“C23F1/26”专利分类搜索_专利查询_文献下载_出售_求购_买卖_交易

钻瓜专利网为您找到相关结果155个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种适用于增材制造高强韧Ti-5321合金的金相腐蚀方法-CN202310918232.4在审
发明人：刘国政;赵永庆;贾蔚菊;赵秦阳;高广睿;周伟;毛成亮;呼丹;王建军 -专利权人：东北大学;西北有色金属研究院;长安大学;西安赛福斯材料防护有限责任公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于增材制造高强韧Ti‑5321合金的金相腐蚀方法，具体过程为：先将增材制造获得的高强韧Ti‑5321合金进行粗磨和细磨，经抛光后采用由氢氟酸溶液、硝酸溶液、过氧化氢溶液与去离子水配制而成的金相腐蚀剂进行腐蚀至抛光面变色，再采用无水乙醇清洗并吹干，得到增材制造高强韧Ti‑5321合金的金相试样。本发明通过控制金相腐蚀剂组成，以保证其具有合适的腐蚀速度，使得增材制造高强韧Ti‑5321合金的金相试样显微组织清晰显现，既能使低倍下增材制造组织不均匀性的特征清晰显现，又能使高倍下热处理后Ti‑5321合金中超细α相等细小相清楚完整的呈现，满足了不同观察倍数下的显微组织观察。
一种适用于制造强韧 ti 5321 合金金相腐蚀方法

[发明专利]一种生物活性离子掺杂羟基磷灰石钛合金表面涂层及其制备方法-CN202210588335.4有效
发明人：蔡晴;戴文捷;赵弘旸;贾晓龙;翟晖;杨小平 -专利权人：北京化工大学
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种生物活性离子掺杂羟基磷灰石钛合金表面涂层及其制备方法。具体采用含目标生物活性离子的钙磷前驱体溶胶‑凝胶溶液，经过陈化、浸涂、干燥和烧结步骤制备，涂层均匀致密且厚度可控，制备方法简便，质量重现性高。生物活性离子指除钙离子、磷酸根离子和氢氧根离子以外的可掺入羟基磷灰石的离子，常见有二价金属阳离子，包括锶、镁、铜、锌、锰等金属离子中的一种或一种以上，在无细胞毒性的前提下可赋予涂层促成骨、促成血管、抗菌、抗炎等多重生物功能特性，促进钛合金骨植入物周围骨再生，加速骨整合，延长修复体的使用寿命。
一种生物活性离子掺杂羟基磷灰石钛合金表面涂层及其制备方法

[发明专利]一种钛铝钛复合膜层的酸性蚀刻液及制备方法-CN202211160441.9有效
发明人：白晓鹏;李泰亨;申阳;王丹宇;苗发虎 -专利权人：易安爱富（武汉）科技有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提出了一种钛铝钛复合膜层的酸性蚀刻液及制备方法，所述酸性蚀刻液包括氧化性酸、非氧化性酸、硫代硫酸盐和去离子水。本发明酸性蚀刻液中的硫代硫酸盐可与二氧化钛形成络合物而溶解于药液中，从而促进金属钛的持续蚀刻，从而避免二氧化钛钝化膜阻止进一步蚀刻反应。
一种钛铝钛复合酸性蚀刻制备方法

[发明专利]一种选区激光熔化TC4合金基复合材料及其制备方法和应用-CN202210568449.2有效
发明人：李宁;颜家振;董鑫;张幖;李锐;张玉鲜;刘楠;樊星云 -专利权人：成都科宁达材料有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种选区激光熔化TC4合金基复合材料的制备方法，包括如下步骤：采用酸性溶液对选区激光熔化TC4合金进行腐蚀处理，得到表面腐蚀合金；在所述表面腐蚀合金的表面进行镀膜处理，得到表面为镍铬钼合金镀层的选区激光熔化TC4合金基复合材料。本发明先对选区激光熔化TC4合金进行腐蚀处理，能够去除其表面的夹杂物和应力层，再进行表面镀膜处理，得到表面为镍铬钼合金镀层的选区激光熔化TC4合金基复合材料，其中，合金镀层中的镍和铬元素对氧亲和性较大，显著改善了内生氧化膜的性质，促进TC4合金和陶瓷的化学结合；钼元素作为表面活性剂，改善了镀层的表面质量，进一步提高了TC4合金和陶瓷的物理和化学结合力。
一种选区激光熔化 tc4 合金复合材料及其制备方法应用

[发明专利]一种环保脱镍剂及其制备方法-CN202310261775.3有效
发明人：禹玉新 -专利权人：广州麦吉柯电子材料有限公司
申请日： 2023-03-16 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提出了一种环保脱镍剂及其制备方法，属于化学退镀技术领域，由以下原料按重量份制备而成：复合络合剂70‑120份、藻提取物15‑30份、缓蚀剂35‑55份、氧化剂50‑100份、控水剂10‑30份、表面活性剂7‑12份、水500‑700份，加入pH调节剂调节体系的pH值为7.8‑8.2。本发明制得的环保脱镍剂具有环境友好的特点，且原料来源广，制备方法简单，制得的环保脱镍剂可以在温和的条件下对铸件进行退镍反应，进行退镍处理之后的铸件能达到不合格品的二次利用标准，降低了生成成本，提高了生产效率和工艺水平，且该环保脱镍剂可以通过双氧水、氧气再生间硝基苯磺酸钠，便于回收再利用。
一种环保脱镍剂及其制备方法

