[发明专利]印刷材料及照相材料有效
| 申请号： | 201280014419.1 | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN103460077B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 福田智男;有马光雄;李成吉;野村优;木曾弘之;饭田文彦 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种印刷材料，其包括具有表面的印刷材料体，以及布置在印刷材料体的表面上的光学元件。该光学元件包括以不长于可见光的波长的节距形成的多个结构体。该结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 材料 照相 | ||
【主权项】：
一种印刷材料，包括：具有表面的印刷材料体；以及光学元件，被设置在所述印刷材料体的所述表面上；其中，所述光学元件包括以小于可见光的波长的节距形成的多个结构体；以及所述结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比，所述长宽比是所述结构体的高度与所述节距之间的比；其中，所述光学元件进一步包括具有表面的基体；所述多个结构体二维地形成在所述基体的所述表面上并且形成多行轨迹，并且在两行邻近轨迹之间，针对一个轨迹的结构体被定位在相对于布置在另一轨迹上的邻近结构体在轨迹的延伸方向上偏移了半个节距的位置，其中，所述光学元件的湿度膨胀系数高于所述印刷材料体的湿度膨胀系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司，未经索尼公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280014419.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 防窥增透膜及含有该防窥增透膜的显示器件-201920315708.4
- 黄永峰 - 广东聚华印刷显示技术有限公司
- 2019-03-13 - 2019-11-01 - G02B1/118
- 本实用新型涉及一种防窥增透膜及显示器件。该防窥增透膜的微透镜为凸透镜结构，可以对光线起到折射的作用，减少光线的全反射，引导光线射出，提高光线出射效率；并且至少有部分微透镜具有防窥侧面，其各处相对于基底部的斜率大于其他侧面在同一高度处相对于基底部的斜率，这样可以实现在显示屏的不同侧具有不同视角的功能，在视角较小的侧或方向上就可以实现光学防窥功能。该防窥增透膜可以避免使用传统光学防窥膜带来的亮度降低的问题，在实现光学防窥功能的同时，还可以提高器件的出光效率，因而有利于提高显示器件的寿命。
- 基于蛾眼的大视场角宽带偏振无关增透膜及其制备方法-201910594499.6
- 冯吉军;吴昕耀;石梦航;曾和平 - 上海理工大学
- 2019-07-03 - 2019-09-24 - G02B1/118
- 本发明提出一种基于蛾眼的大视场角宽带偏振无关增透膜及其制备方法，包括衬底和刻蚀层；在所述衬底表面镀上刻蚀层；在所述刻蚀层表面刻蚀多个圆台状凹槽；多个所述圆台状凹槽均匀排布于所述刻蚀层表面，以提出一种在足够大的入射角范围内，保持可见光波段特别是紫外波段的高透射率的基于蛾眼的大视场角宽带偏振无关增透膜及其制备方法。
- 纳米结构化表面-201780085714.9
- 哈罗尔德·弗兰克·格里尔;里安·莫罗·布里格斯 - 纳米清洁技术有限公司
- 2017-12-27 - 2019-09-17 - G02B1/118
- 表面的物理和化学特性可以经由无机前体通过将纳米颗粒、微球或纳米纹理结合至表面来控制。表面可以获得各种期望的特性，例如防反射、防雾、防结霜、UV阻挡和IR吸收，同时保持对可见光的透明度。微米材料或纳米材料还可用作蚀刻掩模，以使表面纹理化并经由其微纹理或纳米纹理来控制其物理和化学特性。
- 光学薄膜的制造方法以及模具-201780014466.9
