[发明专利]一种图形衬底的制作方法无效
| 申请号： | 201210069278.5 | 申请日： | 2012-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN103311384A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 钟伟荣;熊威;赵常宁 | 申请（专利权）人： | 上海蓝宝光电材料有限公司;扬州隆耀光电科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201616*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种图形衬底的制作方法，包括的步骤有：在衬底上利用旋转机涂布光刻胶，将平行四边形曝光单元拼接于衬底上，将光刻板上的图形采用步进投影的方式曝光衬底上的光刻胶，曝光完成显影后，衬底上形成图案化光刻胶，利用ICP干刻蚀系统，实施衬底图形化刻蚀，转移图案化光刻胶的图形至衬底上。图形衬底采用平行四边形的曝光单元拼接，使得所有图形都可在一个曝光单元完成，曝光单元之间的拼接位置没有图形存在，所以没有图形因拼接造成失真的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 衬底 制作方法 | ||
【主权项】：
一种图形衬底的制作方法，其特征在于，包括有以下步骤：1)在衬底上利用旋转机涂布光刻胶，将平行四边形曝光单元拼接于衬底上；2)将光刻板上的图形采用步进投影的方式曝光衬底上的光刻胶，曝光完成显影后，衬底上形成图案化光刻胶；3)利用ICP干刻蚀系统，实施衬底图形化刻蚀，转移图案化光刻胶的图形至衬底上。
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