[发明专利]一种钛合金零件的减重方法及其应用-CN202310586784.X在审
发明人：李弘;孟晓东;刘云超;薄煜;平常在;程永建;刘珍君 -专利权人：河北钢研德凯科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及精密铸造和机械加工领域，具体而言，涉及一种钛合金零件的减重方法及其应用。所述的钛合金零件的减重方法包括如下步骤：将钛合金零件的非腐蚀区域覆盖后，置于氢氟酸中进行反应，待所述反应完成后取出所述钛合金零件并进行高真空度除氢退火；其中，所述氢氟酸的质量分数为0.08％～0.21％。该方法可用于复杂结构零件的减重，简单易行，操作难度低，成本低，劳动强度低，不受操作空间影响。并且，该方法不会破坏零件的加工面，腐蚀厚度均匀，腐蚀面光滑。此外，反应后进行高真空度除氢退火处理消除了钛合金零件发生“氢脆”的风险。
一种钛合金零件方法及其应用

[发明专利]钛钢复合板低倍腐蚀剂及腐蚀方法和装置-CN202310542995.3在审
发明人：陈容;黄洁;张达富;刘希斌 -专利权人：攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种钛钢复合板低倍腐蚀剂及腐蚀方法和装置，腐蚀剂为氟化钾、硫酸、草酸、甲酸、硝酸、二邻甲苯硫脲、月桂醇聚醚硫酸酯钠和水的混合溶液，氟化钾的含量为1～5质量份，硫酸的含量为10～15体积份，草酸的含量为5～10质量份，甲酸的含量为5～10质量份，硝酸的含量为3～8体积份，二邻甲苯硫脲的含量为0.5～1质量份，月桂醇聚醚硫酸酯钠的含量为0.5～2质量份，溶液中的水为蒸馏水。本发明可准确显示钛钢复合板低倍信息，可直接测定钛侧、钢侧尺寸，间接评价钛、钢两侧平直度及复合界面的复合质量，对钛钢复合板的开发应用起到支撑作用。
复合板腐蚀剂腐蚀方法装置

[发明专利]一种集成电路用钛钨腐蚀液及其制备方法-CN202310173364.9在审
发明人：戈烨铭;何珂 -专利权人：江阴润玛电子材料股份有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提出了一种集成电路用钛钨腐蚀液及其制备方法，属于集成电路技术领域，由以下原料按重量份制备而成：硝酸5‑10份、硫酸3‑7份、磷酸15‑20份、聚多巴胺‑壳聚糖络合稳定剂3‑5份、表面活性剂1‑2份、水40‑50份。本发明中集成电路用钛钨腐蚀液能够有效的对钛钨合金进行刻蚀，有效分解钛钨表面的金属层，提高刻蚀效率，对金属层腐蚀均匀彻底、性能稳定、使用寿命长，腐蚀后残余液易冲洗无残留。
一种集成电路用钛钨腐蚀及其制备方法

[发明专利]一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法-CN202310294562.0在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F1领域，尤其涉及一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法。包括主剂和辅剂，以质量百分比计，所述主剂包括：过氧化氢6～20％，有机酸1～15％，有机碱1～15％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量；所述辅剂包括：有机酸5～30％，有机碱5～30％，过氧化氢稳定剂0.01～2％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量。解决倒角与蚀刻形貌的问题，具有14000ppm的铜离子负载能力，钼残下限可达0.50μm。
一种低成本蚀刻组合及其制备使用方法

[发明专利]一种蚀刻液及其制备方法与应用-CN202310395606.9在审
发明人：张伟明;聂航;章学春;沈楠;李玉兴 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法与应用，属于蚀刻剂技术领域。按质量百分数计，该蚀刻液包括2.00‑15.00wt％的过氧酸、2.00‑15.00wt％的有机酸A及2.00‑25.00wt％的有机酸B，余量为水；有机酸A包括甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、辛酸、己二酸、乙二酸、丙二酸及苯甲酸中的至少一种；有机酸B包括甲基磺酸、苹果酸、柠檬酸、马来酸及酒石酸中的至少一种。通过以上述蚀刻液对银与ITO膜构成的多层膜的银进行刻蚀，不仅避免了使用磷酸所导致的对基板中钛铝钛层有一定的损伤且不利于环保的问题，而且可有效去除ITO/Ag/ITO结构，形成优异的轮廓，没有银与ITO残渣，也无Ag的再吸附现象发生。
一种蚀刻及其制备方法应用

