[发明专利]用于分离多层结构的装置和方法有效
申请号: | 201380019900.4 | 申请日: | 2013-04-17 |
公开(公告)号: | CN104247068B | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 袁顺发;许大卫;杨秋勇 | 申请(专利权)人: | 南洋理工大学 |
主分类号: | H01L49/00 | 分类号: | H01L49/00 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 周艳玲,王琦 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在各实施例中,可提供一种用于分离多层结构的装置,所述多层结构包括第一层、第二层和在所述第一层和所述第二层之间的脱模层。所述装置可包括附接表面,该附接表面被构造为通过附接到所述第一层来悬挂所述多层结构。所述装置可进一步包括致动机构,该致动机构被构造为通过弯曲所述附接表面而形成所述第一层的曲度。所述装置还可包括容器,以容纳用于蚀刻所述脱模层以便将所述第一层与所述第二层分离的蚀刻剂。 | ||
搜索关键词: | 用于 分离 多层 结构 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于分离圆柱形多层结构的装置,所述圆柱形多层结构包括第一层、第二层和在所述第一层和所述第二层之间的脱模层,所述装置包括:附接表面,被构造为通过附接到所述第一层来悬挂所述圆柱形多层结构,其中所述附接表面包括柔性盘形板;致动机构,被构造为通过向所述附接表面的中心部分提供力以弯曲所述附接表面而形成所述第一层的曲度;和容器,被构造为容纳用于蚀刻所述脱模层以便将所述第一层与所述第二层分离的蚀刻剂。
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