专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电容器制作方法-CN200910056280.7有效
  • 罗飞;邹立 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2009-08-11 - 2011-03-30 - H01L21/02
  • 一种电容器制作方法,包括:提供层间介质层以及贯穿所述层间介质层的互连结构;在所述层间介质层上依次沉积刻蚀阻挡层,第一绝缘层;对所述的第一绝缘层表面进行离子注入,形成掺杂的中间绝缘层;在掺杂的中间绝缘层上形成第二绝缘层;依次刻蚀所述第二绝缘层,掺杂的中间绝缘层,第一绝缘层形成沟槽;刻蚀所述沟槽,使沟槽宽度增加,并使沟槽底部宽度接近沟槽顶部的宽度;去除所述刻蚀阻挡层;在所述沟槽内壁依次沉积掺杂多晶层和掺杂多晶层;进行高温退火;在所述沟槽内壁形成位于掺杂多晶层上的半球状多晶颗粒;依次沉积介电层,上电极。
  • 电容器制作方法
  • [发明专利]异质结太阳电池的制备方法-CN202211590881.8在审
  • 宿世超;王伟;田宏波;李世岚;宫元波 - 国家电投集团新能源科技有限公司
  • 2022-12-12 - 2023-07-04 - H01L31/20
  • 本发明提出一种基异质结太阳电池的制备方法,该方法包括:对硅片进行制绒处理,并将完成制绒处理的硅片置于硝酸溶液中进行氧化;将完成氧化的硅片置于氢氟酸和硝酸的混合液中,以对硅片背面的金字塔陷光结构进行抛光;抛光完成后,在硅片正面依次沉积本征层和掺杂的n型层,并在硅片背面依次沉积本征层和硼掺杂的p型层;在硅片的正背面均沉积一层透明导电薄膜,并在硅片背面的透明导电薄膜的表面沉积一层导电金属层本发明提出的基异质结太阳电池的制备方法,能够降低传统异质结太阳电池的制作成本,同时提高其发电转化效率。
  • 硅异质结太阳电池制备方法
  • [发明专利]一种掺杂增强纳米晶发光强度的方法-CN202210453892.5有效
  • 罗英;陈家荣 - 贵州民族大学
  • 2022-04-24 - 2023-06-30 - C09K11/59
  • 本发明提出了一种掺杂增强纳米晶发光强度的方法,将量子点滴涂在衬底上,通过真空干燥除去溶液中的溶剂,通过热蒸发方法将SiO、Si交替沉积到含有的衬底上,将制备好的含SiO/Si多层薄膜放入退火炉中,在惰性气氛下退火,生成镶嵌在SiO2基质中的掺杂纳米晶薄膜。本发明通过在纳米晶中引入原子,钝化界面悬挂键,减少辐射复合中心,增强了纳米晶的发光强度;掺杂的纳米晶发光强度相比纯纳米晶提升了近一个数量级,在光电子器件方面具有很大的潜在应用价值;同时由于用热蒸发制备掺杂薄膜工艺简单且沉积薄膜质量相对较好,稳定性强,因而制备得到的掺杂纳米晶薄膜有望应用于电子器件领域。
  • 一种掺杂增强纳米发光强度方法
  • [发明专利]一种去除正面多晶绕镀的方法-CN202010163577.X有效
  • 陈嘉;展士飞;陈程;邱军辉;陆佳;刘志锋;林建伟 - 泰州中来光电科技有限公司
  • 2020-03-10 - 2021-08-20 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种去除正面多晶绕镀的方法。包括:(1)、对硅片正面进行硼扩散,形成p+发射极、正面硼玻璃层;(2)、刻蚀硅片背面,将背面刻蚀成平面,去除背面和四周硼掺杂层、硼玻璃层,去除正面硼玻璃层;(3)、在硅片背面生长隧穿氧化层和本征层,在硅片正面边缘区域形成正面绕镀多晶层;(4)、在本征层上离子注入,形成磷硅玻璃层,并退火,形成掺多晶层;(5)、在掺多晶层上镀氮化硅层;(6)将硅片置于碱与单晶添加剂的混合溶液中,去除正面绕镀多晶层本发明可以很好地控制碱绕镀溶液中碱液和绕镀多晶的反应速率,增加反应窗口。
  • 一种去除正面多晶硅绕镀方法

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