- 中松健一郎;新纳厚志;林秀和 - 夏普株式会社
- 2017-03-16 - 2019-09-03 - G02B1/118
- 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。
- 减反射结构及其制作方法、显示装置-201810168255.7
- 赵伟利 - 京东方科技集团股份有限公司
- 2018-02-28 - 2019-08-23 - G02B1/118
- 本发明提供了一种减反射结构及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，减反射结构包括：透光基底；位于所述透光基底上的吸光图形，所述吸光图形限定出多个透光区域；位于所述透光区域内的多个间隔排布的负折射率图形，所述负折射率图形与所述吸光图形位于所述透光基底的同一侧表面，预设角度范围内的光线照射到所述负折射率图形上能够被折射至被所述吸光图形。本发明的技术方案能够减少观看显示装置时环境光的反射。
- 防眩光膜-201680005503.5
- 林巨山;朴松熙 - 东友精细化工有限公司
- 2016-01-28 - 2019-08-09 - G02B1/118
- 本发明提供一种用于触摸模式显示器的防眩光膜以及包括所述防眩光膜的偏光板和图像显示设备，所述防眩光膜具有良好的黑度和触摸感。
- 一种入射电磁波的增透装置-201821906918.2
- 梁华伟;李佳奇;李玲;张敏;苏红 - 深圳大学
- 2018-11-19 - 2019-06-21 - G02B1/118
- 本实用新型提供了一种入射电磁波的增透装置，所述增透装置包括基底介质和用于改变电磁波入射界面的反射、投射系数大小和相位的金属光栅，所述金属光栅包括若干个相互平行的条形金属，若干个所述的条形金属沿所述基底介质的宽度方向依次等间距排列，所述金属光栅设置在所述基底介质的一侧，电磁波从所述金属光栅所在的一侧入射，并依次透过所述金属光栅和基底介质。该增透装置能够在基底介质宽度较大的范围内显著地减小反射，增大电磁波的透过率；同时，通过调节金属光栅的宽度和周期，可调节电磁波的透射率。具体使用时，只需设定目标透射率，然后找到合适的金属光栅的宽度和周期即可，给实际应用带来了很大的便利。
- 纳米结构化制品-201610930410.5
- 余大华;莫塞斯·M·大卫;卡尔克·C·旺 - 3M创新有限公司
- 2012-03-05 - 2019-06-07 - G02B1/118
- 本发明涉及纳米结构化制品。具体地，本发明涉及一种制品，所述制品包括基材和其主表面上的第一层，其中所述第一层具有无规的第一纳米结构化表面，并且其中所述第一层具有至多0.5微米的平均厚度。所述制品的实施例可用于例如显示应用(如，液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器或等离子体显示器)；光提取；电磁干扰(EMI)屏蔽、眼科透镜；面罩透镜或薄膜；窗膜；针对构造应用的抗反射；和构造应用或交通指示牌。
- 光学部件和光学部件的制造方法-201510917177.2
- 中山宽晴;槇野宪治 - 佳能株式会社
- 2015-12-10 - 2019-05-28 - G02B1/118
- 本发明提供一种光学部件和光学部件的制造方法。光学部件包括基材和该基材上的减反射膜，其中该减反射膜具有多孔层作为表面，该多孔层含有氧化硅颗粒和粘结剂，该多孔层具有1.19‑1.30的折射率，并且该氧化硅颗粒和该粘结剂的表面具有烷基甲硅烷基。
- 光学层叠体、偏光板及显示装置-201811324492.4
- 芹泽直树;中西隆之 - 株式会社凸版巴川光学薄膜
- 2018-11-08 - 2019-05-21 - G02B1/118
- 提供耐久性优异、彩虹斑受到抑制从而可视性高、且可实现薄型化的光学层叠体、以及使用了该光学层叠体的偏光板及显示装置。光学层叠体(1)中，在透明基材(2)的至少一个面上依次设置有底漆层(3)、以及在表面具有凹凸形状的防眩层(4)。透明基材(2)由聚对苯二甲酸乙二醇酯构成，面内延迟为600nm以下，且厚度方向延迟为3000nm以上。
