[发明专利]具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法有效
| 申请号： | 200810187921.8 | 申请日： | 2008-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101470352A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 田桓承;金钟涉;尹敬皓;金旼秀;李镇国;宋知胤 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;张 英 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合用于平版印刷术，提供了优异的光学和机械性能，并表现出高的蚀刻选择性。另外，通过旋涂技术能够容易地施加该硬掩模组合物。使用硬掩模组合物形成的硬掩模层可与集成电路制造工艺相容。有利地，该硬掩模组合物用于短波长平版印刷术。具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 性能 模组 采用 组合 图案 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由化学式1表示的含芳香环聚合物：![]()
其中m和n满足关系式1≤m<190，0≤n<190以及1≤m+n<190，A1选自![]()
以及![]()
其中每一个R1表示氢原子、C1-C10烷基基团、C6-C10芳基基团、烯丙基基团或卤素原子，而每一个R2表示氢原子、羟基基团、氨基基团(-NH2)、烷氧基基团(-OR)(R是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)或二烷基氨基基团(-NRR’)(R和R’每一个独立地是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)，A2选自![]()
![]()
![]()
以及![]()
其中每一个R1表示氢原子、C1-C10烷基基团、C6-C10芳基基团、烯丙基基团或卤素原子，而每一个R2表示氢原子、羟基基团、氨基基团(-NH2)、烷氧基基团(-OR)(R是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)或二烷基氨基基团(-NRR’)(R和R’每一个独立地是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)，以及B1和B2每一个独立地选自-CH2-、![]()
![]()
![]()
以及![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于第一毛织株式会社，未经第一毛织株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810187921.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：摩托车离合器铁基摩擦片、制备工艺、其对偶片及离合器
- 下一篇：密封材料
- 同类专利
- 一种阴图免处理平印版-201310710843.6
- 杨青海;张刚;宋小伟;吴兆阳;黄文明;刘东黎;吴俊君;刘红来 - 乐凯华光印刷科技有限公司;北京航天创新专利投资中心(有限合伙)
- 2013-12-19 - 2019-11-05 - G03F7/09
- 一种阴图免处理平印版，包含版基、版基之上的成像层和成像层之上的保护层，所述成像层包含聚合物粘结剂、成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系以及可聚合/交联的组分，聚合/交联的组分包含纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物。这种免处理平印版在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷。本发明免处理平印版和印刷方法，克服了各种方法制得的免处理平印版的耐印力不足的缺点，在保证高质量网点的同时实现了高耐印力，并能减少开机时的过版纸数。
