[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 201310376099.0 申请日: 2013-08-26
公开(公告)号: CN103681858A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 齐藤泰伸;藤本英俊;大野哲也;吉冈启;斋藤涉;仲敏行 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 杨谦;房永峰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其特征在于,具备:

基板,具有第一面,包含导电性区域;

第1半导体区域,设置在上述基板的第1面侧,包含AlxGa1-xN,其中,0≤X≤1;

第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域的与上述基板相反一侧,包含AlYGa1-YN,其中,0≤Y≤1,X≤Y;

第1电极,设置在上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反一侧,与上述第2半导体区域欧姆连接;

控制电极,在上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反一侧上,离开上述第1电极地设置;以及

导通部,电连接上述第1电极与上述导电性区域。

2.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

进一步具备第2电极,该第2电极在上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反一侧上,离开上述第1电极以及上述控制电极地设置,并与上述第2半导体区域欧姆连接。

3.如权利要求2所述的半导体装置,其特征在于,进一步具备:

布线部,与上述第1电极、上述第2电极以及上述控制电极分别导通;以及

凸点电极,与上述布线部导通。

4.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

上述导通部具有在从上述第2半导体区域朝向上述第1半导体区域的方向上延伸的部分。

5.如权利要求4所述的半导体装置,其特征在于,

进一步具备元件分离区域,该元件分离区域在上述基板的上述第1面侧设置于上述第1半导体区域以及上述第2半导体区域的周边,

上述导通部具有沿形成于上述元件分离区域的绝缘部的侧面而设置的部分。

6.如权利要求4所述的半导体装置,其特征在于,

进一步具备元件分离区域,该元件分离区域在上述基板的上述第1面侧设置于上述第1半导体区域以及上述第2半导体区域的周边,

设置有贯通上述元件分离区域的孔。

7.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

上述导通部沿上述导电性区域、上述第1半导体区域以及上述第2半导体区域的各自的侧面而设置。

8.如权利要求3所述的半导体装置,其特征在于,

进一步具备形成有多个布线图案的基板,

上述第1电极、上述第2电极以及上述控制电极分别经由上述凸点电极与上述多个布线图案中的任一个连接。

9.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

进一步具备缓冲层,该缓冲层设置于上述第1半导体区域与上述基板之间。

10.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

上述基板包含硅层以及在上述硅层与上述导电性区域之间设置的绝缘层。

11.一种半导体装置,其特征在于,具备:

支持基板,具有第1面;

绝缘层,设置于上述支持基板的第1面侧;

导电性区域,设置于上述绝缘层的与上述支持基板相反一侧;

第1半导体区域,设置在上述导电性区域的与上述绝缘层相反一侧,包含AlxGa1-xN,其中,0≤X≤1;

第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域的与上述导电性区域相反一侧,包含AlYGa1-YN,其中,0≤Y≤1,X≤Y;

分离区域,将上述导电性区域、上述第1半导体区域以及上述第2半导体区域分离成第1区域和第2区域;

第一第1电极、第一第2电极以及第一控制电极,互相离开地设置在上述第1区域中的上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反一侧;

第二第1电极、第二第2电极以及第二控制电极,互相离开地设置在上述第2区域中的上述第2半导体区域的与上述第1半导体区域相反一侧;

连接部,电连接上述第一第1电极与上述第二第2电极;

第一导通部,电连接上述第一第1电极与上述第1区域的上述导电性区域;以及

第二导通部,电连接上述第二第1电极与上述第2区域的上述导电性区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310376099.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top