专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种钢琴调律止音皮条-CN202222196235.5有效
  • 洪佳翩翩;杨博光;荆蕾 - 洪佳翩翩;杨博光;荆蕾
  • 2022-08-19 - 2023-03-28 - G10C3/07
  • 本实用新型公开了一种钢琴调律止音皮条,包括一号板、二号板、角度调节组件、皮条更换组件和尾板,一号板上方与二号板转动连接,一号板下方与压板固定连接,压板一侧安装有角度调节组件,一号板外表面安装有皮条更换组件,压板下方固定连接有尾板,通过拨动拨轮,带动螺杆旋转,从而推动螺帽位移,挤压侧板、弹簧杆向外移动,从而配合铰座,调整一号板、二号板形成的角度,使得结构能够适当的调整插入皮条的角度变化,以适应不同情况下的琴弦插入止音效果,避免,皮条与琴弦缝隙不适配而导致的操作繁琐,便于人员调节应用。
  • 一种钢琴调律止音皮条
  • [实用新型]一种掩模台及光刻机-CN202122984231.9有效
  • 杨博光;蔡晨;张德峰;王鑫鑫;冒鹏飞 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-08-26 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种掩模台及光刻机,属于光刻设备领域,该掩模台包括水平向运动单元和垂向运动单元,所述水平向运动单元包括底座和承版台组件,所述底座上设有所述承版台组件,所述承版台组件用于承载掩模版;所述垂向运动单元位于所述水平向运动单元的下方,所述垂向运动单元包括底板和垂向运动补偿组件,所述垂向运动补偿组件设置于所述底板和所述底座之间,所述垂向运动补偿组件被配置为能够驱动所述水平向运动单元沿竖直方向上下运动,以实现掩模台的垂向位置补偿。该光刻机包括上述掩模台。该掩模台实现了掩模台的垂向运动补偿,从而实现了实时补偿掩模台与物镜的位置偏差,掩模台精度高。
  • 一种掩模台光刻
  • [实用新型]一种曝光装置-CN202123437264.8有效
  • 冒鹏飞;蔡晨;杨博光;温振坤;姜晓飞 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-05-31 - G03F7/20
  • 本实用新型提供一种曝光装置,包括:吸盘、吸盘支撑组件以及升降机构,所述吸盘连接于所述吸盘支撑组件的上表面,所述升降机构通过升降将硅片承载于所述吸盘的上表面,其中,所述吸盘及所述升降机构依次传导静电形成第一静电传导路径;所述吸盘支撑组件包括吸盘座及连接于所述吸盘座的接地端子,所述吸盘、所述吸盘座及所述接地端子依次传导静电形成第二静电传导路径。本实用新型提供的曝光装置,升降机构将硅片运输至吸盘的过程中,将硅片的静电传导到大地,以及在将硅片放置于吸盘后,吸盘及吸盘支撑组件接着将硅片的静电传导到大地,如此,便可将硅片的静电耗散掉,避免因静电导致芯片损坏。
  • 一种曝光装置
  • [实用新型]基板平整装置及光刻设备-CN202121481656.1有效
  • 杨博光;王鑫鑫;蔡晨;孙铖 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-06-30 - 2021-11-26 - G03F7/20
  • 本实用新型提供一种基板平整装置及光刻设备,所述基板平整装置包括:驱动单元和压边单元,所述压边单元包括多个压板,多个所述压板用于与基板的多个边缘区域一一对应设置,所述驱动单元被配置为,在吸盘完成对所述基板的吸附后,若所述基板的某一边缘区域的真空吸附阈值不满足设定条件时,则朝接近所述基板的方向驱动相应所述压板以至少对真空吸附阈值不满足设定条件的所述边缘区域进行按压,如此便可解决翘曲基板吸附问题,提高工件台对不同基板的适应性及吸附能力。
  • 平整装置光刻设备
  • [发明专利]一种杂波抑制的现场电磁测量装置及方法-CN202110892748.7在审
  • 洪涛;杨博光;姜文;胡伟;龚书喜 - 西安电子科技大学
  • 2021-08-04 - 2021-11-02 - G01R29/08