- 硬质掩模-201410755864.4
- 山田晋太郎;D·王;S·王;刘骢;C-B·徐 - 罗门哈斯电子材料有限公司
- 2014-09-03 - 2019-10-18 - G03F7/09
- 一种硬质掩模。本发明提供包含在金属聚合物骨架中具有发色基团的有机金属化合物的组合物，其提供较宽范围的n/k值以便可以在各种条件下控制基材的反射率。
- 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法-201480035030.4
- S.林吉尔;K.德梅斯 - 爱克发有限公司
- 2014-06-16 - 2019-09-27 - G03F7/09
- 一种通过能够根据预定图像沉积背层的沉积技术制备平版印刷版前体的方法，所述方法包括以下步骤：提供作为卷筒纸的载体；在载体的前侧涂覆图像记录层；并且在载体背侧沉积背层。该方法能够堆叠和再切割平版印刷版前体，而不需要衬纸。
- 硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法-201510046738.6
- 崔有廷;金润俊;金永珉;文俊怜;朴裕信;宋炫知;尹龙云;李忠宪 - 三星SDI株式会社
- 2015-01-29 - 2019-09-06 - G03F7/09
- 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]
在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
- 作为硬掩模和填充材料的稳定的金属化合物、其组合物以及使用方法-201480047203.4
- 姚晖蓉;S·K·木伦;E·沃尔佛;D·穆肯泽;赵俊衍;M·帕德马纳班 - AZ电子材料卢森堡有限公司
- 2014-08-20 - 2019-09-06 - G03F7/09
- 本发明涉及用于形成具有改进的稳定性的金属氧化物膜的新型可溶性多配体取代的金属氧化物化合物以及由它们制成的组合物以及它们的使用方法。具体而言，本发明涉及具有以下结构(I)的化合物：
其中M是金属并且n是1至20，并且其中R1、R2、R3和R4的至少一个是i)并且R1、R2、R3和R4的至少一个是ii)，其中i)是具有至少2个碳的带有硅的有机部分，并且ii)是有机部分。本发明还涉及溶解到溶剂中的结构(I)的化合物的可旋涂组合物。本发明进一步涉及使用这种可旋涂组合物以便在图案化衬底上形成涂层的方法。
- 多金属氧酸盐和杂多金属氧酸盐组合物及其使用方法-201480072379.5
- V·G·R·查达;姚晖蓉;M·帕德马纳班;赵俊衍;E·沃尔佛;A·D·迪奥塞斯;S·K·木伦 - AZ电子材料卢森堡有限公司
- 2014-12-08 - 2019-09-03 - G03F7/09
- 本发明涉及新型组合物，其包含选自至少一种多金属氧酸盐、至少一种杂多金属氧酸盐及其混合物的金属组分；以及至少一种有机组分。本发明还涉及制备纳米棒阵列和纳米棒材料和膜的方法。本发明还涉及生成富含金属‑氧化物的膜的新型组合物，还涉及通孔或沟槽填充、反向通孔或沟槽填充和用底层成像的方法。该材料可用于许多行业的多种制造应用，包括半导体器件、光电器件和储能行业。
- 热敏CTP版成像涂层-201910434963.5
- 徐燕;张菊明;高兰英;章永洁;张杰;杨海涛;朱殷荣;高国良;黄艳 - 海宁市速美工贸有限公司
- 2019-05-23 - 2019-08-30 - G03F7/09
- 本发明公开了一种热敏CTP版成像涂层，具体涉及一种稳定性、涂布性较好的热敏CTP版成像涂层，由下列组分构成耐溶剂性树脂；碱溶树脂；成膜树脂；增溶剂；添加树脂；阻溶促溶树脂；红外吸收染料；染料；其中，碱溶树脂为含有碱溶性结构单体、丙烯酰胺结构单体和/或磺酰胺结构单体共聚而成的改性树脂；所述阻溶促溶树脂为酚醚化树脂。采用上述配方制得的CTP版材具有较好的耐印力及耐溶剂性，同时具有相对较低的感度。