- 结构物的制造方法-201680022785.X
- 吉泽宏俊;园田慎一郎;吉弘达矢 - 富士胶片株式会社
- 2016-03-17 - 2019-05-14 - G02B1/118
- 本发明提供一种结构物的制造方法，其为具有通过进行温水处理而形成的透明的微细凹凸结构体的结构物的制造方法，该方法形成更微细的凹凸结构。一种结构物的制造方法，其为制造具有基材(11)及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体(12c)的结构物(10)的结构物的制造方法，该结构物的制造方法具有：第一工序，在基材(11)上形成透明的微细凹凸结构体(i2c)的前体膜(12)；第二工序，在前体膜(12)的表面形成微细凹凸结构；及第三工序，对形成有微细凹凸结构的前体膜(12a)进行温水处理来形成透明的微细凹凸结构体(12c)，在第二工序中所形成的微细凹凸结构的凹凸的空间频率的峰值v0满足v＜v0(式I)。在式I中，v0为微细凹凸结构的空间频率的峰值，v为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构时的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。
- 反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法-201780039413.2
- 冈田泰幸;佐藤英秋;上门洋祐;高桥幸男;内山雄太;大山直毅;森本俊辅 - 大冢科技株式会社
- 2017-07-11 - 2019-03-01 - G02B1/118
- 一种反射防止构造体、照相机单元、便携设备及反射防止构造体的制造方法。反射防止构造体由一体成型品构成，包括形成于构成所述成型品的外面的基础表面的反射防止构造，所述反射防止构造包括多个凹部，所述多个凹部从相互相邻的凹部独立地相对于所述基础表面凹陷地形成，并具有相对于所述基础表面倾斜的倾斜面，倾斜面在底部形成至少一个点状或线状的顶部。
- 一种蛾眼微结构基板的制备方法-201610829304.8
- 杨勇 - 武汉华星光电技术有限公司
- 2016-09-18 - 2019-02-26 - G02B1/118
- 本发明提供了一种蛾眼微结构基板的制备方法，包括如下步骤：步骤一、在基板上涂布一层高分子聚合物溶液，挥发后形成一层聚合物薄膜；在聚合物薄膜上方设置掩膜板，通过紫外光进行一次曝光，并用有机溶剂清洗，在基板上形成一层固化聚合物层；在固化聚合物层上再次涂布一层高分子聚合物溶液，挥发后在固化聚合物层上再形成一层聚合物薄膜；在聚合物薄膜上方设置掩膜板，通过紫外光进行再次曝光，并用有机溶剂清洗，在固化聚合物层上形成若干柱状的凸起结构；重复上述步骤三、步骤四N次，最后凸起结构层叠成具有凸起的微纳米锥体结构的抗反射膜层；步骤六、退火处理，最终得到蛾眼微结构基板。与现有技术相比，降低了生产成本，提高了生产效率。
- 具备防反射膜的光学部件及其制造方法-201580044745.0
- 吉弘达矢;园田慎一郎 - 富士胶片株式会社
- 2015-07-27 - 2019-02-22 - G02B1/118
- 本发明提供一种具备抑制散射光且具有充分的防反射特性的防反射膜的光学部件及其制造方法。本发明的光学部件(1)具备透明基材(2)及在透明基材(2)的表面上形成的防反射膜(3)，所述光学部件中，防反射膜(3)包括：微细凹凸层(10)，具有比应防反射的光的波长小的凸部间距离的凹凸结构且以氧化铝的水合物为主要成分；及中间层(5)，配置于微细凹凸层(10)与透明基材(2)之间，微细凹凸层(10)的凹凸结构的空间频率的峰值大于6.5μm‑1，中间层(5)从透明基材(2)侧依次具备低折射率层(5L)及高折射率层(5H)而成，所述低折射率层(5L)具有比透明基材(2)的折射率低的折射率，所述高折射率层(5H)具有比透明基材(2)的折射率高的折射率。
