包含设置在所述进料段与所述卷取段之间的多个打印头；以及固化段，所述固化段设置在所述进料段与所述卷取段之间，所述固化段包括热固化装置和电磁固化装置中的一者或两者。
抛光制品

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN202010531179.9有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]使用加成制造工艺的具复合材料特性的CMP衬垫建构-CN202110880110.1在审
发明人： R·巴贾杰;K·克里希南;M·C·奥里拉利;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;N·B·帕迪班德拉;G·E·蒙柯;J·G·方;R·E·帕里;R·E·达文波特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本公开的实施例大体而言提供包括复合衬垫主体的研磨垫及形成该研磨垫的方法。一个实施例提供包括复合衬垫主体的研磨垫。该复合衬垫主体包括由第一材料或第一材料组成物形成的一个或更多个第一特征，及由第二材料或第二材料组成物形成的一个或更多个第二特征，其中该一个或更多个第一特征和该一个或更多个第二特征是通过沉积多个包含该第一材料或第一材料组成物和第二材料或第二材料组成物的层所形成的。
使用加成制造工艺复合材料特性 cmp 衬垫建构

[发明专利]可UV硬化的CMP研磨垫及其制造方法-CN201580066123.8有效
发明人： M·C·奥里拉利;R·巴贾杰;F·C·雷德克 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-19 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： B24D3/32 文献下载
摘要：一种制造化学机械研磨垫的方法，包括以下步骤：将含有丙烯酸酯官能团的聚合物前体引入模具中；在该聚合物前体中提供磨料颗粒和光引发剂以形成混合物；以及在该混合物被容纳于该模具的底板和顶盖之间时，通过该模具的透明区段使该混合物暴露于紫外线辐射，以使该聚合物前体形成自由基，通过使自由基彼此交联而从该聚合物前体形成聚合物基质。研磨层包括该聚合物基质，该聚合物基质具有分散在其中的磨料颗粒。
uv 硬化 cmp 研磨及其制造方法

[发明专利]使用加成制造工艺的具复合材料特性的CMP衬垫建构-CN201580060603.3有效
发明人： R·巴贾杰;K·克里希南;M·C·奥里拉利;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;N·B·帕迪班德拉;G·E·蒙柯;J·G·方;R·E·帕里;R·E·达文波特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本公开的实施例大体而言提供包括复合衬垫主体的研磨垫及形成该研磨垫的方法。一个实施例提供包括复合衬垫主体的研磨垫。该复合衬垫主体包括由第一材料或第一材料组成物形成的一个或更多个第一特征，及由第二材料或第二材料组成物形成的一个或更多个第二特征，其中该一个或更多个第一特征和该一个或更多个第二特征是通过沉积多个包含该第一材料或第一材料组成物和第二材料或第二材料组成物的层所形成的。
使用加成制造工艺复合材料特性 cmp 衬垫建构

[发明专利]多孔化学机械抛光垫-CN202110277323.5在审
发明人： S·嘎纳帕西亚潘;N·B·帕蒂班德拉;R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;M·C·奥里拉尔;傅博诣;M·山村;A·乔卡里汉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本文揭示的实施方式总体上涉及抛光制品以及用于制造用于抛光工艺中的抛光制品的方法。更具体而言，本文揭示的实施方式涉及通过工艺产生的多孔抛光垫，所述工艺产出改良的抛光垫特性及性能，包括可调谐的性能。诸如三维打印工艺的增材制造工艺提供制成具有独特特性及属性的多孔抛光垫的能力。
多孔化学机械抛光

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN201910516558.8有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]由积层制造工艺所生产的研磨垫-CN201910522266.5有效
发明人： R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;M·C·奥里拉利;B·福;A·J·康纳;J·G·方;M·科尔内霍;A·乔卡里汉;M·F·雅玛木拉;R·卡基雷迪;A·库马;V·哈里哈兰;G·E·蒙柯;F·C·雷德克;N·B·帕蒂班德拉;H·T·恩古;R·达文波特;A·辛哈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
制造工艺生产研磨

[发明专利]多孔化学机械抛光垫-CN201680082260.5有效
发明人： S·嘎纳帕西亚潘;N·B·帕蒂班德拉;R·巴贾杰;D·莱德菲尔德;F·C·雷德克;M·C·奥里拉尔;傅博诣;M·山村;A·乔卡里汉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：本文揭示的实施方式总体上涉及抛光制品以及用于制造用于抛光工艺中的抛光制品的方法。更具体而言，本文揭示的实施方式涉及通过工艺产生的多孔抛光垫，所述工艺产出改良的抛光垫特性及性能，包括可调谐的性能。诸如三维打印工艺的增材制造工艺提供制成具有独特特性及属性的多孔抛光垫的能力。
多孔化学机械抛光

[发明专利]多层纳米纤维化学机械抛光垫-CN201680007688.3有效
发明人： R·D·托勒斯;M·C·奥里拉利;F·C·雷德克;R·巴贾杰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本公开大体涉及抛光制品，以及使用抛光制品的化学机械抛光基板的装置和方法。在一些实施方式中，诸如抛光垫的抛光制品包括多个层，其中一个或多个层(即，至少顶层)包括在抛光工艺期间被放置成接触基板的多个纳米纤维。在一个实施方式中，抛光制品包括具有小于约0.032英寸的厚度的层，以及所述层包括具有约10纳米至约200微米的直径的纤维。
多层纳米纤维化学机械抛光

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