  • 本发明公开了一种杂波抑制的现场电磁测量装置及方法,其装置包括近远场变换模块、分析模块、数据测试模块、坐标系平移模块、延拓模块和杂波抑制模块。本发明的方法是利用现场测量方法获取有杂波干扰情况下的待测目标测量数据,进行近远场变换并平移坐标系、延拓远场电场数据的定义域,再利用滤波函数对模式分离后的展开式模系数进行滤波,然后结合待测目标数据对不同空间位置的场源贡献,分离杂波干扰,重建远场方向图,得到杂波抑制后的远场方向图,本发明提高了电磁测量精度,实现了现场测量中的杂波抑制。
  • 一种抑制现场电磁测量装置方法
  • [实用新型]一种吸盘-CN202023202985.6有效
  • 杨博光;张记晨;姚殿奎;蔡晨;冒鹏飞 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-12-25 - 2021-08-31 - H01L21/683
  • 本实用新型提供一种吸盘,包括:吸盘本体,所述吸盘本体包括吸附区域和围绕所述吸附区域的环形沉槽,所述吸附区域的直径小于待吸附基底的直径,所述环形沉槽的外径大于待吸附基底的直径,所述消光层至少覆盖所述环形沉槽的底部,且所述消光层的厚度小于所述环形沉槽的深度。本实用新型提供的所述吸盘通过环形沉槽的布置,有效地解决了因基底边缘与吸盘本体凸环重叠,光学缺陷检测分系统无法对基底边缘有效识别从而导致基底边缘不能有效对准的问题。
  • 一种吸盘
  • [发明专利]一种吸盘-CN201911398450.X在审
  • 杨博光;王鑫鑫;蔡晨 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2019-12-30 - 2021-07-16 - H01L21/683
  • 本发明提供一种吸盘,所述吸盘包括:吸盘本体和密封圈;所述吸盘本体具有至少一个环形的卡槽,所述卡槽的两侧分别为真空吸附区,所述卡槽中设有所述密封圈,所述密封圈凸出于所述吸盘本体。现有技术中,设于吸盘本体边缘的为密封圈,导致硅片翘曲量比较大一般发生在边缘区域,而在本发明提供的所述吸盘中,密封圈的两侧均配置有真空吸附区,当吸盘本体尺寸一定时,相比于现有技术,相当于缩小了密封圈的半径以避让出吸盘本体的边缘区域用以设置真空吸附区,从而减小整体真空吸附区和硅片的半径差,因此能够保证对大翘曲硅片边缘进行正常吸附,保证硅片边缘面形精度。
  • 一种吸盘
  • [发明专利]硅片吸附装置及激光退火设备-CN201910543485.1在审
  • 冒鹏飞;蔡晨;张德峰;杨博光 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2019-06-21 - 2020-12-22 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种硅片吸附装置及激光退火设备,该硅片吸附装置具有能够吸附硅片的吸附面,还包括标识差异件,标识差异件设置在硅片吸附装置上,用于形成标识区域,吸附面包括吸附区域,吸附区域被配置为能够吸附固定硅片,标识区域与吸附区域相邻设置,硅片被吸附区域吸附固定后,硅片的边缘至少部分落入标识区域内,标识区域与硅片具有不同的机器识别度。上述的硅片吸附装置能够提高硅片边缘提取精度及效率,硅片与吸盘对准效率高,有利于提高激光退火设备产能。相应地,本发明还提供一种激光退火设备。
  • 硅片吸附装置激光退火设备
  • [发明专利]一种汽车辅助驾驶装置-CN201310716826.3有效
  • 杨博光;曾佑轩;刘栋;辛绍杰 - 上海电机学院
  • 2013-12-20 - 2016-11-23 - B60K26/02
  • 本发明提出一种汽车辅助驾驶装置,包括控制元件,传动部件以及感应元件,所述控制元件包括控制面板以及设置其上的控制按钮;所述传动部件包括水平放置的第一步进电机,竖直放置的第二步进电机,以及竖直放置的第三步进电机,所述三个步进电机分别连接于所述控制面板,所述第二步进电机和第三步进电机通过螺母连接于传动杆,所述传动杆末端通过铰支点连接于铰支触端;所述感应元件包括设置于所述第二步进电机和第三步进电机下方的位移传感器。本发明提出的汽车辅助驾驶装置,能够实现控制智能化,通过传感器能够通过控制面板显示到踩油门踏板的大小和踩制动踏板的力度,并且结构简单,操作方便,符合人性化设计理念。
  • 一种汽车辅助驾驶装置

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