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[发明专利]用于使两个光学子系统对准的方法和装置-CN201880015340.8有效
发明人： B·珀瓦佐伊 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提出了一种用于使两个透镜对准的方法和装置。
用于两个光学子系统对准方法装置

[发明专利]用于永久接合晶片的方法-CN201810604777.7有效
发明人： T.普拉赫;K.欣格尔;M.温普林格;C.弗勒特根 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2011-01-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H01L21/18 文献下载
摘要：本发明涉及用于永久接合晶片的方法。具体地，本发明涉及将第一基板(1)的第一接触表面(3)接合至第二基板(2)的第二接触表面(4)的方法，该方法具有以下步骤：‑在所述第一接触表面(3)的表面层(6)中形成贮液槽(5)，其中孔分布随厚度增加而减小趋于零，‑用第一起始物或第一组起始物至少部分填充该贮液槽(5)，‑使第一接触表面(3)与第二接触表面(4)接触以形成预接合连接。
用于永久接合晶片方法

[发明专利]用于结合两个基板的装置和方法-CN202310010432.X在审
发明人： M.温普林格;F.库尔茨;V.德拉戈伊 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提出了用于结合两个基板的装置、系统和方法。第一基板保持器具有凹部和隆起。
用于结合两个装置方法

[发明专利]基底保持器以及用于固定和键合基底的方法-CN202080101439.7在审
发明人： T·普拉赫 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于接纳基底(13)的基底保持器(1,1',1'',1''',1'''',1'''')以及相应的方法，所述基底保持器具有用于固定基底(13)的固定元件(6,6',6'')，其中，固定元件(6,6',6'')可分组到区域(7,7')中。
基底保持以及用于固定方法

[发明专利]将一光敏层曝光之装置及方法-CN202111523200.1在审
发明人： B.塔尔纳;B.波瓦扎伊 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明系关于用于曝光一光敏层之一方法，该光敏层具有一光学系统，在各情况中，至少一光线由至少一光源产生且一曝光图案之像素由至少一微镜装置照明，该至少一微镜装置具有在各情况中具有一镜强度分布的多个微镜，其特征在于为得到曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。此外，本发明系关于使用一光学系统来曝光一光敏层之一装置，该光学系统具有：至少一光源，其用于产生至少一光线，至少一微镜装置，其具有多个微镜，其中光学系统依一方式建构，使得为形成曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。
光敏曝光装置方法

[发明专利]不同焦点平面-CN202111522644.3在审
发明人： B.塔尔纳;B.波瓦扎伊 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及不同焦点平面。本发明系关于用于曝光一光敏层之一方法，该光敏层具有一光学系统，在各情况中，至少一光线由至少一光源产生且一曝光图案之像素由至少一微镜装置照明，该至少一微镜装置具有在各情况中具有一镜强度分布的多个微镜，其特征在于为得到曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。此外，本发明系关于使用一光学系统来曝光一光敏层之一装置，该光学系统具有：至少一光源，至少一微镜装置，其具有多个微镜，其中光学系统依一方式建构，使得为形成曝光图案之一图案强度分布而重迭相邻微镜之镜强度分布发生为曝光图案之各经照明像素之镜强度分布之一总和。
不同焦点平面

[发明专利]用于使基板对准的方法和装置-CN201980098936.3在审
发明人： T·瓦根莱特纳;H·罗林格 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明描述了用于使基板对准的一种装置和一种方法。
用于使基板对准方法装置

[发明专利]用于至少部分溶解临时压接的衬底叠层的连接层的装置和方法-CN201580075099.4有效
发明人： A.费屈雷尔 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2015-11-03 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：建议了一种用于至少部分溶解临时压接的衬底叠层(2)的连接层(4)的装置(22)，带有如下特征：‑装置(22)具有至少一个环形物(1)，其中，衬底叠层(2)可被放置在至少一个环形物(1)内，‑至少一个环形物(1)具有多个喷嘴(1a)，其中，喷嘴(1a)至少在至少一个环形物(1)的周缘的部分上分布地布置，‑喷嘴(1a)朝向连接层(4)定向，‑装置(22)构造成，使得溶剂可由喷嘴(1a)被喷洒到连接层(4)的边缘区域上。此外建议了一种用于至少部分溶解连接层(4)的方法。
用于至少部分溶解临时衬底连接装置方法

[发明专利]用于接合衬底的方法-CN201680003082.2有效
发明人： F.库尔茨;T.瓦根莱特纳;T.普拉赫;J.M.聚斯 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2016-02-16 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将第一衬底（2）与第二衬底（2＇）在所述衬底（2，2＇）的接触面（2o，2o＇）处接合的方法，其具有如下步骤、尤其是如下流程：用保持力FH1将所述第一衬底（2）保持在第一样品支架（1）的第一样品支架表面（1o）上，以及用保持力FH2将所述第二衬底（2＇）保持在第二样品支架（1＇）的第二样品支架表面（1o＇）上，将所述接触面（2o，2o＇）在接合发起部位（20）处接触并且至少将所述第二样品支架表面（1o，1o＇）加热到加热温度TH，沿着从所述接合发起部位（20）伸展至所述衬底（2，2＇）的侧边缘（2s，2s＇）的接合波，将所述第一衬底（2）与所述第二衬底（2＇）接合，其特征在于，在接合期间减小在所述第二样品支架表面（1o＇）上的所述加热温度TH。
用于接合衬底方法

