[发明专利]半导体装置与应用其的半导体装置封装体在审
申请号: | 201410069477.5 | 申请日: | 2014-02-27 |
公开(公告)号: | CN104882478A | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 林立凡;杨竣杰;廖文甲;薛清全;陈世鹏 | 申请(专利权)人: | 台达电子工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/423;H01L23/488 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;赵根喜 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种半导体装置包含有源层、源极、漏极、栅极、间介电层、源极中间层、至少一源极间插塞、漏极中间层、至少一漏极间插塞、栅极中间层与至少一栅极间插塞。有源层的材质为三五族半导体。源极与漏极皆位于有源层上。栅极位于有源层上,并介于源极与漏极之间。间介电层覆盖源极、漏极与栅极。源极中间层、漏极中间层与栅极中间层皆位于间介电层上。源极间插塞电性连接源极与源极中间层。漏极间插塞电性连接漏极与漏极中间层。栅极间插塞电性连接栅极与栅极中间层。一种应用半导体装置的半导体装置封装体亦在此公开。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 应用 封装 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包含:一有源层,该有源层的材质为三五族半导体;至少一源极,位于该有源层上;至少一漏极,位于该有源层上;至少一栅极,位于该有源层上,并介于该源极与该漏极之间;一间介电层,覆盖该源极、该漏极与该栅极,该间介电层具有至少一第一源极间通孔、至少一第一漏极间通孔与至少一栅极间通孔;至少一源极中间层,位于该间介电层上;至少一源极间插塞,位于该第一源极间通孔中,并电性连接该源极与该源极中间层;至少一漏极中间层,位于该间介电层上;至少一漏极间插塞,位于该第一漏极间通孔中,并电性连接该漏极与该漏极中间层;至少一栅极中间层,位于该间介电层上;以及至少一栅极间插塞,位于该栅极间通孔中,并电性连接该栅极与该栅极中间层。
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