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[发明专利]一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法及应用-CN202310692792.2在审
发明人：魏春雷;徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-06-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明公开了一种分光光度计测定铜酸蚀刻液中氯离子的方法，包括以下步骤：制备氯离子标准溶液；待测溶液前处理；分光光度计测定吸光度，绘制标准曲线。本发明通过加入硝酸溶液，可以避免蚀刻液本身pH值的影响，并且排除碳酸根的干扰，避免形成碳酸银沉淀，造成氯离子检测误差。并且前处理简单，不受待测溶液本身pH的影响，所需试剂少，无制毒成分，环境友好，操作简单，测试步骤少，节约时间，废液处理简单。
一种分光光度计测定蚀刻氯离子方法应用

[实用新型]一种SEM样品台-CN202222823468.3有效
发明人：凌明华;徐帅;李闯;张红伟;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N23/2204 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SEM样品台，属于SEM显微镜零部件技术领域，该一种SEM样品台，包括底台部；凸出部，一体成型于所述底台部的工作面，并以所述凸出部的上表面以及两侧面作为样品的附着面；固定件，由导电材料制成，固定于所述底台部的工作面，且位于所述凸出部的一侧；移动件。通过在一体成型于底台部工作面的凸出部的两侧分别设置固定件和移动件，通过控制移动件的线性移动，配合固定于底台部上工作面上固定件，从而实现固定件和移动件两相对夹持面间距的调节，从而实现对粘接于所述凸出部两侧面的样品进行夹持，并将固定件和移动件作为该样品的导电介质，以提高成像的清晰度。
一种 sem 样品

[发明专利]一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310515299.3在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：本发明涉及化学蚀刻液技术领域，尤其涉及IPC C09K13领域，更具体的，涉及一种ITO蚀刻液组合物及其制备方法。组分包括：草酸和/或草酸盐3‑10％，无机酸和/或无机酸盐0.01‑0.1％，有机碱0.5‑5％，表面活性剂0.01‑0.5％，去离子水补足余量。有机碱和表面活性剂的重量比为(1‑2)：(0.1‑0.5)，可提高ITO设备的稼动率，同时提高In负载达到2000ppm，提高药液使用周期较长，节省企业材料成本；表面活性剂包括萘系阴离子表面活性剂，可有效抑制草酸铟的结晶。
一种 ito 蚀刻组合及其制备方法

[发明专利]一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法-CN202310294562.0在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及专利IPC分类的C23F1领域，尤其涉及一种低成本的铜钼蚀刻液组合物及其制备与使用方法。包括主剂和辅剂，以质量百分比计，所述主剂包括：过氧化氢6～20％，有机酸1～15％，有机碱1～15％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量；所述辅剂包括：有机酸5～30％，有机碱5～30％，过氧化氢稳定剂0.01～2％，缓蚀剂0.001～1％，表面活性剂0.1‑10％，电化学调节剂0.3‑5％，超纯水补充余量。解决倒角与蚀刻形貌的问题，具有14000ppm的铜离子负载能力，钼残下限可达0.50μm。
一种低成本蚀刻组合及其制备使用方法

[发明专利]一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法-CN202310294563.5在审
发明人：刘长乐;丁荣;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;马强;魏春雷;徐帅;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及金属表面化学处理领域，尤其涉及IPC C23F1领域，具体涉及一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法。所述主剂的组分按照主剂的质量百分比计，包括：氧化剂3‑15％，强氧化性酸1‑15％，有机酸1‑15％，有机碱0.5‑15％，双氧水稳定剂0.01‑4.0％，金属缓蚀剂0.01‑1.0％。所述辅剂的组分按照辅剂的质量百分比计，包括：有机酸1‑40％，金属缓蚀剂0.01‑1％。本发明具有拥有极佳的蚀刻范围，能实现表面无金属残留、无倒角、无裂缝、较高的铜负载量，能有满足超精细产品的生产要求。
一种金属刻蚀及其使用方法

[发明专利]一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法-CN202310323581.1在审
发明人：徐帅;马强;李闯;张红伟;胡天齐;黄海东;刘长乐;丁荣;魏春雷;方新军;戚玉霞 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻液技术领域(IPC分类号为C23F1/18)，尤其涉及一种超高铜离子负载的金属蚀刻液组合物及其制备方法，所述组合物包括主剂和辅剂，所述主剂的制备原料包括：过氧化氢、氟源、有机酸、丁基醚衍生物、第一氨基氮唑衍生物、第一溶剂。所制备的金属蚀刻液组合物具有远高于现有技术的铜离子负载量，负载能力可达25000ppm，蚀刻性能良好，蚀刻持久性强，蚀刻液使用寿命长，经济效益高，实际应用中能够显著为企业节省成本并提高成品效果，具有极高的应用价值。
一种超高离子负载金属蚀刻组合及其制备方法

