[发明专利]磁性存储器在审

专利信息
申请号: 202010503717.3 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN112599556A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 上田善宽;麦可·阿尔诺·坎萨 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁性 存储器
【说明书】:

根据一个实施方式,本实施方式的磁性存储器具备:第1配线;第2配线;第1开关元件,设置在所述第1配线与所述第2配线之间;第1磁性部件,设置在所述第1开关元件与所述第2配线之间且沿着第1方向延伸;第3配线,设置在所述第1磁性部件与所述第2配线之间;第1磁阻元件,设置在所述第3配线与所述第2配线之间;以及第2开关元件,设置在所述第1磁阻元件与所述第2配线之间。

相关申请案的引用

本申请案以2019年9月17日申请的先前的日本专利申请案第2019-168715号的优先权的利益为基础,且追求其利益,其内容整体通过引用包含在本文中。

技术领域

本发明的实施方式涉及一种磁性存储器。

背景技术

已知有通过在磁性部件流通电流来使磁性部件的磁壁移动(移位)的磁性存储器。该磁性存储器具备在磁性部件的一端电连接着第1配线,且在另一端经由磁阻元件(例如,MTJ(Magnetic Tunnel Junction,磁性隧道结)元件及开关元件而连接着第2配线的构成,通过在第1配线与所述第2配线之间流通使磁性部件的磁壁移位的移位电流而磁壁移动。在该磁性存储器中,存在难以确保动作范围的问题。

发明内容

本实施方式的磁性存储器具备:第1配线;第2配线;第1开关元件,设置在所述第1配线与所述第2配线之间;第1磁性部件,设置在所述第1开关元件与所述第2配线之间且沿着第1方向延伸;第3配线,设置在所述第1磁性部件与所述第2配线之间;第1磁阻元件,设置在所述第3配线与所述第2配线之间;以及第2开关元件,设置在所述第1磁阻元件与所述第2配线之间。

附图说明

图1是表示第1实施方式的磁性存储器的示意图。

图2是表示第1实施方式的磁性存储器的一具体例的示意图。

图3是表示第1实施方式的磁性存储器的移位动作时的电压条件的示意图。

图4是表示第1实施方式的磁性存储器的移位动作时的电压条件的示意图。

图5是表示第1实施方式的磁性存储器的读出动作时的电压条件的示意图。

图6是表示第1实施方式的磁性存储器的读出动作时的电压条件的示意图。

图7A是表示比较例的磁性存储器的示意图。

图7B是表示比较例的磁性存储器的电流分布的例的图。

图8A是表示第1实施方式的磁性存储器的示意图。

图8B是表示第1实施方式的磁性存储器的移位动作时的电流分布的图。

图8C是表示第1实施方式的磁性存储器的读出动作时的电流分布的图。

图9至17是表示第2实施方式的制造方法的制造工序的剖视图。

具体实施方式

本实施方式的磁性存储器具备:第1配线;第2配线;第1开关元件,设置在所述第1配线与所述第2配线之间;第1磁性部件,设置在所述第1开关元件与所述第2配线之间且沿着第1方向延伸;第3配线,设置在所述第1磁性部件与所述第2配线之间;第1磁阻元件,设置在所述第3配线与所述第2配线之间;以及第2开关元件,设置在所述第1磁阻元件与所述第2配线之间。

(第1实施方式)

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  • 一种垂直型霍尔器件阵列及制备方法,所述垂直型霍尔器件阵列,包括:P型衬底;设置在所述P型衬底上的N型阱;槽隔离结构,设置在所述N型阱表面;多个垂直型霍尔器件,等间距分布在所述N型阱上;多个所述垂直霍尔器件之间采用交替互联法相连接。本申请的垂直型霍尔器件阵列及制备方法,提高了器件的磁感应的测量精度和垂直霍尔器件工作状态的稳定性,同时能够有效的降低垂直霍尔阵列的面积,降低磁感应区域的面积,提高霍尔芯片的集成度。
  • 磁阻式随机存取存储器-202210796709.1
  • 周坤亿;陈宏岳 - 联华电子股份有限公司
  • 2018-09-07 - 2022-09-30 - H01L27/22
  • 本发明公开一种磁阻式随机存取存储器,其主要包含一第一金属氧化物半导体(metal‑oxide semiconductor,MOS)晶体管以及一第二金属氧化物半导体晶体管设于一基底上;一磁性隧穿接面(magnetic tunneling junction,MTJ)设于该第一金属氧化物半导体晶体管以及该第二金属氧化物半导体晶体管之间;一第一层间介电层设于该MTJ一侧并位于该第一金属氧化物半导体晶体管上;以及一第二层间介电层设于该MTJ另一侧并位于该第二金属氧化物半导体晶体管上。
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