[发明专利]生成用于定向自组装的引导模板的方法有效
| 申请号： | 201480061033.5 | 申请日： | 2014-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN105705997B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | S·F·乌伊斯特尔;大卫·安贝斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种设计特征引导模板的方法，所述特征引导模板用于引导嵌段共聚物的自组装以在用于光刻的设计布局中形成至少两个特征，所述特征引导模板包括通过瓶颈部连接的至少两个部分，所述方法包括：至少基于所述特征引导模板的几何结构的函数确定所述特征引导模板的特性，其中所述几何结构的函数包括所述部分中的至少一个部分的第一宽度值、所述瓶颈部的第二宽度值或基于第一宽度和第二宽度的值。 | ||
| 搜索关键词： | 生成 用于 定向 组装 引导 模板 方法 | ||
【主权项】：
1.一种设计特征引导模板的方法，所述特征引导模板用于引导嵌段共聚物的自组装以在用于光刻的设计布局中形成至少两个特征，所述特征引导模板包括通过瓶颈部连接的至少两个部分，所述方法包括：/n至少基于所述特征引导模板的几何结构的函数确定所述特征引导模板的特性，其中所述几何结构的函数包括所述瓶颈部的宽度值以及所述瓶颈部的宽度和所述部分中的至少一个部分的宽度之间的比率、或者包括基于所述部分中的至少一个部分的宽度和所述瓶颈部的宽度两者的值以及所述瓶颈部的宽度和所述部分中的至少一个部分的宽度之间的比率、或者所述瓶颈部的宽度和所述部分中的至少一个部分的宽度之间的比率，/n其中所述比率不小于0.3并且不大于0.5。/n
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- 本发明提供一种3D盖板黄光生产工艺，包括以下步骤：使用清洗机对3D玻璃先使用清洗剂浸泡及超声波清洗；然后按照21片摆片后使用等离子对喷涂面进行处理提高产品表面洁净度；通过控制喷嘴的光刻胶流量和空压对光刻胶雾化，配合传输速度实现油墨的均匀喷涂，无论两面曲、四面曲皆能达到表面油墨均匀细腻；之后使用IR隧道炉进行烘烤使光刻胶初步固化，提高附着力；烘烤后的产品通过靠边定位和固定治具将产品固定和定位，放置在二次元上进行产品扫描获得产品的精准位置后，二次元会将产品的定位数据传送给曝光机；通过设计CAM档转换为图形，对产品进行激光直接成像完成曝光；经过曝光过的盖板进入显影设备，对需要去除的光刻胶化学反应后进行剥离，保留的光刻胶就留下形成图形，然后对其进行表面清洗和干燥；已经完成图形的高精度3D盖板，进行加热固化定型。
- 形成光阻图案的方法-201910193694.8
- 訾安仁;林进祥;张庆裕 - 台湾积体电路制造股份有限公司
- 2019-03-14 - 2019-12-24 - G03F7/00
- 一种形成光阻图案的方法，包括于形成于基板上的光阻之上形成保护层，以及选择性地将保护层和光阻层暴露于光化辐射。显影保护层和光阻层以形成图案于光阻层中，并去除保护层。保护层包括具有侧链碳氟化合物基团和侧链酸离去基团的聚合物。
- 印模结构以及利用该印模结构的转移方法-201310563809.0
- 梁基延;南润宇 - 三星电子株式会社
- 2013-11-14 - 2019-12-24 - G03F7/00
- 本发明提供印模结构以及利用该印模结构的转移方法。该印模结构将形成在供体衬底上的对象转移到目标衬底，该印模结构包括：印模框架，具有板状部，对象将被附接至该板状部；以及多个孔，穿过板状部。
- 专利分类
