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[发明专利]光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法-CN202310920753.3在审
发明人：张伟明;李玉兴;聂航;章学春;沈楠 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及光刻胶的去除技术领域，具体而言，涉及光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法，光刻胶剥离液包括醇醚类物质40.00％‑90.00％、非极性物质5.00％‑20.00％、烷醇胺类物质0.50％‑10.00％、金属保护剂0.01％‑2.00％、余量为水。光刻胶的剥离方法包括用上述光刻胶剥离液在预设温度下，剥离基材上的光刻胶。本发明的光刻胶剥离液能够有效地将环状变性物从基板上去除，改善因光刻胶残留导致膜层与膜层之间的衔接，即改善因光刻胶的残留对半导体器件的特性造成不良影响；而且，本发明配套光刻胶剥离液的方法也能够确保环状变性物被可靠地去除。
光刻剥离及其制备方法

[实用新型]一种湿法制程装置及产线模拟系统-CN202320458201.0有效
发明人：张伟明;沈楠;聂航;章学春;李玉兴 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种湿法制程装置及产线模拟系统，涉及湿法制程领域。该湿法制程装置包括壳体、输送件、第一喷出件和第二喷出件；其中，输送件、第一喷出件以及第二喷出件设置于壳体，第一喷出件和第二喷出件分别设置于输送件的两侧，第一喷出件用于喷出湿电子化学品，第二喷出件用于喷出清洁介质。输送件用于输送供给产品，壳体则用于起到遮挡保护的作用，第一喷出件通过喷出湿电子化学品对各个工艺进行模拟，第二喷出件用于在工艺切换过程中喷出清洁介质，减少前工艺的湿电子化学品残留，避免不同的湿电子化学品相接触影响产品质量，进而确保整体产品的合格率。该产线模拟系统包括湿法制程装置，具备湿法制程装置的全部功能。
一种湿法装置模拟系统

[发明专利]掩膜版设计方法及掩膜版-CN202310753931.8在审
发明人：张伟明;沈楠;聂航;章学春;李玉兴 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版设计方法及掩膜版，涉及掩膜版设计技术领域。方法包括：S1：获取掩膜版上设计的图形；S2：判断掩膜版上图形的各个区域的图形密度相对于所有区域中图形密度的最大值的差值是否在预设范围内；预设范围为0～30％；若判定各个区域的图形密度的差值在预设范围内，则无须调整掩膜版上设计的图形；若判定各个区域的图形密度的差值不在预设范围内，则执行S3：在掩膜版的图形中，确定低密度图形区域；S4：在低密度图形区域填充图案，提高掩膜版上图形的均匀性。该方法在根源上解决了因图形密度不同而导致的基板图形均匀性差的问题，提升了产品生产过程中的工艺稳定性，既可以提升产品良率。
掩膜版设计方法

[发明专利]一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用-CN202310390143.7在审
发明人：张伟明;李玉兴;聂航;章学春;沈楠 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用，属于光致抗蚀剂清洗技术领域。按质量份数计，光致抗蚀剂剥离液包括40.00份‑70.00份的醇醚类溶剂、25.00份‑55.00份的酰胺类溶剂、1.00份‑20.00份的烷醇胺类、0.10份‑2.00份的pH调节剂以及0.01份‑2.00份的金属保护剂。该光致抗蚀剂剥离液为水系不含环境危害型的有机溶剂的剥离液，其能有效抑制Al金属层腐蚀，并且，通过使用pH调节剂，避免了玻璃基板金属配线的腐蚀问题，同时组分中不含表面活性剂，解决了剥离液使用过程中泡沫大的问题。该光致抗蚀剂剥离液的制备方法简单，直接将各成分按配比混合即可。
一种光致抗蚀剂剥离及其制备方法应用

