专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果2702280个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种静电保护器件-CN201921870091.9有效
  • 张泽飞;郭朝亮 - 上海类比半导体技术有限公司
  • 2019-11-01 - 2020-05-12 - H01L29/06
  • 本申请公开了一种静电保护器件,包括:P衬底及N掺杂埋层;相邻的第一N阱区、第一P阱区、第二N阱区、第二P阱区及第三N阱区;位于第一N阱区中的第一N重掺杂区;位于第一P阱区中的第一P重掺杂区和第二N重掺杂区;位于第二N阱区中的第二P重掺杂区、第三N重掺杂区和第三P重掺杂区;位于第二P阱区中的第四N重掺杂区和第四P重掺杂区;位于第三N阱区中的第五N重掺杂区;位于P衬底表面的第五P重掺杂区和第六P重掺杂区;第一、第三、第五N重掺杂区、第二、第三P重掺杂区相连为阳极;第一、第四、第五、第六P重掺杂区、第二、第四N重掺杂区相连为阴极。
  • 一种静电保护器件
  • [发明专利]双极晶体管的制作方法-CN201711367161.4在审
  • 不公告发明人 - 深圳市晶特智造科技有限公司
  • 2017-12-18 - 2018-06-01 - H01L21/331
  • 一种双极晶体管的制作方法包括:提供P衬底,形成N埋层及N外延层,形成贯穿所述N外延层与所述N埋层并延伸至所述P衬底中的隔离沟槽,形成贯穿所述N外延层并延伸至所述N埋层中的N阱,以及在所述隔离沟槽、所述N阱及所述N外延层上形成氧化层与贯穿所述氧化层且对应所述N外延层的开口;利用所述开口对所述N外延层做P注入,从而在所述N外延层表面形成P深结;形成设置于所述P深结及氧化层上的P接触多晶硅及位于所述P接触多晶硅上方的隔离物;对所述P深结做N离子注入,使得所述P深结形成基区以及连接所述基区的P接触区;对所述基区做热驱入,以形成连接所述P接触区的基区浅结。
  • 基区氧化层双极晶体管隔离沟槽多晶硅衬底贯穿开口表面形成隔离物延伸浅结制作
  • [发明专利]静电放电保护元件-CN201910306149.5在审
  • 陈永初;陈哲宏 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2019-04-16 - 2020-09-29 - H01L27/02
  • 本发明公开了一种静电放电保护元件,包括以下构件:第一PNP双极结晶体管包括P区、第一N阱区、第二N阱区、第一P掺杂区、第一N掺杂区、第二P掺杂区与N区。NPN双极结晶体管包括第一P阱区、第三N阱区、第二N掺杂区、第三P掺杂区与第三N掺杂区。第二PNP双极结晶体管包括第一P阱区、第三N阱区、第三P掺杂区、第三N掺杂区与第四P掺杂区。第二P掺杂区、第一N掺杂区、第三N掺杂区与第四P掺杂区耦接至高压端。第一P掺杂区、第二N掺杂区与第三P掺杂区耦接至低压端。
  • 静电放电保护元件
  • [发明专利]静电放电保护装置-CN202310115672.6在审
  • 陈科远 - 威盛电子股份有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-04-14 - H01L27/02
  • 本发明公开一种静电放电保护装置,包括P半导体基板、第一和第二N深阱区、第一至第四N掺杂区、第一至第四P掺杂区以及第一和第二P阱区。第一和第二N深阱区位于P半导体基板中;第一N和P掺杂区和第一P阱区位于第一N深阱区中;第二N和P掺杂区和第二P阱区位于第二N深阱区中;第三N和P掺杂区位于第一P阱区中;第四N和P掺杂区位于第二P阱区中;第一P和第四N掺杂区电连接输入/输出端,第一N和第二P掺杂区电连接电源供应端,第三N和第四P掺杂区电连接接地端。
  • 静电放电保护装置
  • [实用新型]新型偏瘫助行器-CN201220174791.6有效
  • 刘浩;杨曼莉;刘莉 - 刘浩;杨曼莉;刘莉
  • 2012-04-24 - 2012-10-31 - A61H3/00