[实用新型]一种小型反应釜-CN202222131786.3有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B01F27/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型反应釜，属于反应釜技术领域，该一种小型反应釜，包括壳体部件，所述壳体部件内部中空形成有反应区间，所述壳体部件包括内层壳体和外层壳体，且所述内层壳体和外层壳体之间形成有控温区间；感温部件，所述感温部件的测温探头延伸至所述反应区间内；控温部件，通过管道同所述壳体部件上的流体进口和流体出口连接。通过设置感温部件对反应区间内液体温度进行测量，通过控制器对测量的数据进行处理，并将测量所得到的数值同标椎值进行比较，通过比较的结果控制控温部件的运行，进而对控温组件内流体的温度进行调节，进而实现反应区间内温度的调节，使反应温度可控化，从而降低实验误差。
一种小型反应

[实用新型]一种小型蚀刻机-CN202222132142.6有效
发明人：凌明华;徐帅;张红伟;李闯;黄海东;胡天齐;王毅明;方新军;戚玉霞 -专利权人：江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种小型蚀刻机，属于蚀刻机技术领域，该一种小型蚀刻机，包括壳体部件，内部形成有一工作区间；隔板部件，垂直设置于所述壳体部件内，从而将所述工作区间划分为相互独立的水洗区间和蚀刻区间；载物基台，设置于所述工作区间内。通过设置隔板部件将壳体部件的内部空间分为相互独立的蚀刻区间和水洗区间，配合蚀刻组件和水洗组件实现相应的蚀刻和水洗作业，通过设置推料组件带动放置有玻璃基板的载物基台在水洗区间和蚀刻区间之间运动，从而将玻璃基板的水洗作业和蚀刻作业联系在一起，实现产线化作业。
一种小型蚀刻

[实用新型]一种废弃铜蚀刻液用回收装置-CN202220938278.3有效
发明人：方新军;戚玉霞;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B01F27/90 文献下载
摘要：本实用新型公开一种废弃铜蚀刻液用回收装置，包括回收器壳体，回收器壳体顶部的一侧安装有第一电机，第一电机的输出端贯穿回收器壳体的顶部连接有齿轮，齿轮啮合有齿环，齿环的外部一体成型有连接环，连接环的底部贯通有曝气管，曝气管的外部等距开设有多组气孔，连接环的顶部与第一连接管的一端连接，第一连接管贯穿回收器壳体顶部开设的滑槽并且连接有第二连接管，第二连接管的另一端与气泵的输出端连接，本实用新型通过启动第一电机，带动齿轮转动，使齿轮啮合的齿环转动，使与齿环一体成型的连接环利用限位环在滑槽中转动，带动曝气管转动，可以改变曝气管的位置，增加曝气范围，使废液与反应药剂的反应效率更快，提高回收效率。
一种废弃蚀刻回收装置

[实用新型]一种便于清洗的铜蚀刻液反应池-CN202220938280.0有效
发明人： 戚玉霞;方新军;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于清洗的铜蚀刻液反应池，属于铜蚀刻液技术领域，包括池体、底部空槽和刷板，所述池体下端一侧成型有空腔，位于所述空腔一侧的所述池体下端成型有所述底部空槽，所述底部空槽内设置有底部密封塞，位于所述底部密封塞外围的所述池体底部设置有底部通孔，所述池体内设置有内斜壁，所述内斜壁一侧设置有所述刷板，所述刷板外围设置有刮刷，所述刷板上设置有把手槽，位于所述把手槽下方的所述刷板上设置有通槽。本实用新型通过设置空腔和底部密封塞，可降低反应池的重量，并可方便反应池的拿持，内斜壁的设计可使反应池内的铜蚀刻液、清洁液及其他物料能够方便的倒出，以便进行清洁。
一种便于清洗蚀刻反应

[实用新型]一种铜蚀刻液废液过滤装置-CN202220938946.2有效
发明人： 戚玉霞;方新军;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B01D29/03 文献下载
摘要：本实用新型公开一种铜蚀刻液废液过滤装置，包括承载板和过滤箱壳体，承载板的上表面固定安装有两组电机，两组电机的输出端连接有转杆，两组转杆远离电机的一端套接有齿轮，齿轮与齿条啮合，本实用新型通过启动两组电机，使一组电机顺时针转动，另一组电机逆时针转动，带动转杆以及齿轮转动，使一组齿轮顺时针转动，另一组齿轮逆时针转动，使与两组齿轮啮合的两组齿条在承载板开设的滑槽中沿相反的方向滑动，带动两组喷洒管由过滤箱壳体的两侧向中间移动，此时启动高压水泵，将水箱内部的清洗液泵出，经过第二伸缩软管、第一伸缩软管以及喷洒管的输送，再由喷头喷出，对滤网进行冲洗，将滤网上的附着物冲洗掉，防止滤网堵塞。
一种蚀刻废液过滤装置