- 光提取膜及其制备方法-201511002889.8
- 许立雄;魏朝刚 - 昆山国显光电有限公司
- 2015-12-28 - 2019-02-15 - G02B1/118
- 本发明涉及一种光提取膜及其制备方法。上述光提取膜包括基体，基体具有相对的向光面和背光面，向光面上设置有纳米凸起，纳米凸起呈随机排布；背光面上设置有微透镜结构，微透镜结构呈规则排布，且微透镜结构表面的曲率非恒定。与传统的光提取膜相比，本发明的光提取膜基体的向光面上设置有纳米凸起，且纳米凸起呈随机排布，通过这种随机纳米凸起的设置，能够减少光反射。特别是在卷曲时，纳米凸起仍能保持随机状态，其等效折射率的特性不会遭到破坏。同时，上述光提取膜基体的背光面上设置有规则排布的微透镜结构，且上述微透镜结构表面的曲率非恒定，则能够增加光的提取效率，改善了视角，有利于应用。此外，还提供一种光提取膜的制备方法。
- 一种入射电磁波的增透装置及利用其调节透射率的方法-201811375652.8
- 梁华伟;李佳奇;李玲;张敏;苏红 - 深圳大学
- 2018-11-19 - 2019-01-18 - G02B1/118
- 本发明提供了一种入射电磁波的增透装置及利用其调节透射率的方法，所述增透装置包括基底介质和用于改变电磁波入射界面的反射、投射系数大小和相位的金属光栅，所述金属光栅包括若干个相互平行的条形金属，若干个所述的条形金属沿所述基底介质的宽度方向依次等间距排列，所述金属光栅设置在所述基底介质的一侧，电磁波从所述金属光栅所在的一侧入射，并依次透过所述金属光栅和基底介质。该增透装置能够在基底介质宽度较大的范围内显著地减小反射，增大电磁波的透过率；同时，通过调节金属光栅的宽度和周期，可调节电磁波的透射率。具体使用时，只需设定目标透射率，然后找到合适的金属光栅的宽度和周期即可，给实际应用带来了很大的便利。
- 一种新型的防眩光盖板-201821022310.3
- 时庆文;周伟杰;裴立志;李素云;易和平 - 信利光电股份有限公司
- 2018-06-29 - 2018-12-18 - G02B1/118
- 本实用新型公开了一种新型的防眩光盖板，包括透明基板、以及依次设于所述透明基板上的防眩层和粗糙层，所述粗糙层的表面分布有微米级的无机粒子。本实用新型提供的新型的防眩光盖板在具有抗眩功能的同时，能够改善sparkle现象所带来的负面影响，提高画面显示品质，扩展了防眩光盖板的应用范围。
- 一种改善防眩光盖板显示效果的方法-201810698475.0
- 时庆文;周伟杰;裴立志;李素云;易和平 - 信利光电股份有限公司
- 2018-06-29 - 2018-11-23 - G02B1/118
- 本发明公开了一种改善防眩光盖板显示效果的方法，包括如下步骤：S1.提供防眩光盖板；S2.在所述防眩光盖板的表面涂覆含有无机粒子的溶胶，获得粗糙层；S3.固化粗糙层。本发明提供的方法使防眩光盖板在具有抗眩功能的同时，能够改善sparkle现象所带来的负面影响，提高画面显示品质，扩展了防眩光盖板的应用范围。
- 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法-201510555817.X
- 贺军辉;张晓婕 - 中国科学院理化技术研究所
- 2015-09-02 - 2018-10-30 - G02B1/118
- 本发明公开一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法。所述表面结构包括含有聚合物成分的基底，或者其上涂覆至少一层含有聚合物成分的涂层的基底，以及位于外表面的具有减反增透性能的单层纳米粒子；所述纳米粒子的一部分嵌入含有聚合物成分的基底，或者嵌入基底最外层的含有聚合物成分的涂层中，另一部分裸露在外；所述纳米粒子的粒径为2nm‑1μm；所述纳米粒子的嵌入体积至少为其自身体积的2％。本发明首次提出原位纳米压制技术，并且首次将原位纳米压制技术用于制备减反增透表面结构，无需专门的模板，制备方法简单，大大节约了操作成本，并且所获得的表面结构机械性能优越，能够耐受擦洗，且具有良好的减反增透效果。
