专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有检测及调整水平功能的键合机台-CN202210419172.7在审
  • 林俊成;张容华;张茂展 - 天虹科技股份有限公司
  • 2022-04-20 - 2023-10-27 - H01L21/67
  • 本发明为一种具有检测及调整水平功能的键合机台,主要包括一第一腔体、一第二腔体、一压合单元、一载台、多个水平调整单元及多个伸缩式距离量测单元。第一腔体用以连接第二腔体,并在两者之间一密闭空间。压合单元设置在第一腔体内,而载台则设置在第二腔体内。压合单元面对载台,并用以键合放置在载台上的基板。水平调整单元设置在第一腔体上,而伸缩式距离量测单元设置在第二腔体上。压合单元朝载台靠近时,会接触并压缩伸缩式距离量测单元,以量测压合单元的水平,并通过水平调整单元调整压合单元的水平,使得压合单元及载台可持续保持水平。
  • 具有检测调整水平功能机台
  • [发明专利]沉积机台的承载盘控制方法-CN202210220650.1在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2022-03-08 - 2023-09-19 - C23C14/50
  • 本发明提供一种沉积机台的承载盘控制方法,沉积机台包括一腔体、一承载盘、一挡件及一覆盖环。覆盖环设置于挡件上,而承载盘则承载一晶圆,并相对于挡件位移。承载盘开始接触覆盖环的位置定义为一接触位置,并分别于接触位置的下方及上方定义第一及第二位置。承载盘接触第一位置后开始降低位移的速度,而后承载盘带动覆盖环离开挡件。当承载盘接触第二位置后,开始增加离开挡件的速度。通过本发明的控制方法,可减小晶圆与各个机构之间的碰撞力度,以减少在碰撞的过程中产生微粒并防止晶圆损坏。
  • 沉积机台承载控制方法
  • [发明专利]基板传送方法-CN202210173232.1在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2022-02-24 - 2023-09-05 - H01L21/677
  • 本发明提供一种基板传送方法,包括将存放在一基板存放区内的复数个基板定义为工作基板及暂存基板。一机械手臂由基板存放区取出其中一工作基板,将工作基板传送至对准单元进行对准,并将经过对准的工作基板传送至一加载互锁腔体。机械手臂由基板存放区取出其中一暂存基板,将暂存基板传送至对准单元进行对准,并将经过对准的暂存基板传送至一氮气缓冲腔体。通过本发明所述的方法,可避免在暂存基板上形成氧化层,或避免设置在暂存基板上的光阻吸水形变,而影响光阻定义的线宽及线距的精准度。
  • 传送方法
  • [发明专利]具有调整功能的键合机台-CN202210101279.7在审
  • 林俊成;张容华;张茂展 - 天虹科技股份有限公司
  • 2022-01-27 - 2023-08-08 - H01L21/68
  • 本发明为一种具有调整功能的键合机台,主要包括一第一腔体、一第二腔体、一压合单元、一载台及复数个水平调整单元,其中第一腔体用以连接第二腔体,并在两者之间一密闭空间。压合单元设置在第一腔体内,而载台则设置在第二腔体内,其中压合单元面对载台,并用以键合放置在载台上的基板。水平调整单元设置在第一腔体上,其中水平调整单元的调整杆穿过第一腔体,并连接压合单元。部分的调整杆位于密闭空间外部,并在第一腔体上形成一调整部,使用者可经由调整部快速且准确地调整压合单元与载台的水平。
  • 具有调整功能机台
  • [发明专利]震动式薄膜沉积装置-CN202210050028.0在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2022-01-17 - 2023-07-25 - C23C16/455
  • 本发明提供一种震动式薄膜沉积装置,主要包括一真空腔体、一固定杆体及一粉末槽,其中真空腔体包括至少一内侧面,并于内侧面上设置复数个凸起部及复数个凹陷部。固定杆体及粉末槽设置在真空腔体的一容置空间内,其中粉末槽用以装设粉末,并经由至少一凸出单元接触真空腔体的内侧面。真空腔体相对于固定杆体转动时,凸出单元会在凸起部及凹陷部之间位移,使得连接固定杆的粉末槽相对于真空腔体上下位移,并震动粉末槽内的粉末,以在粉末的表面形成均匀的薄膜。
  • 震动薄膜沉积装置
  • [发明专利]具有环形抽气单元的沉积机台-CN202111598379.7在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-12-24 - 2023-06-27 - C23C16/455
  • 本发明为一种具有环形抽气单元的沉积机台,包括一腔体、一承载盘、一环形抽气单元及一进气单元,其中腔体包括一容置空间及一沟槽,沟槽环绕在容置空间的外围。环形抽气单元包括一环形主体、一环形盖板及一环形遮挡件,其中环形主体包括一环形凹槽、至少一连接孔及复数个排气孔。环形盖板覆盖环形凹槽,使得环形凹槽形成一环形通道,其中沟槽经由连接孔、环形通道及排气孔连接容置空间。环形遮挡件位于环形通道内,并可相对于环形主体位移,以调整连接孔的面积及由排气孔抽出的气体流量,并在承载盘上形成稳定的流场。
  • 具有环形单元沉积机台
  • [发明专利]用以改善基板温度分布的沉积机台-CN202111600672.2在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-12-24 - 2023-06-27 - C23C16/455
  • 本发明为一种用以改善基板温度分布的沉积机台,包括一腔体、一承载盘、一加热单元、一抽气环及一环形加热器,其中加热单元连接承载盘,并用以加热承载盘承载的基板。抽气环包括复数个排气孔及一环形通道,其中排气孔位于承载盘的周围,并用以将容置空间内的气体依序经由排气孔、环形通道及抽气通道排出,以在基板上形成稳定的流场。环形加热器设置在抽气环的下方,其中环形加热器位于承载盘的周围,并用以加热承载盘的外围区域,以改善承载盘承载的基板的温度分布。
  • 用以改善温度分布沉积机台
  • [发明专利]沉积机台-CN202111551777.3在审
  • 林俊成;郭大豪 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-12-17 - 2023-06-20 - C23C16/455