  • 由两个“n管构成,“n管开口朝下,两端着地,靠身体侧为矮“n管,矮“n管外倾与地面成850,外侧为高“n管,高“n管内倾与地面成750,靠身体侧矮“n管上端两侧连于外侧高“n管的上2/3处,高矮“n管呈200;高“n管中下1/3部安装有横杆;矮“n管内侧安装有“u”形拉杆,“u”形拉杆两侧分别通过金属片连接在高“n管上。
  • 新型偏瘫助行器
  • [发明专利]高压JFET器件及工艺方法-CN201610268828.4有效
  • 段文婷 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2016-04-27 - 2019-10-11 - H01L29/808
  • 本发明公开了一种高压JFET器件,在P衬底中具有N深阱,在剖视角度上,N深阱之上为场氧,场氧两端分别为JFET的源区和漏区,场氧之上覆盖多晶硅场板;所述N深阱分为第一N深阱及第二N深阱两段,第一N深阱中包含有JFET的源区,第二N深阱中包含有JFET的漏区以及P注入层;第一N深阱和第二N深阱相互独立;在第一N深阱与第二N深阱之间具有P阱,所述P阱与两个N深阱均有重叠;在第一N深阱与第二N深阱之间同时还具有P注入层,且此P注入层位于P阱内的正下方,与第一N深阱和第二N深阱也均有重叠。
  • 高压jfet器件工艺方法
  • [实用新型]一种超低电容TVS器件结构-CN201720559086.0有效
  • 朱伟东;赵泊然 - 江苏应能微电子有限公司
  • 2017-05-19 - 2018-01-30 - H01L27/02
  • 本实用新型涉及一种超低电容TVS器件结构,包括重掺杂P衬底,在P衬底上的第一层掺杂N外延层,在第一掺杂N外延层上注入N埋层,N埋层与P衬底形成PN结,第一层掺杂N外延层上的第二层掺杂N外延层;第二层掺杂N外延层上设有层间介质层,以及处于层间介质层上方并向下沉积的金属层;第二层掺杂N外延层中设有深区N注入区,N注入区与N埋层连接导通;第二层掺杂N外延层中还设有浅区N注入区和P注入区,以及处于深区N注入区、浅区N注入区之间的隔离沟槽。
  • 一种电容tvs器件结构
  • [发明专利]厚栅高压P金属氧化物半导体管及其制备方法-CN200610098372.8无效
  • 孙伟锋;李海松;李杰;易扬波;徐申;夏晓娟;时龙兴 - 东南大学
  • 2006-12-15 - 2007-07-11 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种厚栅高压P金属氧化物半导体管及其制备方法,本发明的半导体管包括:P衬底,N埋层,N外延层,N阱和P漂移区,在P源、N接触孔、N阱、N埋层;P漂移区及P漏的上方设有氧化层,P源及N接触孔上连有金属引线,P漏上连有金属引线,N阱、P漂移区、N外延层与氧化层之间设有场氧化层,该场氧化层自P源延续至P漏,在氧化层内设有多晶硅栅且该多晶硅栅位于场氧化层的上方,在多晶硅栅上连接有金属引线其制备方法为选择P衬底,制作N埋层,N外延层,P漂移区和N阱,P阱,场氧化层,然后多晶硅栅的生长、刻蚀,源、漏区,引线孔,铝引线的制备及钝化处理。
  • 高压金属氧化物半导体及其制备方法
  • [发明专利]一种调节JFET夹断电压的结构及制作方法-CN202010057745.7有效
  • 房子荃;段文婷 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-01-19 - 2023-08-18 - H01L29/06
  • 本发明提供一种调节JFET夹断电压的结构及制作方法,P衬底,位于P衬底上的N深阱;位于N深阱中的P注入区,该P注入区将N深阱隔离为位于P注入区下方的第一N深阱和位于P注入区上方的第二N深阱;位于第二N深阱上的第一、第二场氧区,该两个场氧区之间设有P重掺杂区,P重掺杂区下方设有N阱。本发明通过调节待夹断区域N注入来实现夹断电压调节。P注入区将N深阱分为上下两部分,P注入区通过P阱从表面引出接地;栅极端注入N阱,利用P重掺杂区和P注入区夹断上部分N阱和N深阱,通过调节N阱注入宽度可调节JFET夹断电压,实现了JFET夹断电压可调的目的
  • 一种调节jfet断电结构制作方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top