- 一种高透光率的玻璃盖板-201721769209.X
- 江泽城;蔡良照;闫海姣;林智坚 - 信利光电股份有限公司
- 2017-12-18 - 2018-09-28 - G02B1/118
- 本实用新型提供一种高透光率的玻璃盖板，包括玻璃基板，所述玻璃基板的表面设置有若干个矩阵排列的圆锥状凹槽。本实用新型通过蚀刻技术在玻璃基板上形成若干个矩阵排列的圆锥状凹槽，在该圆锥状凹槽中，光线会减少反射，从而增加透过率，可以达到与增设增透膜相同的增加透过率的效果，且能耗较少，结构简单，生产成本低。
- 光学元件、摄像装置、光学设备、原盘及制造方法-201410395862.9
- 林部和弥;影山正光;金口时久 - 索尼公司
- 2014-08-12 - 2018-09-18 - G02B1/118
- 本申请涉及光学元件、摄像装置、光学设备、原盘及制造方法，其中，一种光学元件封装件包括其上设置多个结构的表面。所述多个结构被设置为以等于或小于可见光的波长的间隔从晶格点在随机方向上摆动。
- 一种复合光子晶体结构闪烁体-201710146652.X
- 刘波;程传伟;顾牡;陈鸿;张娟楠 - 同济大学
- 2017-03-13 - 2018-08-24 - G02B1/118
- 本发明涉及一种复合光子晶体结构闪烁体，包括闪烁体基底、布置在闪烁体基底上的减反射层、布置在减反射层上的光子晶体层，减反射层由具有梯度折射率的锥形体或锥台体呈周期阵列或无序阵列构成，光子晶体层为内部形成周期性空气孔洞的高折射率材料层。与现有技术相比，本发明利用特定的减反层和光子晶体层相互结合，将菲涅尔反射和全内反射通盘考虑加以克服，最大限度提高光输出的效率，所采用技术方案易于低成本制备大面积样品，有利于实际应用和推广。
- 一种减反射玻璃盖板-201820044927.9
- 饶桥兵;刘华玉 - 蓝思科技（长沙）有限公司
- 2018-01-11 - 2018-08-07 - G02B1/118
- 本实用新型提供一种减反射玻璃盖板，所述玻璃盖板包括平板玻璃和设置在平板玻璃上的紫外光固化树脂层，所述紫外光固化树脂层包括一体设置的平涂层和蛾眼结构层，所述平涂层覆盖在所述平板玻璃上且其厚度为1～3微米，所述蛾眼结构层中阵列式分布有多个蛾眼结构，且每个蛾眼结构与平涂层接触的位置即其底部位置的直径为210～290nm，所述蛾眼结构的高度为260～340nm，且相邻两个蛾眼结构的底部圆点之间的距离为310～390nm。本实用新型通过纳米转印UV光固化树脂形成一层含蛾眼结构的防反射树脂膜层而得到一种减反射玻璃盖板，该玻璃盖板表面的最大反射率能控制在0.3％以下。
- 压印用光固化性树脂组合物、防反射膜-201480062928.0
- 宮泽幸大 - 综研化学株式会社
- 2014-11-11 - 2018-07-10 - G02B1/118
- 本发明提供一种压印用光固化性树脂组合物，至少含有光聚合性(甲基)丙烯酸系单体(A)和光引发剂(B)，所述(甲基)丙烯酸系单体(A)的混合比例是：(a‑1)3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物为60～97质量％，(a‑2)4官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物为3～40质量％，(a‑3)2官能以下的(甲基)丙烯酸酯化合物为0～37质量％，其中，(a‑1)～(a‑3)共计为100质量％。
- 一种具有三台阶抗反射结构的红外光学窗口及其制备方法-201810056948.7
- 何少伟;陈志祥;陈定辉;范文聪 - 电子科技大学
- 2018-01-19 - 2018-07-06 - G02B1/118
