专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氢化薄膜太阳电池及制备方法-CN200710020383.9有效
  • 班群 - 江苏林洋新能源有限公司
  • 2007-02-12 - 2007-08-15 - H01L31/075
  • 本发明公开了一种氢化薄膜太阳电池及制备方法,产品包括在铟锡氧化物透明导电膜玻璃上设有第一层Ag/Cr电极,在铟锡氧化物透明导电膜玻璃上依次设置掺硼的p型氢化薄膜、本征的i型氢化薄膜、掺的n型氢化薄膜,第一层Ag/Cr电极穿过掺硼的p型氢化薄膜层,并伸入本征的i型氢化薄膜中,在掺的n型氢化薄膜上设置SnO2透明导电薄膜层,在SnO本发明在廉价的衬底上制备pin结构微晶薄膜太阳电池,稳定后的器件转换效率衰减不超过初始效率的10%,有效提高了氢化薄膜太阳电池的使用稳定性。
  • 氢化非晶硅薄膜太阳电池制备方法
  • [发明专利]太阳能电池的选择性掺杂方法-CN201510291019.0有效
  • 申红明;王强;邓洪海 - 南通大学
  • 2013-04-01 - 2017-01-18 - H01L31/20
  • 本发明涉及一种太阳能电池的选择性掺杂方法,步骤如下在硅片上表面淀积磷硅玻璃;将淀积后的硅片进行高温扩散,使元素扩散入硅片,形成PN结;除去硅片上表面顶电极区以外的磷硅玻璃;在硅片上表面淀积本征层;将硅片置于无氧环境中进行高温扩散,使硅片顶电极区的元素扩散入层,顶电极区磷硅玻璃中的元素进一步向顶电极区扩散;去除硅片表面的层和磷硅玻璃,完成太阳能电池的逆扩散选择性掺杂。本发明采用逆扩散的方法,通过吸收顶电极区的杂质,使顶电极区的掺杂浓度降低,同时顶电极区进行了二次掺杂,导致顶电极区与顶电极区的掺杂浓度差进一步增大,提高了选择性掺杂的效果。
  • 太阳能电池选择性掺杂方法
  • [发明专利]一种太阳能电池的选择性掺杂方法-CN201510395554.0有效
  • 邓洁 - 南通大学
  • 2013-04-01 - 2015-12-16 - H01L31/18
  • 本发明涉及一种太阳能电池的选择性掺杂方法,步骤如下:在硅片上表面淀积磷硅玻璃;将淀积后的硅片进行高温扩散,使元素扩散入硅片,形成PN结;除去硅片上表面顶电极区以外的磷硅玻璃;在硅片上表面淀积本征层;将硅片置于无氧环境中进行高温扩散,使硅片顶电极区的元素扩散入层,顶电极区磷硅玻璃中的元素进一步向顶电极区扩散;去除硅片表面的层和磷硅玻璃,完成太阳能电池的逆扩散选择性掺杂。本发明采用逆扩散的方法,通过吸收顶电极区的杂质,使顶电极区的掺杂浓度降低,同时顶电极区进行了二次掺杂,导致顶电极区与顶电极区的掺杂浓度差进一步增大,提高了选择性掺杂的效果。
  • 一种太阳能电池选择性掺杂方法
  • [发明专利]一种太阳能电池的选择性掺杂方法-CN201310111615.7无效
  • 王强;花国然;朱海峰;姚滢;邓洁 - 南通大学
  • 2013-04-01 - 2013-06-19 - H01L31/20
  • 本发明涉及一种太阳能电池的选择性掺杂方法,步骤如下:在硅片上表面淀积磷硅玻璃;将淀积后的硅片进行高温扩散,使元素扩散入硅片,形成PN结;除去硅片上表面顶电极区以外的磷硅玻璃;在硅片上表面淀积本征层;将硅片置于无氧环境中进行高温扩散,使硅片顶电极区的元素扩散入层,顶电极区磷硅玻璃中的元素进一步向顶电极区扩散;去除硅片表面的层和磷硅玻璃,完成太阳能电池的逆扩散选择性掺杂。本发明采用逆扩散的方法,通过吸收顶电极区的杂质,使顶电极区的掺杂浓度降低,同时顶电极区进行了二次掺杂,导致顶电极区与顶电极区的掺杂浓度差进一步增大,提高了选择性掺杂的效果。
  • 一种太阳能电池选择性掺杂方法
  • [发明专利]一种PECVD法沉积的控制爆膜的方法-CN202111508441.9在审
  • 何秋霞;朱军;谈锦彪;马擎天 - 环晟光伏(江苏)有限公司
  • 2021-12-10 - 2022-03-25 - H01L31/20
  • 本发明提供一种PECVD法沉积的控制爆膜的方法,包括:对N型晶体基体的背表面进行抛光处理,形成抛光面;在所述抛光面上沉积氧化硅遂穿层;在所述氧化硅遂穿层表面采用PECVD法沉积层,在PECVD装置通入硅烷,并控制所述硅烷水平掠过所述氧化硅遂穿层,沉积所述层;在沉积所述层的过程中,同时对所述层进行掺杂;对掺杂过后的所述N型晶体基体进行退火,激发所述层内部的原子,形成多晶层本发明的有益效果是改变工艺气体在硅片的流动方向和工艺过程中升高温度的方法,杜绝了沉积Poly的爆膜现象,同时提升了均匀性,片内偏差由原先的12%减小到5%以内。
  • 一种pecvd沉积非晶硅控制方法
  • [发明专利]基异质结太阳电池的制备方法-CN202211590882.2在审
  • 宿世超;王伟;田宏波;李世岚;宫元波 - 国家电投集团新能源科技有限公司
  • 2022-12-12 - 2023-04-07 - H01L31/20
  • 本发明提出一种基异质结太阳电池的制备方法,所述制备方法包括:将硅片进行制绒处理;将制绒好的硅片置于扩散炉内进行扩散吸杂,以形成扩散掺杂N+扩散层;将硅片背面的磷硅玻璃层去除;将背面去除磷硅玻璃层的硅片进行抛光,并去除硅片正面的磷硅玻璃层,裸露出N+扩散层;对硅片进行清洗,在硅片正面依次沉积本征层和掺杂的n型层,硅片背面依次沉积本征层和硼掺杂的p型层;在硅片正背面各沉积一层透明导电层本发明提出的基异质结太阳电池的制备方法,能够解决传统异质结太阳电池的制备工艺中存在的发电效率较低的问题。
  • 硅基异质结太阳电池制备方法
  • [实用新型]一种用于制造薄膜的激光装置-CN201320466068.X有效
  • 范芳芳 - 国电光伏有限公司
  • 2013-08-01 - 2014-01-29 - H01L31/20
  • 本实用新型提供了一种用于制造薄膜的激光装置,包括激光系统、反应腔室、样品加热器、抽真空系统和进气系统。激光系统设有激光脉冲控制器,通过调节激光脉冲个数,控制薄膜中或硼的掺杂程度。样品加热器主要对薄膜进行加热,以提高掺杂效率。抽真空系统设有真空泵,通过真空泵对腔室抽真空;进气系统设有气体流量计及截止阀,以此控制反应气体进入的量。用激光对薄膜进行或硼的掺杂,反应速度快,杂质激活率高,均匀性好,能制备光电性能较好的N型/P型薄膜。
  • 一种用于制造非晶硅薄膜激光装置

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