[发明专利]半导体结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210005433.7 申请日: 2012-01-10
公开(公告)号: CN103199091A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 李明东;陈建铨;连士进 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/82
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构及其制造方法,该半导体结构包括一衬底、一有源元件、一第一半导体元件、一第二半导体元件及一被动元件。衬底具有一第一区及与第一区相连的一第二区。有源元件具有一掺杂区,掺杂区位于第一区。第一半导体元件、第二半导体元件及被动元件被设于第二区上。第一半导体元件、第二半导体元件及被动元件均被电性连接于有源元件。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体结构,包括:一衬底,具有一第一区及与该第一区相连的一第二区;一有源元件,具有一掺杂区,该掺杂区位于该第一区;一第一半导体元件及一第二半导体元件,设于该第二区上;以及一被动元件,设于该第二区上,其中,该第一半导体元件、该第二半导体元件及该被动元件均被电性连接于该有源元件。
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