[发明专利]衬底处理装置及搬运装置无效

专利信息
申请号: 201210104814.0 申请日: 2012-04-06
公开(公告)号: CN102738262A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 西谷英辅;国井泰夫;丰田一行;吉田秀成;石坂光范 申请(专利权)人: 株式会社日立国际电气
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/18;H01L21/677
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 衬底 处理 装置 搬运
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种衬底处理装置及搬运装置,特别涉及用于形成硒化物类CIS太阳能电池的光吸收层的衬底处理装置、及搬运装置。

背景技术

硒化物类CIS太阳能电池具有玻璃衬底、金属背面电极层、CIS类光吸收层、高电阻缓冲层、窗层依次层合的结构。其中,CIS类光吸收层通过将铜(Cu)/镓(Ga)、Cu/铟(In)、或Cu-Ga/ln中的任一种层合结构进行硒化而形成。如上所述,硒化物类Cls太阳能电池由于能够在不使用硅(Si)的条件下形成,所以具有能使衬底变薄、同时能降低制造成本的特征。

此处,作为进行硒化的装置的一个例子,有专利文献1。专利文献1中公开的硒化装置中,利用保持架以一定的间隔设置多个平板状的对象物,与圆筒状石英腔室的长轴方向平行且垂直于其板面,导入硒源,由此进行对象物的硒化。另外,公开了通过将风扇安装在圆筒状石英腔室的轴方向的端部,使石英腔室内的硒化源强制对流,进行玻璃衬底上的温度分布的均匀化。

专利文献1:日本特开2006-186114号公报

发明内容

如专利文献1所记载,将风扇配置在圆筒状石英腔室的轴方向的端部时,石英腔室内的气体的对流变成在石英腔室内在横向、即玻璃衬底的长边方向上流动。此处,为了降低CIS类太阳能电池的制造成本,将玻璃衬底大型化时,玻璃衬底的长边也变长。因此,升为了保持降温时的玻璃衬底的面内的温度的均匀性,需要增大对流气体的流速、或者减缓升降温的速度。前者的情况下,需要提高风扇的能力,风扇变得昂贵。另外,风扇的能力也有限制,有可能难以实现。进而,速度快的气体在多个玻璃衬底间的狭窄空间流动时,吸引玻璃衬底的力量变大,玻璃衬底有可能摇动。结果,玻璃衬底和保持架摩擦,引起产生颗粒等问题。另一方面,减小升降温的速度时,由于处理时间变长,所以生产率下降,制造成本增加。因此,玻璃衬底的大型化困难。

另外,玻璃衬底大型化时,重量也变重,难以将多个玻璃衬底搬入石英腔室内。

根据本发明的一个优选方案,提供了一种衬底处理装置,具有:处理室,容纳有多个衬底,所述衬底形成有由铜-铟、铜-镓、或铜-铟-镓中的任一种形成的层合膜;反应管,以构成上述处理室的方式形成;气体供给管,向上述处理室内导入含硒元素气体或含硫元素气体;排气管,将上述处理室内的气体排出;加热部,以包围上述反应管的方式设置;及风扇,在上述多个玻璃衬底的表面,使上述处理室内的气体在上述多个玻璃衬底的短边方向上强制对流。

根据本发明的另一优选方案,提供了一种搬运装置,所述搬运装置将保持有多个衬底的保持盒搬运至处理室内,且具有:支承上述保持盒的支承部;固定在上述支承部上的车轮部;使上述支承部及上述车轮部一体工作的臂。

根据本发明,能够减少制造成本。

附图说明

[图1]为本发明的第1实施例的处理炉的侧面剖面图。

[图2]为从图1的纸面左方观察的处理炉的剖面图。

[图3]为本发明的保持盒410的立体图。

[图4]为说明本发明的涂膜的图。

[图5]为说明本发明的搬运保持盒410时的状态的图。

[图6]为说明本发明的搬运装置600的图。

[图7]为表示说明本发明的效果的模拟结果的图。

[图8]为表示说明本发明的效果的其他模拟模型的结构的图。

[图9]为表示说明本发明的效果的其他模拟结果的图。

[图10]为表示说明本发明的效果的其他模拟结果的图。

[图11]为本发明的第2实施方式的处理炉的侧面剖面图。

符号说明

10:处理炉、20:玻璃衬底、30:处理室、100:反应管、101:基材、102:涂膜、110:密封盖、120:集流腔、200:炉体加热部、210:盖加热部、300:气体供给管、310:排气管、400:内壁、410:保持盒、411:保持构件、412:凸缘部、420:设置台、430:第1整流板、440:第2整流板、500:电动风扇、510:扇叶部、520:旋转轴部、530:动力部、540:保护构件、600:搬运装置、601:支承部、602:升降部、603:车轮部、604:固定构件、605:臂。

具体实施方式

<第1实施方式>

以下,一边参照附图,一边说明本发明的第1实施方式。图1表示本发明的进行硒化处理的衬底处理装置中组入的处理炉10的侧面剖面图。另外,图2表示从图1的纸面左侧观察的处理炉的剖面图。

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