[发明专利]一种化学蚀刻组合物及其应用方法-CN202111634116.7在审
发明人：张文贝;刘兵;彭洪修 -专利权人：安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种化学蚀刻组合物，包括：氧化剂、络合剂、有机胺、有机溶剂、腐蚀抑制剂和去离子水。使用本发明提供的化学蚀刻组合物，能够有效刻蚀钼或钼基材料，同时避免对氧化硅和氧化铝等的刻蚀，操作窗口较大，在半导体蚀刻工艺中具有良好的应用前景。
一种化学蚀刻组合及其应用方法

[发明专利]一种蚀刻液及其制备方法和应用-CN202011322026.X有效
发明人：颜光明;雷霆;詹振翔;吕依芮 -专利权人：南通卓力达金属科技有限公司
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法和应用，蚀刻液包括以下组分：硝酸、氟离子源、缓蚀剂和溶剂；缓蚀剂为聚合物缓蚀剂。本发明的蚀刻液应用于钛及其合金的蚀刻工艺，包括以下步骤：(1)将钛及其合金的待蚀刻金属板进行覆膜处理；(2)在覆膜后的金属板上覆盖底片进行曝光处理，并对曝光后的金属板进行显影；(3)对显影后的金属板使用蚀刻液进行喷淋蚀刻，得到最终成品。本发明的蚀刻液易于制备，蚀刻液及蚀刻方法可实现精密蚀刻，还可减少对操作人员的伤害以及对环境的污染；且具有更大范围的操作温度。
一种蚀刻及其制备方法应用

[发明专利]一种相对于叠层金属侧蚀可控的W蚀刻液及其制备方法-CN202211669852.0在审
发明人：彭浩;尹印;万杨阳;贺兆波;张庭;王亮;余迪;叶瑞 -专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
申请日： 2022-12-25 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种相对于叠层金属侧蚀可控的W层蚀刻液及其制备方法。其组成包括氧化剂、助氧剂、缓冲试剂、抑制剂、表面活性剂和超纯水。该蚀刻液利用氧化剂将W被氧化形成氧化物而被蚀刻；无机酸作为次氧化剂；醋酸铵等缓冲试剂为蚀刻液提供了稳定的蚀刻环境；抑制剂可以抑制铝离子和铜离子对W蚀刻的影响；表面活性剂可以降低溶液表面张力，促进W蚀刻的均匀性和完整性。本发明提供了一种相对于叠层金属侧蚀可控的W蚀刻液及其制备方法，按照方法使用该蚀刻液不仅能有效控制叠层金属中W层被蚀刻，还可实现W的蚀刻精度高和蚀刻形貌好等优良品质，并且保证TiN和Ti层金属未被蚀刻，AlCu具有极低蚀刻速率。
一种相对于金属可控蚀刻及其制备方法

[发明专利]一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法-CN202211670386.8在审
发明人：彭浩;尹印;贺兆波;万杨阳;张庭;余迪;王亮;胡力 -专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
申请日： 2022-12-25 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明具体涉及一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法。所述的蚀刻液的组成主要包括氧化剂、稳定剂、铵盐、助氧剂、表面活性剂和醋酸。该蚀刻液利用氧化剂将TiN和Ti氧化形成氧化物而被蚀刻；铵盐作为缓蚀剂可以与金属离子进行络合；无机酸或有机酸作为次氧化剂，既增加氧化剂的氧化性又提供了足够的氢离子，使氧化剂的浓度维持在较高的水平，维持蚀刻速率稳定，延长蚀刻液的使用/储存寿命；表面活性剂可以降低溶液表面张力，促进TiN和Ti的蚀刻均匀性和完整性。按照本发明的方法使用该蚀刻液能够保证TiN金属薄膜和Ti金属薄膜的蚀刻速率基本一致（二者蚀刻速率差值≤17Å/min）。
一种 tin ti 金属薄膜蚀刻及其制备方法

[发明专利]一种铜钼蚀刻液及其制备方法-CN202211014276.6有效
发明人：钟昌东;贺兆波;张演哲;叶瑞;张庭;刘悦;黄锣锣;黎鹏飞;冯凯;尹印;王书萍;万杨阳;李金航;李鑫 -专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种铜钼蚀刻液及其制备方法。在本发明中，双氧水，双氧水稳定剂，无机酸，螯合剂，蚀刻抑制剂，表面活性剂，有机碱和去离子水构成铜钼叠层的蚀刻液。蚀刻液对金属铜、钼进行蚀刻的过程中，蚀刻液对金属铜、钼的蚀刻速率基本一致，多层金属之间不会出现阶梯状形貌。蚀刻液中噻唑类蚀刻抑制剂可以以物理吸附或化学键的形式结合在金属表面形成一层薄膜，稳定并控制蚀刻液对不同金属的蚀刻速率；聚氧乙烯烷醇酰胺等表面活性剂和醇胺类有机碱的协同作用可以调节蚀刻液的粘度、表面张力等物理性质，协作改变蚀刻液在不同金属层上的浸润效果，从而调节蚀刻液对铜和钼的蚀刻速率一致，消除不同金属层间的蚀刻差异，提高产品良率。
一种蚀刻及其制备方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
下一页»
尾页
共 155 条