[实用新型]一种铜蚀刻液配置容器-CN202220950723.8有效
发明人：方新军;戚玉霞;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B01F31/441 文献下载
摘要：本实用新型公开一种铜蚀刻液配置容器，包括配置桶，配置桶顶部的一侧固定安装有电机，电机的输出端连接有第一正时轮，第一正时轮通过正时带与第二正时轮连接，第二正时轮的一侧与第一轴承座连接，第二正时轮以及第一轴承座皆被搅拌杆贯通，搅拌杆的下端安装有两组叶轮，本实用新型通过启动电机，带动第一正时轮转动，经过正时带传动，使第二正时轮转动，在限位条的限位作用下，使第二正时轮带动搅拌杆转动，第一轴承座和第二轴承座对搅拌杆进行限位，同时又不影响搅拌杆的转动，使搅拌杆可以带动叶轮转动，对铜蚀刻液进行搅拌，此时通过电动伸缩杆的伸缩，可以经过连接板带动搅拌杆上下运动，可以加强搅拌效果，提高配置效率。
一种蚀刻配置容器

[实用新型]一种铜蚀刻液刻蚀加工用喷淋装置-CN202220950731.2有效
发明人：方新军;戚玉霞;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种铜蚀刻液刻蚀加工用喷淋装置，包括底座、转动轴和输送滚盘，所述底座上部内侧等间距设置有所述转动轴，所述转动轴上等间距设置有所述输送滚盘，所述输送滚盘外环侧设置有防滑环，所述输送滚盘中心设置有轴孔，所述轴孔上设置有键槽，所述底座上侧设置有防护盖，所述防护盖下侧等间距设置有喷淋管，所述喷淋管两端设置有送液管。本实用新型通过设置的喷淋管和喷淋口，使得铜蚀刻加工用喷淋装置在使用时，喷淋管下侧的喷淋口交错设置，使得蚀刻液均匀喷淋到铜板上，进而保证铜板的蚀刻质量。
一种蚀刻刻蚀工用喷淋装置

[实用新型]一种铜蚀刻液刻蚀用搅拌装置-CN202220950900.2有效
发明人：方新军;戚玉霞;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B01F27/90 文献下载
摘要：本实用新型公开一种铜蚀刻液刻蚀用搅拌装置，包括搅拌箱，所述搅拌箱顶部固定安装有加液结构，所述搅拌箱顶部固定安装有电机，所述电机输出端固定连接有转动杆，所述转动杆活动贯穿搅拌箱顶部，所述转动杆外侧固定安装有多个搅拌叶，所述搅拌箱内腔固定安装有若干个挡块，所述转动杆外侧固定安装有混合结构，所述混合结构包括固定安装在转动杆外侧的若干个安装杆，所述安装杆表面开设有通槽，所述通槽内部设有运动块，所述运动块顶部与底部均固定安装有推板，所述运动块一侧固定连接有第二弹簧，所述第二弹簧远离运动块的一端固定安装在通槽内部一侧。本实用新型便于在搅拌过程中向搅拌箱内加溶液，并且能够使得搅拌更加均匀。
一种蚀刻刻蚀搅拌装置

[实用新型]一种铜蚀刻液刻蚀用温度控制装置-CN202220950914.4有效
发明人： 戚玉霞;方新军;阳建 -专利权人：四川和晟达电子科技有限公司
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种铜蚀刻液刻蚀用温度控制装置，包括蚀刻槽，所述蚀刻槽内侧开设有若干个产品放置槽，所述蚀刻槽底部固定连接有出液结构，所述蚀刻槽表面开设有滑槽，所述滑槽内部滑动安装有滑块，所述蚀刻槽一侧固定安装有驱动结构，所述驱动结构包括固定安装在蚀刻槽一侧的电机，所述电机输出端固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆贯通蚀刻槽，所述螺纹杆一端活动安装在滑槽内侧，所述螺纹杆螺纹贯穿滑块，所述滑块一侧固定安装有水泵，所述水泵出水口固定连接有冷却管，所述冷却管贯穿滑块。本实用新型便于对刻蚀完成后的产品进行冲洗，且能够在刻蚀过程中控制蚀刻液的温度，防止侧蚀情况的发生。
一种蚀刻刻蚀温度控制装置

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