- 蚀刻掩模用组合物及图案形成方法-201410016449.7
- 吉井靖博 - 东京应化工业株式会社
- 2014-01-14 - 2019-08-27 - G03F7/09
- 本发明提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。
- 可溶性金属氧化物羧酸盐的旋涂组合物及其使用方法-201480026104.8
- M·D·拉赫曼;V·G·R·查达;姚晖蓉;C·安亚蒂格伍;D·麦克肯兹 - AZ电子材料卢森堡有限公司
- 2014-06-26 - 2019-08-13 - G03F7/09
- 本公开涉及含有至少一种金属氧化物二羧酸盐和该金属氧化物二羧酸盐可溶于其中或在其中胶体稳定的有机溶剂的旋涂组合物。该二羧酸盐能够在热处理过程中分解以提供固化的金属氧化物膜。本公开还涉及使用该旋涂组合物的方法。
- 形成微图案的方法及基板处理设备-201811612414.4
- 张相信;白宗玟;徐训硕;李义福;姜成进;V.阮;郑德泳;安商熏;吴赫祥;刘禹炅 - 三星电子株式会社
- 2018-12-27 - 2019-07-05 - G03F7/09
- 这里提供了一种形成微图案的方法，其包括：在基板上形成蚀刻目标膜；在蚀刻目标膜上形成光敏辅助层，光敏辅助层用亲水基团封端；在光敏辅助层上形成粘合层，粘合层与亲水基团形成共价键；在粘合层上形成疏水的光致抗蚀剂膜；以及图案化光致抗蚀剂膜。
- 用于高分辨率电子光刻术的基底及对应的光刻方法-201380041829.X
- J-L·安贝尔;C·康斯坦恰斯 - 原子能和辅助替代能源委员会
- 2013-08-02 - 2019-06-28 - G03F7/09
- 本发明涉及非常高能量(50keV或更高)的电子束光刻技术。根据本发明，将通过光刻技术制成图案的层通过保持结构支撑，所述保持结构包括基底10(例如由硅制成)和由多孔性材料制成的中间层22，该多孔性材料的密度低于其它方面相同但为非多孔性材料的密度，此材料、尤其是硅或碳纳米管具有小原子序数，小于32并且优选小于20。此结构减小了向后散射的电子对高分辨率光刻图案的影响。
- 表面具凸纹结构薄膜的曲面基板-201821264243.6
- 翁沛喜;许铭案 - 许铭案;翁沛喜
- 2018-08-07 - 2019-06-21 - G03F7/09
- 本实用新型涉及曲面基板制造技术领域，具体公开了一种表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，其包括：一曲面基板，该曲面基板的表面具有一凸纹结构薄膜，且该凸纹结构薄膜的图案的解析度介于0.1‑100微米(um)之间。本实用新型提供的表面具凸纹结构薄膜的曲面基板，运用激光直写影像技术(Laser Direct Imaging,LDI)与光阻制程，来解决过去运用光阻制程需要光罩的问题，实现无须光罩、制程简单、解析度高、低成本的特殊技术功效。
- 平版印刷版前体以及用途-201480010831.5
- A.伊加拉施;Y.托里哈塔;H.鲍曼;U.德瓦斯;C.辛普森;S.维尔纳;M.弗卢格尔 - 伊斯曼柯达公司
- 2014-02-17 - 2019-06-11 - G03F7/09
- 阴图制版平版印刷版前体，包含阴图制版可成像层和直接安置在该阴图制版可成像层上的最外层水溶性外涂层。所述最外层水溶性外涂层包含：（1）一种或更多种成膜的水溶性聚合物粘合剂，（2）有机蜡颗粒，以及（3）非蜡亚光颗粒。所述最外层水溶性外涂层具有干厚度（t），其通过以下等式（I）来定义：t=w/r，其中w为用g/m2表示的所述最外层水溶性外涂层的干覆盖率，并且r为1 g/cm3。所述有机蜡颗粒具有小于0.9t（用µm表示）的平均最大尺寸D（蜡），并且所述非蜡亚光颗粒具有由以下等式（II）定义的平均最大尺寸D（亚光）：1.5倍的t
- 一种能够减少静电积聚的感光性树脂版-201820724038.7
- 沈绍鑫 - 天津鼎迅包装制品有限公司
- 2018-05-16 - 2019-05-21 - G03F7/09