[发明专利]一种蚀刻液及其制备方法与应用-CN202310395606.9在审
发明人：张伟明;聂航;章学春;沈楠;李玉兴 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法与应用，属于蚀刻剂技术领域。按质量百分数计，该蚀刻液包括2.00‑15.00wt％的过氧酸、2.00‑15.00wt％的有机酸A及2.00‑25.00wt％的有机酸B，余量为水；有机酸A包括甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、辛酸、己二酸、乙二酸、丙二酸及苯甲酸中的至少一种；有机酸B包括甲基磺酸、苹果酸、柠檬酸、马来酸及酒石酸中的至少一种。通过以上述蚀刻液对银与ITO膜构成的多层膜的银进行刻蚀，不仅避免了使用磷酸所导致的对基板中钛铝钛层有一定的损伤且不利于环保的问题，而且可有效去除ITO/Ag/ITO结构，形成优异的轮廓，没有银与ITO残渣，也无Ag的再吸附现象发生。
一种蚀刻及其制备方法应用

[发明专利]一种蚀刻剂、其制备方法及应用-CN202310084556.2在审
发明人：张伟明;聂航;章学春;沈楠;李玉兴 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2023-01-31 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻剂、其制备方法及应用，涉及蚀刻用组合物技术领域。蚀刻剂中含有过氧化氢、氟化物、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻稳定剂和角度改善剂，通过组成和配比的优化，能够同时蚀刻铜和钼铌金属层，简化蚀刻步骤，提高生产效率；该蚀刻剂随着金属铜离子的增加，也能够保证锥角的稳定性。
一种蚀刻制备方法应用

[实用新型]一种剥离液废液处理系统-CN202222144073.0有效
发明人：张伟明;章学春;李玉兴;梁重时 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种剥离液废液处理系统，涉及废液回收技术领域。光刻胶剥离液处理系统包括依次连接的第一缓冲装置、回收装置以及第二缓冲装置。第一缓冲装置用于使由剥离液作用于光刻胶生成的废液依次经过回收装置以及第二缓冲装置，其中，回收装置用于过滤废液中的光刻胶渣质、颗粒物以及杂质离子以获得回收液，第二缓冲装置用于接收并处理回收液，以生成剥离液，从而使得剥离废液能够重复循环利用，延长了剥离液的使用寿命，也一定程度上增强了剥离液的剥离性能，节约了资源并降低使用成本，同时有效地减少环境污染。
一种剥离废液处理系统

[发明专利]剥离液废液的回收处理方法-CN202210986736.5在审
发明人：张伟明;章学春;梁重时;杨威 -专利权人：上海盛剑微电子有限公司
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： C02F9/04 文献下载
摘要：本发明涉及半导体、平板显示器技术领域，公开了剥离液废液的回收处理方法。回收处理方法包括：向剥离液废液中加入水，使剥离液废液中溶解的树脂沉淀至水中得到固液混合物；对固液混合物进行固液分离去除固体得到初级处理液；去除初级处理液中的微小树脂颗粒以及金属离子。通过上述方法对剥离液废液处理后得到的回收液能够被重新作为剥离液或作为配制剥离液的原料使用；该方法相对于目前的剥离液废液的处理方法能为企业带来更好的经济效益。
剥离废液回收处理方法

[发明专利]一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用-CN202111548778.2在审
发明人：张伟明;章学春;梁重时 -专利权人：北京盛剑微电子技术有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用，涉及剥离剂技术领域。按质量份数计，光刻胶剥离液包括二环脒类化合物20‑60份、缓冲试剂1‑10份和有机溶剂40‑80份。相比TMAH等体系的光刻胶剥离液，通过改进光刻胶剥离液的有机碱组成，利用DBN和DBU等二环脒类化合物作为有机碱，其既具有强碱的性能，也具有抗蚀剂的效果，有效改善了光刻胶剥离液含水量高造成的剥胶后残胶多、金属层腐蚀严重的问题，在半导体领域和面板显示领域有着良好的应用及市场前景。
一种光刻剥离制备方法应用

