[发明专利]衬底处理装置及搬运装置无效

专利信息
申请号: 201210104814.0 申请日: 2012-04-06
公开(公告)号: CN102738262A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 西谷英辅;国井泰夫;丰田一行;吉田秀成;石坂光范 申请(专利权)人: 株式会社日立国际电气
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/18;H01L21/677
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种衬底处理装置及搬运装置。本发明提供一种衬底处理装置,所述衬底处理装置用于形成CIS类太阳能电池的光吸收层,进行硒化或硫化处理,能够应对玻璃衬底的大型化。所述衬底处理装置具有:处理室,容纳多个衬底,所述衬底形成有由铜-铟、铜-镓、或铜-铟-镓中的任一种形成的层合膜;反应管,以构成处理室的方式形成;气体供给管,向处理室中含硒元素气体或含硫元素气体;排气管,将处理室内的气体排出;加热部,以包围反应管的方式设置;及风扇,在多个玻璃衬底的表面上,使上述处理室内的气体在多个玻璃衬底的短边方向上强制对流。
搜索关键词: 衬底 处理 装置 搬运
【主权项】:
一种衬底处理装置,具有:处理室,容纳多个衬底,所述衬底形成有由铜‑铟、铜‑镓或铜‑铟‑镓中的任一种形成的层合膜;反应管,以构成所述处理室的方式形成;气体供给管,向所述处理室中导入含硒元素气体或含硫元素气体;排气管,将所述处理室内的气体排出;加热部,以包围上述反应管的方式设置;及风扇,在所述多个玻璃衬底的表面上,使所述处理室内的气体在所述多个玻璃衬底的短边方向上强制对流。
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