- 本实用新型公开了一种能够减少静电积聚的感光性树脂版，包括第一树脂版和位于第一树脂版下方的第二树脂版，所述第二树脂版的顶部开设有缓冲槽，且缓冲槽内滑动套装有与第一树脂版的底部固定安装的滑动座，滑动座底部和缓冲槽的底部内壁之间焊接有多个弹簧，所述缓冲槽的两侧对称设置有开设在第二树脂版上的空腔，且空腔靠近缓冲槽的一侧内壁上开设有两个限位通孔，限位通孔的两侧内壁上滑动连接有滑杆。本实用新型结构简单，能够根据实际需求对滑动座的底部和缓冲槽的底部内壁之间的缓冲行程进行调节，有效地提高了对第一树脂版和第二树脂版的缓冲保护，有利于减少静电积聚的感光性树脂版的使用。
- 一种感光树脂版生产用的定型装置-201820724039.1
- 沈绍鑫 - 天津鼎迅包装制品有限公司
- 2018-05-16 - 2019-05-21 - G03F7/09
- 本新型涉及一种感光树脂版生产用的定型装置，包括底座、两个支撑板、安装板、移动槽、第一移动块、第一风扇、丝杠、安装槽、旋转电机、限位槽、限位块、两个放置板、承载板、滑槽、第二移动块、第二风扇和连接板，两个支撑板的底部均与底座的顶部固定连接，两个支撑板相互靠近的一侧分别与安装板的两侧固定连接，移动槽开设于安装板的底部，第一移动块滑动安装于移动槽内，所述第一移动块的底部延伸至安装板的下方并与第一风机固定连接，所述丝杠转动安装于移动槽内，且丝杠与第一移动块螺纹连接，安装槽开设于移动槽的一侧内壁上。本新型便于对感光树脂版进行快速均匀的冷却，有利于提高生产效率，结构简单，使用方便。
- 一种便于拆分拼合的感光树脂版-201820724188.8
- 沈绍鑫 - 天津鼎迅包装制品有限公司
- 2018-05-16 - 2019-05-21 - G03F7/09
- 本新型涉及一种便于拆分拼合的感光树脂版，包括底板，所述底板的顶部固定安装有树脂版本体，树脂版本体的顶部开设有第二凹槽，第二凹槽的一侧内壁上开设有第二限位槽，所述底板的顶部开设有第一凹槽，第一凹槽的两侧内壁上均开设有第一卡槽，第一凹槽内滑动安装有第一支撑柱，所述第一支撑柱的两侧均开设有第一限位槽，第一限位槽内滑动安装有第一限位块，第一限位块的一端延伸至第一限位槽的外侧并与第一卡槽相适配。本实用新型通过第二固定板在第二支撑柱内滑动，使得第三限位块与第二卡槽相适配，使得固定第二固定板的位置，通过第一固定板与第二固定板的相配合，可以快速对树脂版本体进行拆分拼合，且提高了工作效率。
- 光阻结构及晶圆曝光装置-201821801929.4
- 沈雪;古哲安;黄志凯;叶日铨 - 德淮半导体有限公司
- 2018-11-02 - 2019-05-10 - G03F7/09
- 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻结构及晶圆曝光装置。本所述光阻结构包括：光敏层，包括用于覆盖晶圆的第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面，且能够吸收自所述第二表面射入的第一光线；量子点，掺杂于所述光敏层中，适于在所述第一光线激发下产生能够被所述光敏层吸收的第二光线。本实用新型削弱了驻波效应对曝光过程的影响，确保了晶圆产品的质量。
- 阳图制版平版印刷版前体和用途-201380046075.7
- G.豪克;D.弗兰克;C.萨瓦里亚-豪克 - 伊斯曼柯达公司
- 2013-08-27 - 2019-04-12 - G03F7/09
- 热敏性阳图制版平版印刷版前体可用于使用高pH、无硅酸盐加工溶液制备平版印刷版。所述前体具有粒化且阳极化的含铝基底，所述基底包括聚(乙烯基膦酸)夹层。第一亲墨层和任选第二亲墨层直接设置于所述聚(乙烯基膦酸)夹层上。此第一亲墨层包含至少0.5%重量的量的芳族酸性染料，所述染料包含至少两个芳基。此外，所述前体在所述层之一中包含红外线辐射吸收剂。
- 光致抗蚀膜、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法-201710685298.8
- 横道清一 - 日兴材料株式会社
- 2017-08-11 - 2019-02-26 - G03F7/09