- 本发明公开了一种具有三台阶抗反射结构的红外光学窗口，包括红外光学窗口，所述红外光学窗口的入射面刻蚀有三台阶的抗反射结构，其制备方法为：硅片预处理，使用掩膜版在硅片上刻蚀抗三台阶反射结构，包括刻蚀第一台阶结构层、刻蚀第二台阶结构层、刻蚀第三台阶结构层，上述刻蚀抗反射结构的方法采用感应耦合等离子体刻蚀机，使用刻蚀与钝化相结合的工艺进行刻蚀，刻蚀气体为SF6，钝化气体为C4F8，在刻蚀与钝化的过程中加入惰性气体He。本发明的这种结构可明显增加红外窗口的透过率，提高红外器件的灵敏度，降低了台阶结构的高度，结构参数，台阶周期及深度的变化对透过率影响，制备方法提高了器件制作的工艺容差，降低了工艺制作难度。
- 一种微纳结构减反膜的制作方法及显示装置-201611046277.3
- 查国伟 - 武汉华星光电技术有限公司
- 2016-11-22 - 2018-06-22 - G02B1/118
- 本发明提供一种微纳结构减反膜的制作方法及显示装置，其包括：提供一基板；在基板上形成一二氧化硅层，二氧化硅层表面有多个坑洞，用于提供减反膜的成核点；在二氧化硅层上形成一六角形呈蜂巢晶格状的石墨烯；以石墨烯为生长基底，在多个成核点中形成减反膜的下表面，使得下表面形状为六角形，并通过渐变生长的方式使得减反膜的扩散原子的扩散长度与扩散原子量随着生长时间的延长而逐渐减少，以形成减反膜的上表面。本发明的微纳结构减反膜的制作方法及显示装置，工艺步骤简单，工艺成本低并且能形成精度较高的具有一定减反效果的微纳结构减反膜。
- 一种制备亚波长抗反射压膜的方法-201711281500.7
- 朱巧芬;王华英;刘秀红;韩海燕;郎利影;王雪光 - 河北工程大学
- 2017-12-07 - 2018-04-20 - G02B1/118
- 本发明公开了一种制备亚波长抗反射压膜的方法，包括如下步骤A）利用化学氧化还原反应沉积金属层的方法，在含氧基底表面沉积硬掩膜，在单面抛光的基片上沉积一层金属层；B）在所述硬掩膜表面制作出周期性单排光刻胶图形层，将沉积有金属层的基片进行快速退火处理，经过退火处理的金属层形成纳米金属粒子，该纳米金属粒子在所述基片表面呈随机分布，且纳米金属粒子之间的间隔处于亚波长范围。本发明具有广角宽谱的抗反射效果；采用湿法制作金属掩模降低了生产设备成本，同时工艺方法成本低廉，制作简单，并可实现大面积的制作。
- 用于形成抗反射结构的叠层转印膜-201580004713.8
- 迈克尔·本顿·弗里;贾斯廷·P·迈尔;奥勒斯特尔·小本森;特里·O·科利尔;米奇斯瓦夫·H·马祖雷克;埃文·L·施瓦茨;马丁·B·沃尔克;摩西·M·大卫 - 3M创新有限公司
- 2015-01-09 - 2018-01-16 - G02B1/118
- 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
- 防眩防反射部件的制造方法-201710684546.7
- 佐原启一;樱井武;金井敏正;池上耕司 - 日本电气硝子株式会社
- 2013-08-28 - 2017-12-15 - G02B1/118
- 本发明提供一种防眩防反射部件的制造方法，该防眩防反射部件包括在表层具有凹凸结构的基材；和在上述凹凸结构上设置的防反射层；上述制造方法的特征在于在基材主体的表面上通过喷雾法涂覆透光性材料，由此形成具有凹凸结构的防眩层，在上述防眩层上通过使用溅射法形成防反射层。由本发明的上述制造方法制造的防眩防反射部件具有优异的视认性。
- 一种亚波长抗反射微结构器件及其表面质量无损后处理工艺方法-201710780388.5
- 尚鹏;季一勤;熊胜明;刘华松 - 天津津航技术物理研究所
- 2017-09-01 - 2017-12-08 - G02B1/118
- 本发明公开了一种亚波长抗反射结构器件及其表面质量的无损后处理工艺方法，属于亚波长抗反射光学技术领域。能够增强亚波长抗反射结构的抗反射效果，降低亚波长抗反射微结构表面微裂纹、杂质、缺陷的密度，该方法及器件是，在通过物理、化学基本清洗工艺流程基础上，进一步采用辅助真空低能离子束轰击以及小角度同质镀膜工艺，实现对亚波长抗反射结构表面质量状况的无损改善性处理。本发明的亚波长抗反射结构器件，不仅能够大幅度降低亚波长结构表面杂质吸收、表面散射等损耗，增强现有技术中亚波长抗反射结构的抗反射效果，而且降低了亚波长抗反射微结构表面微裂纹、杂质、缺陷等密度，提高微结构的环境稳定性。
- 专利分类
