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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]可避免粉末沾黏的粉末原子层沉积设备-CN202122364700.7有效
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-09-28 - 2022-04-05 - C23C16/455
  • 本实用新型提供一种可避免粉末沾黏的粉末原子层沉积设备，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接真空腔体，并带动真空腔体转动。真空腔体包括一腔体及一盖体，其中盖体包括一内表面、一底面及一第一环形斜面，底面通过第一环形斜面连接内表面，以在内表面上形成一凹槽。盖体连接腔体时，盖体上的凹槽会与腔体的空间形成一特殊形状的反应空间，并可避免在进行原子层沉积的过程中，造成粉末沾黏在腔体或盖体的内表面。
  • 避免粉末原子沉积设备
  • [实用新型]一种基于单片机的智能鱼缸-CN202122627991.4有效
  • 刘晓玲;张辉;林业练;林俊成;朱怡雯;阮宇轩 - 广东第二师范学院
  • 2021-10-29 - 2022-04-05 - A01K63/00
  • 本实用新型公开一种基于单片机的智能鱼缸，包括鱼缸本体、过滤池、单片机控制器、温度传感器、光照传感器、水质检测器、恒温器、投喂器、LED灯和电阻液晶屏；所述过滤池位于鱼缸本体的一侧，过滤池的一侧设有进水区，另一侧为排水区，进水区和排水区之间设有过滤区，过滤池上开设有多个进水孔，进水区通过进水孔与鱼缸本体连通，排水区内设有静音水泵，静音水泵用以将过滤池内的水排至鱼缸本体内，过滤区内设有过滤材料；温度传感器、光照传感器和水质检测器均安装于鱼缸本体内，单片机控制器放置于过滤池的底部，恒温器放置于鱼缸本体的底部，投喂器和LED灯均安装于鱼缸本体的顶部，电阻液晶屏安装于鱼缸本体的外壁。
  • 一种基于单片机智能鱼缸
  • [实用新型]双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台-CN202122488443.8有效
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-10-15 - 2022-04-05 - C23C14/34
  • 本实用新型提供一种双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台，主要包括一第一及一第二遮蔽板、至少一驱动马达及一轴封装置，其中驱动马达通过轴封装置的外管体及轴体分别连接第一及第二遮蔽板，驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动，并在一开启状态及一遮蔽状态之间切换。第一及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。
  • 双开遮蔽构件薄膜沉积机台
  • [实用新型]遮蔽机构及具有遮蔽机构的沉积腔体-CN202121457170.4有效
  • 林俊成;沈祐德 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-06-29 - 2022-03-29 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种具有遮蔽机构的沉积腔体，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽机构，其中部分的遮蔽机构及承载盘位于反应腔体内。遮蔽机构包括一第一承载臂、一第二承载臂、一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一及第二承载臂，并经由第一及第二承载臂承载第一及第二遮蔽板，以驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行清洁制程时，驱动装置会带动第一及第二遮蔽板相互靠近，并将操作在遮蔽状态的第一及第二遮蔽板放置在承载盘上，以遮挡清洁沉积腔体的过程中产生的污染。
  • 遮蔽机构具有沉积
  • [实用新型]用以感测遮蔽机构开合状态的薄膜沉积设备-CN202122394656.4有效
  • 林俊成;沈祐德 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-09-30 - 2022-03-15 - C23C14/54
  • 本实用新型提供一种用以感测遮蔽机构开合状态的薄膜沉积设备，主要包括一反应腔体、一承载盘、一遮蔽机构及两个距离感测单元，其中承载盘及部分的遮蔽机构位于反应腔体的容置空间内。遮蔽机构包括两个遮蔽单元及至少一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽单元朝相反方向摆动，使得两个遮蔽单元操作在开启状态及遮蔽状态。两个遮蔽单元上皆设置一反射面，当遮蔽单元操作在遮蔽状态时，两个距离感测单元产生的感测光束分别投射在两个遮蔽单元的反射面，并量测两个遮蔽单元与距离感测单元的距离，以确定遮蔽机构操作在遮蔽状态。
  • 用以遮蔽机构状态薄膜沉积设备
  • [发明专利]半导体原子层沉积装置的喷洒头结构-CN202010948936.2在审
  • 林俊成;易锦良;许云齐 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2020-09-10 - 2022-03-11 - C23C16/455
  • 一种半导体原子层沉积装置的喷洒头结构，包括一扩散盘、一盘盖、一气体引流管及一气体引入器，该扩散盘具有贯穿的复数喷孔，该盘盖结合在该扩散盘顶面，中央具有一穿孔，底面具有与该穿孔相通的一扩槽，该气体引流管结合于该盘盖上且具有呈倒漏斗状的一引流槽道，该气体引入器封盖于该气体引流管上端，底面具有一内槽，周面具有至少一进气流道，该进气流道的内端具有向下倾斜一角度以连通该内槽的一出气段，该出气段的中心轴线形成一偏心角度使偏离该气体引入器的中心轴线；藉此可使气体形成涡流以大幅提升沉积薄膜的均匀度。
  • 半导体原子沉积装置喷洒结构
  • [实用新型]基板承载固定机构及沉积设备-CN202122231981.9有效
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-09-15 - 2022-03-11 - H01J37/32