- 本申请涉及一种光致抗蚀膜、抗蚀图案的形成方法及导体图案的形成方法。本发明提供一种光致抗蚀膜，其在层压至被加工基材上时不易产生气隙，即便是经非硅酮系脱模剂涂布的保护膜，从感光性树脂组合物层剥离的剥离性也优异。本发明的光致抗蚀膜的特征在于：其是在(I)支撑膜上具有(II)感光性树脂组合物层/(III)保护膜的积层构造，且(II)感光性树脂组合物层的厚度为33μm以下的光致抗蚀膜，(III)保护膜是在(II)感光性树脂组合物层上的积层面的最大高度(Rz)为1.2μm以下、且胶带剥离强度为450～1500mN/cm的聚酯膜。
- 侧面具有护边的感光材料板-201821268477.8
- 张朝阳 - 河南汇达印通科技股份有限公司
- 2018-08-08 - 2019-02-26 - G03F7/09
- 本实用新型涉及感光材料技术领域，名称是侧面具有护边的感光材料板，包括材料板本体，所述的材料板本体具有下面的基板和基板上面的感光涂料层；其特征是：所述的材料板本体周围具有凝固的胶质形成的保护圈，所述的胶质是涂刷在感光材料板周围的，所述的感光材料板本体周边具有向上弯曲的结构，所述的感光材料板本体具有角部，所述的角部具有圆形的倒角结构。这样的感光材料板具有减少包装时对产品的划伤、提高包装时生产效率的优点。
- 硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模-201810756231.3
- 薛珉洙;金尚元;申铉振;李东郁;朴晟准;李润姓;郑盛骏;A.郑 - 三星电子株式会社
- 2018-07-11 - 2019-01-22 - G03F7/09
- 提供硬掩模组合物、使用硬掩模组合物形成图案的方法、和由硬掩模组合物形成的硬掩模，所述硬掩模组合物包括由式1表示的结构和溶剂，其中在式1中，R1‑R8、X和M详细地描述于具体实施方式部分中。式1
- 一种用于抗反射有机硬掩模的组合物-201810933107.X
- 赵宰亨;崔敦洙 - 韩国高一智株式会社
- 2018-08-16 - 2019-01-11 - G03F7/09
- 一种用于抗反射有机硬掩模的组合物，其特征在于：组合物包括含芳环的聚合物，该聚合物如式1所示：
。本发明具有有用范围的折射率和吸收率，可以使刻胶和背面层之间的反射率最小化。
- 一种丝网印刷用水溶性感光菲林-201820630224.4
- 李雪 - 李雪
- 2018-04-28 - 2019-01-11 - G03F7/09
- 一种丝网印刷用水溶性感光菲林，包括基片层、层叠于基片层上的剥离层、层叠于剥离层上的水溶性感光涂层及层叠于水溶性感光涂层上的感光性防潮层。基片层为经过电火花处理过的PET膜；剥离层为亲水性感光涂层，厚度在0.5‑10微米之间；水溶性感光涂层为厚度在6um‑1000um之间的有机高分子聚合物膜层，其成分可以是聚乙烯醇、醋酸乙烯乳液、丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸脂单体等的组合物；感光性防潮层是聚乙烯醇、聚醋酸乙烯乳液、丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸脂单体等助剂中的一种或多种有机物组合而成的膜层，其厚度为1‑10um之间。本实用新型与现有三层结构感光菲林相比，不必使用需剥离的防护层，环保、降低成本。
- 间隙填充组合物以及使用包含聚合物的组合物的图案形成方法-201780033371.1
- 王晓伟;长原达郎 - AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 2017-05-29 - 2019-01-11 - G03F7/09
- [目的]本发明提供一种可抑制图案倒塌的间隙填充组合物、以及一种使用该组合物的图案形成方法。[解决手段]本发明提供了一种间隙填充组合物，其包含具有特定的结构的聚合物、以及有机溶剂。还提供了一种图案形成方法，其使用了特定的聚合物。
- 单衬底上包括三层光刻材料的晶圆及其表面颗粒监测方法-201810927323.3
- 成智国;杨正凯 - 上海华力集成电路制造有限公司