[发明专利]用于预固定衬底的方法和装置-CN202110777000.2在审
发明人： F.P.林德纳 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2014-12-23 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于预固定衬底(1、2)的方法和装置，其中在至少一个表面区域中非晶化所述衬底(1、2)的至少一个衬底表面(1o、2o)，其特征在于，所述衬底(1、2)被定向且接着在所述经非晶化的表面区域处接触并且预固定。
用于固定衬底方法装置

[发明专利]确定结合波的走向的测量装置及方法-CN201980089391.X在审
发明人： D·青纳;J·马林格;T·普拉赫;B·波瓦扎伊;H·罗林格;J·M·聚斯 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2019-01-18 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于确定第一基板(2)与第二基板(4)之间的间隙(3)中的结合波的方向的测量装置。此外，本发明涉及一种对应方法。
确定结合走向测量装置方法

[发明专利]计量设备和计量方法-CN201680081018.6有效
发明人： M.艾贝尔胡贝尔;M.海利希;B.波瓦扎伊 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G01N29/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种计量设备和计量方法。用于检验衬底的计量设备具有下列特征：用于用声波来加载衬底的第一衬底堆叠表面的声音加载装置；光学系统，具有：a)用于输出电磁辐射的来源(1)的来源，电磁辐射被分离成至少一个第一光路和第二光路，b)用于用第一光路来加载衬底、尤其是衬底堆叠(14)的衬底堆叠测量表面的装置，c)用于由第一光路和第二光路形成干涉辐射的干涉装置，和d)用于检测干涉辐射的探测器(5)；用于评估在探测器(5)处所检测的干涉辐射的评估装置，其中，所述声音加载装置和所述光学系统被布置在所述衬底的相对置的侧面上。此外本发明涉及一种相应的用于经接合的衬底的计量方法。
计量设备方法

[发明专利]用于接合薄化基片的方法-CN201480057663.5有效
发明人： A.费库里 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2014-12-18 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及用于使第一基片(4)与第二基片(4')接合的方法，其中，第一基片(4)和/或第二基片(4')在接合之前薄化。基片(4,4')可为晶片、半导体基片、金属基片、矿物基片，尤其是蓝宝石基片、玻璃基片或聚合物基片。第一基片(4)和/或第二基片(4')被固定以用于在尤其是具有环形框架(2)的载体(3,3')的载体表面(3o,3o')上薄化和/或接合。第一基片(4)和第二基片(4')在基于基片(4,4')的对应对准标记接合之前与彼此对准且随后尤其是磁性地预固定。基片固定相应地具有用于相应地固定基片(4,4')的基片固定表面(9)，以及相应地具有围绕基片固定表面(9)的载体固定表面(8)或载体固定区域以用于基片固定的相互固定，其中尤其是载体固定表面(8)或载体固定区域为磁化的或可磁化的，或作为备选基片固定可借助于粘合物、借助于夹具、借助于插销系统或者静电地固定至彼此。
用于接合薄化基片方法

[发明专利]用于压印纳米结构的方法和装置-CN202011230126.X在审
发明人： G.克赖因德尔 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于将纳米结构（13）从纳米结构压模（5）压印到施加到基体（7）上的、能够硬化的材料（8）的压模面（14）中的方法，具有下列步骤、尤其下列过程：相对于所述压模面（14）对齐所述纳米结构（13），通过如下方式压印所述压模面（14）：A）通过所述纳米结构压模（5）的变形来预紧所述纳米结构压模（5）和/或通过所述基体（7）的变形来预紧所述基体（7），B）所述压模面（14）的部分面（15）与所述纳米结构压模（5）接触，以及C）至少部分地、尤其主要地，通过预紧所述纳米结构压模（5）和/或预紧所述基体（7）自动接触所述其余面（16）。
用于压印纳米结构方法装置

[发明专利]用于压印纳米结构的方法和装置-CN202011231477.2在审
发明人： G.克赖因德尔 -专利权人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于将纳米结构（13）从纳米结构压模（5）压印到施加到基体（7）上的、能够硬化的材料（8）的压模面（14）中的方法，具有下列步骤、尤其下列过程：相对于所述压模面（14）对齐所述纳米结构（13），通过如下方式压印所述压模面（14）：A）通过所述纳米结构压模（5）的变形来预紧所述纳米结构压模（5）和/或通过所述基体（7）的变形来预紧所述基体（7），B）所述压模面（14）的部分面（15）与所述纳米结构压模（5）接触，以及C）至少部分地、尤其主要地，通过预紧所述纳米结构压模（5）和/或预紧所述基体（7）自动接触所述其余面（16）。
用于压印纳米结构方法装置

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