  • 本实用新型为一种基板承载固定机构，主要包括一承载盘、一第一盖环及一第二盖环，其中承载盘包括一承载面用以承载一基板，并于承载面的周围环绕设置一第一对位单元。第二盖环连接第一盖环，并包括一第二对位单元。第二盖环放置在第一盖环的内侧，其中第一盖环的周长大于第二盖环，并用以承载第二盖环。当承载盘朝第一盖环及第二盖环位移时，第二盖环的第二对位单元会接触承载盘的第一对位单元，并对位第二盖环及承载盘，使得第二盖环接触承载盘上的基板的固定位置，以将基板固定在承载盘的承载面上，并对基板进行薄膜沉积制程。
  • 承载固定机构沉积设备
  • [实用新型]基板对准机构及应用该基板对准机构的键合机台-CN202122122289.2有效
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-09-03 - 2022-03-08 - H01L21/68
  • 本实用新型为一种基板对准机构，主要包括一载台、复数个承载针脚、一第一对位针脚及复数个第二对位针脚。承载针脚设置在载台的周围，用以承载一第一基板，并可带动第一基板相对于载台升降。第一及第二对位针脚设置在载台的周围，可相对于载台升降，并远离或靠近载台。第一对位针脚升起并朝承载针脚的方向位移，以接触承载针脚上的第一基板，使得第一基板对准载台上的一对准区域。第二对位针脚平均分布在载台的周围，并用以承载及对位承载的一第二基板，使得第二基板对准第一基板，并完成键合对准的动作。
  • 对准机构应用机台
  • [实用新型]遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室-CN202120515649.2有效
  • 林俊成;郭大豪;郑啓鸿;沈祐德 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-03-11 - 2022-03-08 - C23C14/22
  • 本实用新型提供一种遮挡装置及具有遮挡装置的基板处理腔室，主要包括一反应腔体、一承载盘、一收纳腔体及一遮挡装置，其中反应腔体连接收纳腔体，而承载盘位于反应腔体内。遮挡装置包括至少一驱动杆体、至少一底座及一遮挡部，其中驱动杆体由收纳腔体延伸至反应腔体。底座连接遮挡部及驱动杆体，其中驱动杆体通过底座带动遮挡部在收纳腔体及反应腔体之间位移。在进行沉积制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至收纳腔体内。在进行清洁制程时，驱动杆体会带动遮挡部位移至反应腔体内，以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。
  • 遮挡装置具有处理
  • [实用新型]用以吹动粉末的原子层沉积装置-CN202121336604.5有效
  • 林俊成;张容华;古家诚 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-06-16 - 2022-02-22 - C23C16/455
  • 本实用新型提供一种用以吹动粉末的原子层沉积装置，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元通过轴封装置带动真空腔体转动。轴封装置包括一外管体及一内管体，其中内管体由外管体的容置空间延伸至真空腔体的反应空间，并在反应空间内形成一凸出管部。至少一抽气管线及至少一进气管线位于内管体内，其中进气管线穿过凸出管壁的管壁，并由内管体延伸至反应空间。延伸管壁包括复数个出风口朝向反应空间下半部的表面，并用以将一非反应气体输送至反应空间，以吹动反应空间内的粉末。
  • 用以吹动粉末原子沉积装置
  • [实用新型]可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台及其遮挡机构-CN202122000256.0有效
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-08-24 - 2022-02-08 - C23C14/50
  • 本实用新型提供一种可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台，主要包括一腔体、一载台、一环形构件、一挡件及一盖环。载台及挡件位于腔体的容置空间内，其中环形构件连接载台。盖环设置在挡件的一环形凸缘，并包括至少一凸起部，其中凸起部位于盖环的内侧，并朝腔体的顶部凸起。盖环的凸起部用以遮挡载台的侧面，以减少沉积在载台侧面上的薄膜。盖环的凸起部亦有利于引导载台上方的气体，使得气体由载台的上方流向盖环的径向外侧，以提高载台及基板的边缘区域的气体流动的稳定性，并提高沉积在基板的边缘区域的薄膜均匀度。
  • 提高沉积均匀薄膜机台及其遮挡机构
  • [实用新型]具有对开式遮蔽构件的沉积设备-CN202121457293.8有效
  • 林俊成;沈祐德 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-06-29 - 2022-01-25 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件，其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区，其中两个感测区连接反应腔体，且感测区的厚度小于反应腔体。对开式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行沉积制程时第一及第二遮蔽板会相互远离，其中部分的第一及第二遮蔽板位于感测区内。在进行清洁制程时第一及第二遮蔽板会相互靠近，并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。
  • 具有对开遮蔽构件沉积设备
  • [实用新型]键合机的对准机构-CN202121703715.5有效
  • 林俊成 - 鑫天虹(厦门)科技有限公司
  • 2021-07-26 - 2022-01-25 - H01L21/68
  • 本实用新型提供一种键合机的对准机构，尤指一种晶圆键合机的对准机构，主要包括一载台、三个第一对准单元及三个第二对准单元。载台的承载面具有一放置区用以放置一第一基板，其中第一对准单元及第二对准单元环绕设置在承载面的放置区周围。第一对准单元包括一底部及一凸出部，其中凸出部朝放置区的方向凸出底部。第一对准单元的底部用以定位第一基板，而第一对准单元的凸出部则用以承载一第二基板，并以第二对准单元定位放置在第一对准单元的凸出部上的第二基板，使得第二基板对准第一基板，以利于第一基板及第二基板的键合重叠。
  • 键合机对准机构
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