- 2018-08-15 - 2019-01-04 - G03F7/09
- 本发明涉及一种单衬底上包括三层光刻材料的晶圆，涉及半导体集成电路制造技术，包括：衬底；涂覆于所述衬底上的旋涂的碳，形成第一层光刻材料；涂覆于所述旋涂的碳上的抗反射涂层，形成第二层光刻材料；以及涂覆于所述抗反射涂层上的光刻胶，形成第三层光刻材料，以能在一片晶圆上完成监测三种光阻的工艺性能，更加快速、有效的监控了涂胶工艺的稳定性，且衬底可以重复利用，因此极大地节省了晶圆的使用成本。
- 一种线路板感光膜-201820074852.9
- 谭勇 - 广东鑫丰海电子科技有限公司
- 2018-01-16 - 2018-11-13 - G03F7/09
- 本实用新型公开一种线路板感光膜，该线路板感光膜包括依次叠加的PET基膜层和涂覆在其表面的感光胶树配酯层以及保护膜层。本线路板感光膜具有优良的光分解性、光交联、光聚合的特性而产生图像的非银感光材料。曝光显影图像解晰度、分辨度高、感光速度快、附着力好的现象，大大解决了感光膜的曝光良率，增加了制程的成品率。
- 一种免处理阴图CTCP版的制造方法-201711461378.1
- 刘华礼;顾爱清;何学勤 - 江苏乐彩印刷材料有限公司
- 2017-12-28 - 2018-08-10 - G03F7/09
- 本发明公开了一种免处理阴图CTCP版的制造方法，包括碱洗、中和、电解除灰、氧化、封孔、水洗烘干、涂布、二次烘干、曝光成像、裁切、检验包装十个步骤。本发明无需添加任何化学试剂进行显影，直接上印刷机曝光成像印刷，适用于UV油墨印刷，耐UV的油墨具备耐磨，耐候，耐蚀等特性。本发明感度高、显影快、印率高，成本较低，不会产生大量的废水废渣对环境有污染，有利于环境保护。
- 一种干膜抗蚀剂层压体-201510050337.8
- 李志强;李伟杰;严晓慧;周光大;林建华 - 杭州福斯特应用材料股份有限公司
- 2015-01-30 - 2018-08-07 - G03F7/09
- 本发明公开了一种干膜抗蚀剂层压体，包括支撑层、涂覆于撑层上方的第一抗蚀剂层以及涂覆于第一抗蚀剂层上方的第二抗蚀剂层；所述第一抗蚀剂层的酸值为80~400 mgKOH/g，第二抗蚀剂层的酸值比第一抗蚀剂层酸值高2~41.2mgKOH/g。本发明采用不同酸值的双层结构的抗蚀剂，在抗蚀剂曝光显影后，形成良好的图形侧边形貌，未曝光的图形胶层能更好地除去。使其在印刷电路板、引线框架等的制造、半导体封装等的制造、金属的精密加工等领域中，作为刻蚀用或镀敷用的干膜抗蚀剂层压体材料，在图形曝光显影后，具有非常好的图形线条侧边形貌。
- 单层耐UV油墨热敏CTP版成像涂层-201810075332.4
- 黄祖成;陈翔风 - 上海宝士嘉印刷器材有限公司
- 2018-01-25 - 2018-07-27 - G03F7/09
- 本发明公开了一种单层耐UV油墨热敏CTP版成像涂层，涉及印刷版材涂层技术领域，解决了现有的双层涂布CTP版成品率低、工艺复杂、成本高的缺点。按质量百分比计，成像涂层包括以下组分：耐溶剂树脂10‑60%；增溶剂2‑12%；促溶树脂3‑25%；成膜树脂10‑65%；阻溶树脂0‑1%；烷基酚‑甲醛树脂6‑30%；抗醇阻溶剂0‑20%；红外吸收染料1‑6%；染料0.85‑2%。本发明中的成像涂层只需要在封孔后的1050铝版表面上涂布一层即可，由于减少了涂布底层的步骤，简化了工艺，提高了成品率，降低了成本；而且其耐UV油墨性强，不易被溶解，印刷寿命长。
- 具有双层结构的阴图型热敏CTP版前体-201611153669.X
- 王泳;栗更新 - 乐凯华光印刷科技有限公司
- 2016-12-14 - 2018-06-29 - G03F7/09
- 本发明公开了一种具有双层结构的阴图型热敏CTP版前体，在亲水表面的支持体上面依次涂有碱溶性树脂层和阴图型感光层，碱溶性树脂层含有碱溶性树脂、添加树脂和着色染料；阴图型感光层包括成膜树脂、交联剂、红外吸收剂、光产酸源和着色染料。该版材具有高感光速度、高显影宽容度、耐溶剂性以及高耐印率等优点，并拥有良好的储存稳定性，从而更加适应于目前UV油墨印刷的需要。
- 专利分类
