[发明专利]一种肖特基半导体装置在审
申请号: | 201610925635.1 | 申请日: | 2016-10-30 |
公开(公告)号: | CN108022974A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | 朱江 | 申请(专利权)人: | 朱江 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 113200 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明在肖特基半导体装置内设置半导体放电管,以此将过压保护装置与肖特基结并联,改善肖特基结反向可靠性,同时,通过半导体放电管在反向偏压下的电场分布,将峰值电场引入肖特基结漂移区中,降低肖特基结的导通电阻;本发明设置半导体放电管在器件正向偏压下为截止状态,不在正向导通时引入少子,因此本发明的半导体装置保持肖特基结快速开关特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 肖特基 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种肖特基半导体装置,其特征在于:包括:衬底层,为第一导电半导体材料;漂移层,为第一导电半导体材料,位于衬底层之上;多个沟槽,位于漂移层和衬底中,沟槽侧壁设置绝缘层,沟槽底部没有绝缘层;导电材料,位于沟槽底部,为金属,或者为高浓度杂质掺杂的多晶硅或无定形硅,此时导电材料下部为第一导电杂质掺杂,导电材料上部为第二导电杂质掺杂;沟槽下部半导体材料,位于沟槽内下部,导电材料之上,上下依次为第一导电半导体材料和第二导电半导体材料;沟槽上部半导体材料,位于沟槽内上部,上下依次为第一导电半导体材料和第二导电半导体材料;肖特基势垒结,位于沟槽之间漂移层表面。
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