[发明专利]沉积材料、其制造方法和制造装置及电子束照射沉积方法

说明书

相关申请的交叉参考

本申请要求2012年11月20日提交的日本优先权专利申请JP2012-253869的优先权，在此将该日本优先权申请的全部内容以引用的方式并入本文。

技术领域

本发明涉及一种沉积材料制造方法和一种沉积材料制造装置、一种使用沉积材料的电子束照射沉积方法以及一种用于电子束照射沉积的沉积材料。

背景技术

电子束照射沉积(以下称为“EB沉积”)是已知的沉积方法之一。EB沉积是一种工业上的优异沉积方法，该方法中沉积速率快且放入有沉积材料的坩埚的磨损相对小。在EB沉积中，在真空压力下用电子束照射沉积材料(蒸发材料)以使该沉积材料熔融和蒸发，并且蒸发出来的沉积材料沉积在例如基片等基底材料的表面上。

众所周知的是，关于在执行这种EB沉积时的沉积材料，可以使用例如一氧化硅(SiO)。已知的是，在其表面上沉积有例如一氧化硅的聚合物膜是具有优异的气体阻隔性能的包装材料，并且已经作为包装材料而被广泛传播。

作为沉积材料的一氧化硅采用了沉积于例如不锈钢板等基片上的原料材料(feed stock material)。日本专利特开No.2002-194535公开了一种借助于原料的沉积来制造作为沉积材料的一氧化硅的装置。

在执行EB沉积时使用沉积于基片表面上的一氧化硅的原因是：对于EB沉积而言很难使用粉末状的沉积材料。在用于EB沉积的电子束的照射下，粉末材料因为由电荷引起的排斥力而分散。由于这个原因，即使在用电子束进行的照射下，粉末材料也不能经受所述沉积所需的熔融或蒸发。此外，用于EB沉积的现有的沉积材料采用的是例如沉积于基片上的原料材料。

然而，为获得沉积于基片上的一氧化硅而执行沉积操作的工艺是冗长乏味的工艺并且用于沉积的材料非常昂贵，这些都是目前存在的问题。

发明内容

鉴于上述问题，期望提供一种沉积材料制造方法和一种沉积材料制造装置、一种使用通过所述制造方法而获得的沉积材料的电子束照射沉积方法、以及一种用于所述电子束照射沉积的沉积材料，它们以简单且节约成本的方式提供了用于实现EB沉积的沉积材料。

本发明的实施例提供了一种沉积材料制造方法，其包括：将至少一种粉末浸入液体中，并且在所述浸入之后，蒸发所述液体以使所述粉末固化为用于电子束照射沉积的沉积材料。

本发明的实施例提供了一种沉积材料制造装置，其包括：被构造成用于使至少一种粉末浸入液体中的容器；以及蒸发处理部，它被构造成用于蒸发所述容器中的所述液体以使所述粉末固化为用于电子束照射沉积的沉积材料。

此外，本发明的实施例的电子束照射沉积方法包括：将至少一种粉末浸入液体中；在所述浸入之后，蒸发所述液体以使所述粉末固化；以及将固化后的所述粉末布置在电子束照射沉积装置的炉床(hearth)中以执行电子束照射沉积。

此外，本发明的实施例的用于电子束照射沉积的沉积材料包括：通过从浸有粉末的液体中蒸发所述液体而获得的固化材料。

根据本发明，作为沉积材料的粉末被固化以提供处于适合于电子束照射沉积的状态下的沉积材料。即，当浸入液体中的粉末被固化时，会产生因为颗粒间的表面张力而产生的毛细吸力(capillary suction pressure)。所述毛细吸力使得作为沉积材料的粉末能够均匀地固化。在沉积时，在电子束的照射下，经过固化的所述粉末不会分散而是会熔融和蒸发。

根据本发明，使用通过由于毛细吸力使粉末均匀固化而获得的沉积材料就使得能够极好地执行电子束照射沉积。即，由于所述粉末被固化，因而沉积材料在用于电子束照射沉积的电子束的照射下不会分散而是蒸发，这使得优异的电子束照射成为可能。

附图说明

图1中的(a)、(b)和(c)是图示了本发明的第一实施例的示例的沉积材料制造工艺的图；

图2是图示了本发明的第一实施例的示例的固化原理的图；

图3是表示本发明的第一实施例的示例的水面曲率半径与毛细张力(capillary tension)之间关系的特性图；

图4是图示了本发明的第一实施例的示例的沉积装置的构造图；

图5是图示了本发明的第二实施例的示例的沉积材料制造工艺的图；

图6是图示了本发明的第二实施例的示例的沉积材料制造工艺的图；

图7是图示了利用本发明的第三实施例的示例中的沉积材料制造装置的制造工艺的图；以及

图8是图示了利用本发明的第三实施例的示例中的沉积材料制造装置的制造工艺的图。

具体实施方式