  • 本发明为一种沉积机台,包括一腔体、一承载盘、一抽气环及一扩散单元,其中承载盘位于腔体的一容置空间内。腔体包括一抽气通道环绕设置在容置空间的外围,其中抽气通道具有一第一、一第二及一第三抽气区。第一抽气区经由第二抽气区连接第三抽气区,其中第三抽气区的高度大于第一抽气区。抽气环包括复数个排气孔及一环形通道,其中排气孔位于承载盘的周围,可将容置空间内的气体依序经由排气孔、环形通道及抽气通道排出,并有利于在承载盘上形成稳定的流场,以提高薄膜沉积的均匀度。
  • 沉积机台
  • [发明专利]遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台-CN202111499369.8在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-12-09 - 2023-06-13 - C23C16/04
  • 本发明提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台,包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器,其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置,其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动,使得两个遮挡单元操作在开启状态及遮挡状态。两个遮挡单元的上表面皆设置一遮挡凸部及一感测区,其中感测区与遮挡凸部相邻,用以阻隔污染物沉积在感测区,以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。
  • 遮挡装置具有薄膜沉积机台
  • [发明专利]一种电浆增强式薄膜沉积设备-CN202111516704.0在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-12-07 - 2023-06-09 - C23C16/455
  • 本发明为一种电浆增强式薄膜沉积设备,包括一腔体、一承载件、一喷洒头、一环状隔离单元及一射频线圈,其中腔体包括一容置空间,承载件位于容置空间内具有一承载面,并透过承载面承载至少一基板。喷洒头流体连接容置空间,喷洒头的出气口朝向承载面。环状隔离单元包括一设置空间,承载件、喷洒头及环状隔离单元在容置空间内定义出一反应空间,设置空间与容置空间彼此独立,喷洒头用以提供一前驱物至反应空间,射频线圈设置于设置空间内且耦接一射频电源,以对基板进行电浆增强式薄膜沉积制程。
  • 一种增强薄膜沉积设备
  • [发明专利]晶圆键合机台-CN202111414336.9在审
  • 林俊成;张容华;张茂展 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-11-25 - 2023-05-26 - H01L21/603
  • 本发明提供一种晶圆键合机台,包括一载台、三个第一对准单元、三个第二对准单元、一压合板及两个平边对准单元。载台的承载面具有一放置区用以放置一第一晶圆,其中第一对准单元、第二对准单元及平边对准单元设置在放置区周围。第一对准单元用以定位第一晶圆,并承载一第二晶圆。第二对准单元用以定位第二晶圆,而平边对准单元则用以接触第一及第二晶圆的平边,以对准第一晶圆及第二晶圆的角度。压合板面对载台的承载面,并用以压合承载面上经过对位的第一及第二晶圆,而平边对准单元则会随着压合板相对于载台升降。
  • 晶圆键合机台
  • [发明专利]适用于键合基板的原子层沉积机台-CN202111340422.X在审
  • 林俊成 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-11-12 - 2023-05-16 - C23C16/455
  • 本发明为一种适用于键合基板的原子层沉积机台,主要包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡机构及一扩散单元,其中承载盘及扩散单元位于反应腔体的容置空间内。遮挡机构包括一连接杆及一遮挡板,其中遮挡板位于容置空间内并面对承载盘,而连接杆则穿过反应腔体并连接遮挡板。承载盘用以承载至少一键合基板,并带动承载的键合基板相对于遮挡机构位移,使得遮挡机构的遮挡板接触键合基板的上表面。当遮挡板接触键合基板的上表面时,扩散单元会位于键合基板的周围,并朝键合基板的侧表面输出前驱物,以在键合基板的侧表面上形成保护层。
  • 适用于键合基板原子沉积机台
  • [发明专利]喷洒装置及薄膜沉积设备-CN202111256284.7在审
  • 林俊成;郭大豪;易锦良 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-10-27 - 2023-04-28 - C23C16/455
  • 本发明为一种喷洒装置及薄膜沉积设备,主要包括一第一输送管线、一第二输送管线、一扩散单元、一环形扩散单元。第一及第二输送管线连接扩散单元,分别将第一及第二前驱物输送至扩散单元的第一及第二进气管输送,使得第一及第二前驱物输送至扩散单元的下方。环形扩散单元设置在扩散单元的周围,并包括一第一环形输送管线及复数个第三进气管,其中第三进气管朝向扩散单元的下方,并用以将第二前驱物输送至扩散单元的下方。
  • 喷洒装置薄膜沉积设备
  • [发明专利]扩散机构及薄膜沉积机台-CN202111229113.5在审
  • 林俊成;郭大豪 - 天虹科技股份有限公司
  • 2021-10-21 - 2023-04-25 - C23C16/455
  • 本发明为一种扩散机构及薄膜沉积机台,主要包括一传输管线、一导流单元、一输入管线及一扩散板,其中输入管线经由传输管线连接扩散板。传输管线具有一传输空间,而导流单元则设置在传输空间内,并将传输空间区分为一第一及一第二传输空间。导流单元的上表面具有一凸起部,凸起部的周围环绕设置复数个导流管线,其中导流管线相对于导流单元的上及下表面倾斜。第一传输空间内的气体或电浆经由导流管线输送至第二传输空间,并在第二传输空间内形成漩涡,以在扩散机构的下方形成分布均匀的气体或电浆。
  • 扩散机构薄膜沉积机台

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