[发明专利]半导体器件拾取装置有效
申请号: | 201110347306.0 | 申请日: | 2011-10-28 |
公开(公告)号: | CN103094167A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 龚平;孙宏伟;王建新 | 申请(专利权)人: | 无锡华润安盛科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李家麟;王忠忠 |
地址: | 214028 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 拾取 装置 | ||
1.一种半导体器件拾取装置,包含:
吸气管,与一抽气装置相连;以及
吸嘴,与所述吸气管相连,
其中,所述吸嘴呈中空结构,并且所述吸嘴的壁含有多组吸气孔,通过所述吸气孔,所述吸气管和吸嘴相通,从而在所述抽气装置抽气时,所述吸气管和吸嘴中相对于外界气压形成负压,以实现对半导体器件的吸附作用并进而拾取所述半导体器件。
2.如权利要求1所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸嘴是用聚醚醚酮即PEEK材料制成的。
3.如权利要求1所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸嘴呈环形或椭圆或圆形几何形状。
4.如前述任一权利要求所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸气孔在所述吸嘴上呈均匀分布。
5.如权利要求1至3中任一权利要求所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸气孔在所述吸嘴上呈上、下、左、右对称均匀分布。
6.如权利要求4或5所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸气孔的数量在50至100之间,并且孔径大小均匀。
7.如权利要求1所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸气孔的边沿光滑。
8.如权利要求1所述的半导体器件拾取装置,其中,所述吸气管与所述吸嘴呈一定的角度。
9.如权利要求8所述的半导体器件拾取装置,其中,所述半导体器件拾取装置进一步包括调节所述角度的调节装置。
10.如权利要求1所述的半导体器件拾取装置,用于拾取半导体晶圆片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造