[实用新型]一种大气污染治理用污染物采样装置-CN201922069664.4有效
发明人： 章学春 -专利权人：上海盛剑环境系统科技股份有限公司
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： G01N1/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大气污染治理用污染物采样装置，包括底板，所述底板的底部固定连接有底座，所述底板的顶部固定连接有支撑杆，所述支撑杆远离底板的一端固定连接有收集装置，所述收集装置的顶部设置有风向标，所述收集装置包括收集框，所述收集框的内部固定连接有挡块，所述收集框的内壁固定连接有支撑弹簧，所述收集框通过支撑弹簧固定连接有活塞，所述活塞与收集框的内壁紧密接触，所述活塞的侧壁固定连接有运动杆，本实用新型涉及环境保护技术领域。该一种大气污染治理用污染物采样装置，达到了结构简单，便于操作，可以对高处的气体进行快速采集，方便使用，提高环境保护，满足使用需求的目的。
一种大气污染治理污染物采样装置

[实用新型]一种湿式电除尘阳极管水幕收集装置-CN201920579705.1有效
发明人： 章学春;张伟明;汪芳晋 -专利权人：上海盛剑环境系统科技股份有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： B03C3/49 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿式电除尘阳极管水幕收集装置，包括接水盘以及设于所述接水盘的上侧用以实现伸入阳极管中集水的接管，所述接水盘四周设有包围所述接管的围板，所述接水盘的下侧设有排水管。上述湿式电除尘阳极管水幕收集装置通过接管和接水盘收集阳极管中的水幕，避免了水幕直接落入阴极框架以及因水幕落入阴极框架导致的爬电、闪络、放电等异常问题。
接水盘水幕阳极管接管湿式电除尘收集装置阴极框架本实用新型排水管异常问题放电集水爬电闪络伸入围板包围

[实用新型]一种湿式电除尘阳极管溢流进水装置-CN201920580907.8有效
发明人： 章学春;张伟明;汪芳晋 -专利权人：上海盛剑环境系统科技股份有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： B03C3/49 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿式电除尘阳极管溢流进水装置，包括多组溢流进水单元，每组所述溢流进水单元包括进水量可调的进水管、溢流围板和阳极管，所述阳极管的管壁以外构成开口腔，所述阳极管的管壁以内构成贯穿腔，所述进水管设于所述开口腔的上方，以实现进入所述开口腔的水在所述开口腔中充满并经由管口沿所述阳极管的内壁面流入，进一步水流在阳极管内均匀溢流形成水幕。上述湿式电除尘阳极管溢流进水装置通过对各个阳极管进水的单独控制解决了进水不均衡、水幕不均匀的问题，对于烟尘浓度高、易结晶的烟气具有更好的清洗效果。
阳极管溢流开口腔湿式电除尘进水单元进水装置进水管管壁进水水幕本实用新型单独控制清洗效果不均衡不均匀贯穿腔进水量可调的内壁面易结晶管口围板烟气烟尘

[实用新型]一种湿式电除尘阴极线吊挂装置-CN201920580942.X有效
发明人： 章学春;张伟明;汪芳晋 -专利权人：上海盛剑环境系统科技股份有限公司
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： B03C3/86 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿式电除尘阴极线吊挂装置，包括上框架和设于所述上框架下方的下框架，所述上框架和所述下框架之间设有阴极线，所述阴极线的上端与所述上框架固定连接，所述阴极线的下端与锤头固定连接，所述下框架设有用以实现所述锤头在竖向吊挂穿入、在横向与纵向固定的开孔。上述湿式电除尘阴极线吊挂装置通过锤头和下框架解决了上框架处于正确位置时阴极线发生偏移无法调整的问题，同时避免了锤头在风流中的随风摆动，保障了阴极线的工作状态以及湿式电除尘的除尘效果。
阴极线上框架下框架锤头湿式电除尘吊挂装置本实用新型除尘效果随风摆动纵向固定偏移上端穿入吊挂开孔竖向下端风流

[外观设计]毛巾-CN01343537.X无效
发明人： 章学春 -专利权人： 章学春
申请日： 2001-08-01 - 公布日： 2002-05-01 - 主分类号： 06-13-T0293 文献下载
摘要：本外观设计产品为平面产品，省略左右、俯仰视图。
毛巾

[外观设计]毛巾-CN01343536.1无效
发明人： 章学春 -专利权人： 章学春
申请日： 2001-08-01 - 公布日： 2002-03-20 - 主分类号： 06-13-T0293 文献下载
摘要：本外观设计产品为平面产品，且反面无图案，省略其它视图。
毛巾

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