专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]MOS晶体管偏移消除差分电流锁存感测放大器-CN201780058407.1有效
  • 那太辉;宋炳圭;郑成煜;金俊培;康相赫 - 高通科技公司;延世大学大学工业基金会
  • 2017-09-18 - 2023-09-22 - G11C7/06
  • 提供了用于感测差分电压的金属氧化物半导体(MOS)晶体管偏移消除(OC)零感测(ZS)死区电流锁存感测放大器(SA)(CLSA)(OCZS‑SA)。OCZS‑SA被配置为利用较小的感测放大器偏移电压来放大所接收的差分数据和参考输入电压,以在存储器位单元的不同存储状态之间提供较大的感测裕度。OCZS‑SA被配置为消除输入和补充输入晶体管的偏移电压,并且在感测阶段保持输入和补充输入晶体管处于其激活状态,使得当它们的栅极到源极电压(Vgs)低于它们各自的阈值电压时,不会在它们的“死区”中执行感测。在其他方面,感测放大器电容器被配置为在电压捕获阶段期间直接存储输入和补充输入晶体管的栅极处的数据和参考输入电压,以避免否则将利用附加感测电容器电路消耗的附加布局面积。
  • mos晶体管偏移消除电流锁存感测放大器
  • [发明专利]异构高度逻辑单元架构-CN202180063898.5在审
  • H·利姆;V·宝娜帕里;F·旺;康相赫 - 高通股份有限公司
  • 2021-07-28 - 2023-05-30 - G06F30/394
  • MOS IC包括相邻的晶体管逻辑的第一集合和晶体管逻辑的第二集合,每一者包括在第一方向上以相同的栅极间距延伸的共线栅极互连。晶体管逻辑的第一集合具有第一单元高度h1和在第二方向上单向延伸的第一数目的Mx层轨道,该第二方向与第一方向正交。晶体管逻辑的第二集合具有第二单元高度h2和在第二方向上单向延伸的第二数目的Mx层轨道,其中h2h1,并且第二数目的Mx层轨道大于第一数目的Mx层轨道。以下中的至少一者:高度比率hR=h2/h1为非整数值,或者晶体管逻辑的第一集合的子集和晶体管逻辑的第二集合的子集在一个逻辑单元内。
  • 高度逻辑单元架构
  • [发明专利]用于改进引脚可访问性的多位多高度单元-CN202180055195.8在审
  • F·旺;H·利姆;康相赫;V·宝娜帕里;S·阿罗拉 - 高通股份有限公司
  • 2021-08-04 - 2023-05-02 - H01L27/02
  • MOS IC包括MOS逻辑单元,其在第一子单元和第二子单元中分别包括第一晶体管逻辑集合和第二晶体管逻辑集合。第一晶体管逻辑集合和第二晶体管逻辑集合在功能上彼此隔离。MOS逻辑单元包括在Mx层上的第一Mx层互连件集合,第一Mx层互连件集合在第一子单元和第二子单元之上在第一方向上延伸。第一Mx层互连件集合的第一子集耦合到第一子单元中的第一晶体管逻辑集合的输入/输出,并且未连接到第二晶体管逻辑集合。第一Mx层互连件集合的第一子集中的每个Mx层互连件从第一子单元的第一晶体管逻辑集合的对应输入/输出延伸到第二子单元,并且是第一晶体管逻辑集合的对应输入/输出。
  • 用于改进引脚访问多位多高度单元
  • [发明专利]一种磁隧道结(MTJ)器件及其制造方法-CN201780048801.7有效
  • 朴禅度;J·J·坎;康相赫 - 高通股份有限公司
  • 2017-07-20 - 2023-01-17 - H10N50/10
  • 公开的各方面包括减少或避免来自蚀刻磁隧道结(MTJ)器件的金属沉积。在一个示例中,MTJ器件的底部电极的宽度被设置为小于MTJ器件的MTJ堆叠的宽度。以这种方式,可以减少或避免底部电极的蚀刻以减少或避免由于过蚀刻MTJ器件而导致的金属再沉积以避免相邻器件之间的水平短路。在另一示例中,种子层嵌入MTJ器件的底部电极中。以这种方式,MTJ堆叠的高度减小以减少或避免由于过蚀刻MTJ器件而导致的金属再沉积。在另一示例中,MTJ器件包括底部电极中的具有的宽度也小于MTJ堆叠的宽度的嵌入种子层。
  • 一种隧道mtj器件及其制造方法

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